Labormaterialien
Hochreines Wolfram (W)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-W
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Chemische Formel
- IN
- Reinheit
- 3N5
- Form
- Scheiben / Draht / Block / Pulver / Platten / Säulentargets / Stufentargets / Sonderanfertigungen
Versand:
Kontaktieren Sie uns um Versanddetails zu erhalten. Genießen Sie Garantie für pünktliche Lieferung.
Fordern Sie Ihr individuelles Angebot an 👋
Holen Sie sich jetzt Ihr Angebot! Eine Nachricht hinterlassen Schnell Angebot einholen Via Online-ChatWir bieten Wolfram (W)-Materialien zu angemessenen Preisen an. Unser Fachwissen liegt in der Herstellung und maßgeschneiderten Herstellung von Wolfram (W)-Materialien verschiedener Reinheiten, Formen und Größen, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden.
Wir bieten eine vielfältige Auswahl an Sputtertargets, einschließlich kreisförmiger, quadratischer, röhrenförmiger und unregelmäßiger Formen. Darüber hinaus bieten wir auch Beschichtungsmaterialien, Zylinder, Kegel, Partikel, Folien, Pulver, 3D-Druckpulver, Nanometerpulver, Walzdrähte, Barren und Blöcke in verschiedenen Spezifikationen und Größen an.
Einzelheiten
Über Wolfram (W)
Wolfram wird seit langem kommerziell genutzt, von Glühbirnenfäden bis hin zu frühen Fernsehröhren. Seine einzigartige Eigenschaft, sich mit einer ähnlichen Geschwindigkeit wie Borosilikatglas auszudehnen, macht es für Metall-Glas-Dichtungen geeignet. Wolfram ist auch ein wesentlicher Bestandteil in Elektroöfen, Luft- und Raumfahrtsystemen und Motorteilen, wo hohe Druck-/Temperaturumgebungen zu erwarten sind. Darüber hinaus wird Wolframcarbid bei der Herstellung von Industriemaschinen, Schneidwerkzeugen, Schleifmitteln und Schmuck verwendet.
Wolfram ist in verschiedenen Formen und Reinheiten erhältlich, die von 99 % bis 99,999 % reichen (ACS-Qualität bis ultrahohe Reinheit). Zu den elementaren oder metallischen Formen gehören Pellets, Stäbe, Drähte und Granulat zur Verwendung als Verdunstungsquellenmaterialien. Wolfram-Nanopartikel und Nanopulver bieten eine extrem große Oberfläche. Wolframoxide sind in Pulver- und dichten Pelletform für den Einsatz in optischen Beschichtungen und Dünnschichtanwendungen erhältlich, neigen jedoch dazu, unlöslich zu sein. Wolframfluoride sind eine weitere unlösliche Form, die für die Metallurgie, die chemische und physikalische Gasphasenabscheidung und einige optische Beschichtungen nützlich ist. Wolfram ist auch in löslicher Form erhältlich, einschließlich Chloriden, die als Lösungen mit bestimmten Stöchiometrien hergestellt werden können.
Für spezielle Anwendungen, die einen extrem hohen Reinheitsgrad erfordern, ist hochreines (99,999 %) Wolframoxidpulver (WO2) erhältlich. Dieses Spezialmaterial kann in einer Reihe von Anwendungen eingesetzt werden, darunter Forschung und Entwicklung, Halbleiter und andere High-Tech-Industrien.
Qualitätskontrolle der Inhaltsstoffe
- Analyse der Rohstoffzusammensetzung
- Durch den Einsatz von Geräten wie ICP und GDMS wird der Gehalt an Metallverunreinigungen erfasst und analysiert, um sicherzustellen, dass er dem Reinheitsstandard entspricht;
Nichtmetallische Verunreinigungen werden mit Geräten wie Kohlenstoff- und Schwefelanalysatoren sowie Stickstoff- und Sauerstoffanalysatoren erkannt. - Metallografische Fehlererkennungsanalyse
- Das Zielmaterial wird mithilfe von Fehlererkennungsgeräten überprüft, um sicherzustellen, dass im Produkt keine Mängel oder Schrumpfungslöcher vorhanden sind.
