Die Sputterbeschichtung wird im REM eingesetzt, um die Abbildungsmöglichkeiten des Mikroskops zu verbessern, indem die elektrische Leitfähigkeit der Probe erhöht, die Beschädigung durch den Strahl verringert und die Bildqualität erhöht wird. Dies ist besonders wichtig für nicht leitende oder schlecht leitende Proben.
Zusammenfassung der Antwort:
Die Sputterbeschichtung ist für die REM unerlässlich, um die elektrische Leitfähigkeit der Proben zu verbessern, was für die Erzielung qualitativ hochwertiger Bilder entscheidend ist. Sie trägt zur Verringerung der Strahlenschäden und der Probenaufladung bei und verbessert die Emission von Sekundärelektronen, wodurch sich die Bildauflösung und -qualität insgesamt verbessert.
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Ausführliche Erläuterung:
- Verbesserung der elektrischen Leitfähigkeit:
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Der Hauptgrund für den Einsatz der Sputterbeschichtung im REM ist die Erhöhung der elektrischen Leitfähigkeit der Probe. Viele Proben, insbesondere biologische und nichtmetallische Materialien, sind schlechte Stromleiter. In einem REM interagiert der Elektronenstrahl mit der Probe, und wenn die Probe nicht leitfähig ist, kann sie Ladungen ansammeln, was zu Bildverzerrungen oder sogar zur Beschädigung der Probe führt. Die Sputterbeschichtung mit Metallen wie Gold oder Platin bildet eine leitfähige Schicht, die die Ansammlung von Ladungen verhindert und eine effektive Wechselwirkung des Elektronenstrahls mit der Probe ermöglicht.
- Reduzierung von Strahlschäden:
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Der hochenergetische Elektronenstrahl im REM kann empfindliche Proben, insbesondere organische Materialien, beschädigen. Eine dünne Metallbeschichtung kann als Puffer fungieren, der einen Teil der Energie des Elektronenstrahls absorbiert und die direkte Einwirkung auf die Probe verringert. Dadurch wird die Unversehrtheit der Probe bewahrt und es werden klarere Bilder bei mehreren Scans erzielt.
- Verstärkung der Sekundärelektronenemission:
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Sekundärelektronen sind für die Bildgebung im REM von entscheidender Bedeutung, da sie für den Kontrast im Bild sorgen. Die Sputterbeschichtung verbessert die Emission von Sekundärelektronen, indem sie eine leitende Oberfläche bereitstellt, die den Emissionsprozess erleichtert. Dies führt zu einem höheren Signal-Rausch-Verhältnis, das für die Gewinnung hochauflösender Bilder unerlässlich ist.
- Verbesserte Kantenauflösung:
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Die Sputterbeschichtung verringert auch das Eindringen des Elektronenstrahls in die Probe, was besonders für die Verbesserung der Kantenauflösung in den Bildern von Vorteil ist. Dies ist entscheidend für die detaillierte Analyse von Probenoberflächen und -strukturen.
- Schutz von strahlungsempfindlichen Proben:
Bei sehr empfindlichen Proben verbessert die Metallbeschichtung nicht nur die Leitfähigkeit, sondern bildet auch eine Schutzschicht, die die Probe vor dem direkten Auftreffen des Elektronenstrahls abschirmt und so Schäden verhindert.Schlussfolgerung:
