Wissen Warum verwenden wir Sputterbeschichter für SEM? 5 Hauptvorteile
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Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 2 Monaten

Warum verwenden wir Sputterbeschichter für SEM? 5 Hauptvorteile

Die Sputterbeschichtung wird im REM eingesetzt, um die Abbildungsmöglichkeiten des Mikroskops zu verbessern.

Sie verbessert die elektrische Leitfähigkeit der Probe.

Dadurch wird die Beschädigung durch den Strahl verringert und die Qualität des Bildes erhöht.

Dies ist besonders wichtig für nicht leitende oder schlecht leitende Proben.

Warum verwenden wir Sputter Coater für SEM? 5 Hauptvorteile

Warum verwenden wir Sputterbeschichter für SEM? 5 Hauptvorteile

1. Verbesserung der elektrischen Leitfähigkeit

Der Hauptgrund für den Einsatz der Sputterbeschichtung im REM ist die Verbesserung der elektrischen Leitfähigkeit der Probe.

Viele Proben, insbesondere biologische und nichtmetallische Materialien, sind schlechte Stromleiter.

In einem SEM interagiert der Elektronenstrahl mit der Probe.

Wenn die Probe nicht leitfähig ist, kann sie Ladungen ansammeln, was zu Bildverzerrungen oder sogar zur Beschädigung der Probe führen kann.

Die Sputterbeschichtung mit Metallen wie Gold oder Platin bildet eine leitfähige Schicht, die die Ansammlung von Ladungen verhindert.

Sie ermöglicht dem Elektronenstrahl eine effektive Wechselwirkung mit der Probe.

2. Verringerung der Strahlbeschädigung

Der hochenergetische Elektronenstrahl im REM kann empfindliche Proben, insbesondere organische Materialien, beschädigen.

Eine dünne Metallbeschichtung kann als Puffer dienen und einen Teil der Energie des Elektronenstrahls absorbieren.

Dadurch wird die direkte Einwirkung auf die Probe verringert.

Sie hilft, die Unversehrtheit der Probe zu bewahren und über mehrere Scans hinweg klarere Bilder zu erhalten.

3. Verstärkung der Sekundärelektronenemission

Sekundärelektronen sind für die Bildgebung im REM von entscheidender Bedeutung, da sie für den Kontrast im Bild sorgen.

Die Sputterbeschichtung verbessert die Emission von Sekundärelektronen, indem sie eine leitende Oberfläche bereitstellt, die den Emissionsprozess erleichtert.

Dies führt zu einem höheren Signal-Rausch-Verhältnis, das für die Gewinnung hochauflösender Bilder unerlässlich ist.

4. Verbesserung der Kantenauflösung

Die Sputterbeschichtung verringert auch das Eindringen des Elektronenstrahls in die Probe.

Dies ist besonders vorteilhaft für die Verbesserung der Kantenauflösung in den Bildern.

Dies ist entscheidend für die detaillierte Analyse von Probenoberflächen und -strukturen.

5. Schutz von strahlungsempfindlichen Proben

Bei sehr empfindlichen Proben verbessert die Metallbeschichtung nicht nur die Leitfähigkeit, sondern bildet auch eine Schutzschicht.

Diese schirmt die Probe vor dem direkten Auftreffen des Elektronenstrahls ab und verhindert so Schäden.

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