Durch metallografische Tests wird die innere Kornstruktur des Zielmaterials analysiert, um sicherzustellen, dass die Körner fein und dicht sind. - Aussehens- und Maßprüfung
- Die Produktabmessungen werden mithilfe von Mikrometern und Präzisionsmessschiebern gemessen, um die Übereinstimmung mit den Zeichnungen sicherzustellen.
Die Oberflächenbeschaffenheit und Sauberkeit des Produkts werden mit einem Oberflächenreinheitsmessgerät gemessen.
Konventionelle Sputtertargetgrößen
- Vorbereitungsprozess
- heißisostatisches Pressen, Vakuumschmelzen usw.
- Sputtertargetform
- flaches Sputtertarget, Multi-Arc-Sputtertarget, Stufen-Sputtertarget, speziell geformtes Sputtertarget
- Runde Sputtertargetgröße
- Durchmesser: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Dicke: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Größe kann individuell angepasst werden. - Quadratische Sputtertargetgröße
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, Größe kann individuell angepasst werden
Verfügbare Metallformen
Details zu Metallformen
Wir stellen fast alle im Periodensystem aufgeführten Metalle in den unterschiedlichsten Formen und Reinheiten sowie in Standardgrößen und -abmessungen her. Wir können auch maßgeschneiderte Produkte herstellen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen, wie z. B. Größe, Form, Oberfläche, Zusammensetzung und mehr. Die folgende Liste stellt eine Auswahl der von uns angebotenen Formulare dar, erhebt jedoch keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Wenn Sie Laborverbrauchsmaterialien benötigen, wenden Sie sich bitte direkt an uns, um ein Angebot anzufordern.
- Flache/planare Formen: Karton, Film, Folie, Mikrofolie, Mikroblatt, Papier, Platte, Band, Bogen, Streifen, Band, Wafer
- Vorgeformte Formen: Anoden, Kugeln, Bänder, Stäbe, Boote, Bolzen, Briketts, Kathoden, Kreise, Spulen, Tiegel, Kristalle, Würfel, Tassen, Zylinder, Scheiben, Elektroden, Fasern, Filamente, Flansche, Gitter, Linsen, Dorne, Muttern , Teile, Prismen, Pucks, Ringe, Stäbe, Formen, Schilde, Hülsen, Federn, Quadrate, Sputtertargets, Stäbe, Rohre, Unterlegscheiben, Fenster, Drähte
- Mikrogrößen: Perlen, Bits, Kapseln, Chips, Münzen, Staub, Flocken, Körner, Granulat, Mikropulver, Nadeln, Partikel, Kieselsteine, Pellets, Stifte, Pillen, Pulver, Späne, Schrot, Schnecken, Kugeln, Tabletten
- Makrogrößen: Knüppel, Brocken, Stecklinge, Fragmente, Barren, Klumpen, Nuggets, Stücke, Stanzteile, Steine, Reste, Segmente, Drehspäne
- Porös und halbporös: Stoff, Schaum, Gaze, Wabe, Netz, Schwamm, Wolle
- Nanoskalig: Nanopartikel, Nanopulver, Nanofolien, Nanoröhren, Nanostäbe, Nanoprismen
- Andere: Konzentrat, Tinte, Paste, Niederschlag, Rückstände, Proben, Proben
KinTek ist auf die Herstellung hochreiner und ultrahochreiner Materialien mit einem Reinheitsbereich von 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) und in einigen Fällen bis zu 99,99999 % (7N) spezialisiert ). Unsere Materialien sind in bestimmten Qualitäten erhältlich, darunter UP/UHP-, Halbleiter-, Elektronik-, Abscheidungs-, Glasfaser- und MBE-Qualitäten. Unsere hochreinen Metalle, Oxide und Verbindungen werden speziell für die hohen Anforderungen hochtechnologischer Anwendungen hergestellt und eignen sich ideal für den Einsatz als Dotierstoffe und Vorläufermaterialien für die Dünnschichtabscheidung, das Kristallwachstum von Halbleitern und die Synthese von Nanomaterialien. Diese Materialien finden Verwendung in der fortschrittlichen Mikroelektronik, Solarzellen, Brennstoffzellen, optischen Materialien und anderen hochmodernen Anwendungen.
Verpackung
Wir verwenden Vakuumverpackungen für unsere hochreinen Materialien und jedes Material verfügt über eine spezifische Verpackung, die auf seine einzigartigen Eigenschaften zugeschnitten ist. Beispielsweise ist unser HF-Sputtertarget extern markiert und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu ermöglichen. Wir legen großen Wert darauf, Schäden zu vermeiden, die bei der Lagerung oder dem Transport entstehen könnten.
FAQ
Was Sind Wolframboote?
Welche Vorteile Bietet Die Verwendung Von Wolframbooten?
Was Sind Hochreine Materialien?
Was Sind Hochreine Metalle?
Wofür Werden Hochreine Metalle Verwendet?
4.8
out of
5
Excellent product! The Tungsten (W) Sputtering Target is of top-notch quality and has exceeded my expectations. I highly recommend this product to anyone in need of high-purity tungsten.
4.9
out of
5
I'm very impressed with the Tungsten (W) Powder. It's incredibly pure and consistent, making it perfect for my research purposes. The delivery was also very fast, which was a huge plus.
4.7
out of
5
The Tungsten (W) Wire is exactly what I needed for my project. It's strong, durable, and has a very high melting point. I'm very satisfied with my purchase.
4.8
out of
5
The Tungsten (W) Block is a great value for the price. It's very dense and has a very fine grain structure. I'm using it for a variety of applications and it's performing flawlessly.
4.9
out of
5
I'm extremely happy with the Tungsten (W) Granule. It's very pure and has a very narrow particle size distribution. It's perfect for my sintering experiments.
4.7
out of
5
The Tungsten (W) Sputtering Target is a great choice for high-precision coating applications. It has a very long lifespan and produces very uniform coatings.
4.8
out of
5
I'm very impressed with the quality of the Tungsten (W) Powder. It's very pure and has a very fine particle size. It's perfect for my additive manufacturing applications.
4.9
out of
5
The Tungsten (W) Wire is an excellent conductor. It has a very low resistivity and is very ductile. It's perfect for my electrical applications.
4.7
out of
5
The Tungsten (W) Block is a great choice for high-temperature applications. It has a very high melting point and is very resistant to thermal shock.
4.8
out of
5
The Tungsten (W) Granule is perfect for my casting applications. It has a very uniform particle size and is very easy to work with.
4.9
out of
5
I'm very happy with the Tungsten (W) Sputtering Target. It's very durable and produces very consistent coatings.
4.7
out of
5
The Tungsten (W) Powder is a great choice for my sintering applications. It has a very high purity and is very easy to sinter.
4.8
out of
5
The Tungsten (W) Wire is an excellent choice for my electrical applications. It has a very low resistivity and is very easy to solder.
4.9
out of
5
The Tungsten (W) Block is a great choice for my high-temperature applications. It has a very high melting point and is very resistant to thermal shock.
4.7
out of
5
The Tungsten (W) Granule is perfect for my casting applications. It has a very uniform particle size and is very easy to work with.
4.8
out of
5
I'm very happy with the Tungsten (W) Sputtering Target. It's very durable and produces very consistent coatings.
4.9
out of
5
The Tungsten (W) Powder is a great choice for my sintering applications. It has a very high purity and is very easy to sinter.
4.7
out of
5
The Tungsten (W) Wire is an excellent choice for my electrical applications. It has a very low resistivity and is very easy to solder.
4.8
out of
5
The Tungsten (W) Block is a great choice for my high-temperature applications. It has a very high melting point and is very resistant to thermal shock.
4.9
out of
5
The Tungsten (W) Granule is perfect for my casting applications. It has a very uniform particle size and is very easy to work with.
PDF - Hochreines Wolfram (W)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Labormaterialien
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Hochreine Materialien
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Reine Metalle
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Wolframboot
disabled = false, 3000)"> HerunterladenFordern Sie ein Angebot an
Unser professionelles Team wird Ihnen innerhalb eines Werktages antworten. Sie können uns gerne kontaktieren!
Ähnliche Produkte
Hochreines Wolframoxid (WO3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Wolframoxid (WO3)-Materialien? Unsere Produkte in Laborqualität sind auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten und stehen in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen zur Verfügung. Kaufen Sie Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien und mehr.
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Wolframcarbid (WC).
Suchen Sie nach erschwinglichen Wolframcarbid (WC)-Materialien für Ihr Labor? Unsere fachmännisch maßgeschneiderten Produkte gibt es in verschiedenen Formen und Größen, von Sputtertargets bis hin zu Nanopulvern. Kaufen Sie jetzt hochwertige Materialien, die Ihren individuellen Anforderungen entsprechen.
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Wolfram-Titan-Legierung (WTi).
Entdecken Sie unsere Materialien aus Wolfram-Titan-Legierung (WTi) für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Unser Fachwissen ermöglicht es uns, maßgeschneiderte Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe herzustellen. Wählen Sie aus einer breiten Palette an Sputtertargets, Pulvern und mehr.
Wolframsulfid (WS2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach Wolframsulfid (WS2)-Materialien für Ihr Labor? Wir bieten eine Reihe anpassbarer Optionen zu günstigen Preisen, darunter Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr. Jetzt bestellen!
Hochreines Hafnium (Hf)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Erhalten Sie hochwertige Hafnium (Hf)-Materialien, die auf Ihre Laboranforderungen zugeschnitten sind, zu angemessenen Preisen. Finden Sie verschiedene Formen und Größen für Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr. Jetzt bestellen.
Tantal-Wolfram-Legierung (TaW) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Materialien aus Tantal-Wolfram-Legierung (TaW)? Wir bieten eine breite Palette anpassbarer Optionen zu wettbewerbsfähigen Preisen für den Laborgebrauch, darunter Sputtertargets, Beschichtungen, Pulver und mehr.
Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtungs-Wolframtiegel / Molybdäntiegel
Tiegel aus Wolfram und Molybdän werden aufgrund ihrer hervorragenden thermischen und mechanischen Eigenschaften häufig in Elektronenstrahlverdampfungsprozessen eingesetzt.
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Titan (Ti).
Kaufen Sie hochwertige Titan (Ti)-Materialien zu günstigen Preisen für den Laborgebrauch. Finden Sie eine große Auswahl an maßgeschneiderten Produkten, die Ihren individuellen Anforderungen gerecht werden, darunter Sputtertargets, Beschichtungen, Pulver und mehr.
Hochreines Tantal (Ta)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Entdecken Sie unsere hochwertigen Tantal (Ta)-Materialien für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Wir passen uns Ihren spezifischen Anforderungen mit verschiedenen Formen, Größen und Reinheiten an. Entdecken Sie unser Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.
Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung / Vergoldung / Wolframtiegel / Molybdäntiegel
Diese Tiegel fungieren als Behälter für das durch den Elektronenverdampfungsstrahl verdampfte Goldmaterial und richten den Elektronenstrahl gleichzeitig präzise aus, um eine präzise Abscheidung zu ermöglichen.
Hochreines Titandioxid (TiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Titandioxid-Materialien? Unsere maßgeschneiderten Produkte erfüllen die individuellen Anforderungen jedes Labors. Stöbern Sie noch heute in unserem Angebot an Formen, Größen und Reinheiten.
Hochreines Vanadium (V)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Vanadium (V)-Materialien für Ihr Labor? Wir bieten eine breite Palette anpassbarer Optionen an, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden, darunter Sputtertargets, Pulver und mehr. Kontaktieren Sie uns noch heute für wettbewerbsfähige Preise.
Erfahren Sie mehr über Wolframschiffchen, auch bekannt als verdampfte oder beschichtete Wolframschiffchen. Mit einem hohen Wolframgehalt von 99,95 % sind diese Boote ideal für Umgebungen mit hohen Temperaturen und werden in verschiedenen Branchen häufig eingesetzt. Entdecken Sie hier ihre Eigenschaften und Anwendungen.
Hochreines Tellur (Te)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Entdecken Sie unser Sortiment an hochwertigen Tellur (Te)-Materialien für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Unser Expertenteam stellt maßgeschneiderte Größen und Reinheiten her, die Ihren individuellen Anforderungen entsprechen. Kaufen Sie Sputtertargets, Pulver, Barren und mehr.
Thermisch verdampfter Wolframdraht
Es verfügt über einen hohen Schmelzpunkt, thermische und elektrische Leitfähigkeit sowie Korrosionsbeständigkeit. Es ist ein wertvolles Material für Hochtemperatur-, Vakuum- und andere Industrien.
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titankarbid (TiC).
Erhalten Sie hochwertige Titancarbid (TiC)-Materialien zu erschwinglichen Preisen für Ihr Labor. Wir bieten eine große Auswahl an Formen und Größen, darunter Sputtertargets, Pulver und mehr. Auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten.
Kleiner Vakuum-Wolframdraht-Sinterofen
Der kleine Vakuum-Wolframdraht-Sinterofen ist ein kompakter experimenteller Vakuumofen, der speziell für Universitäten und wissenschaftliche Forschungsinstitute entwickelt wurde. Der Ofen verfügt über einen CNC-geschweißten Mantel und Vakuumleitungen, um einen leckagefreien Betrieb zu gewährleisten. Elektrische Schnellanschlüsse erleichtern den Standortwechsel und die Fehlerbehebung, und der standardmäßige elektrische Schaltschrank ist sicher und bequem zu bedienen.
Hochreines Tantaloxid (Ta2O5) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Finden Sie hochwertige Tantaloxid-Materialien (Ta2O5) für Ihren Laborbedarf zu erschwinglichen Preisen. Unsere Experten können Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe an Ihre spezifischen Anforderungen anpassen. Schauen Sie sich unser Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr an.
Erleben Sie den ultimativen Ofen für feuerfestes Metall mit unserem Wolfram-Vakuumofen. Kann 2200℃ erreichen und eignet sich perfekt zum Sintern von Hochleistungskeramik und hochschmelzenden Metallen. Bestellen Sie jetzt für hochwertige Ergebnisse.
Ähnliche Artikel
Erkundung der Vorteile der Verwendung von Wolfram für die Ofenheizung
Wolfram verfügt über eine Reihe von Eigenschaften, die es für den Einsatz in Hochtemperaturöfen gut geeignet machen.
Erforschung der Möglichkeiten und Anwendungen des isostatischen Warmpressens (WIP)
Tauchen Sie ein in den umfassenden Leitfaden zum Warmisostatischen Pressen (WIP), seiner Technologie, seinen Anwendungen und seinen Vorteilen bei der Materialverarbeitung. Entdecken Sie, wie WIP die Materialeigenschaften verbessert und welche Rolle es in der modernen Fertigung spielt.
Warmisostatisches Pressen für hochdichte und fehlerarme Materialien
Warmisostatisches Pressen (WIP) ist eine Hochdrucktechnik, die zur Erhöhung der Dichte und zur Reduzierung von Materialfehlern eingesetzt wird. Dabei wird ein Material einem hohen Druck und einer hohen Temperatur ausgesetzt und gleichzeitig ein Inertgas zugeführt, das das Material gleichmäßig komprimiert.
So wird die Probenvorbereitung für die RFA-Analyse zum Erfolg
Bei der Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA) ist die Probenvorbereitung ein wichtiger Schritt, da sie sowohl die Qualität als auch die Effizienz der Analyse erheblich beeinflussen kann.
So stellen Sie Formqualität und Effizienz mit warmisostatischer Presse sicher
Warm Isostatic Press (WIP) ist eine Art isostatische Presse, die eine Kombination aus Hitze und Druck nutzt, um hochwertige Teile herzustellen. Beim WIP-Prozess wird ein Teil in eine flexible Form gelegt, die dann mit einem Gas oder einem flüssigen Medium gefüllt wird.
Hochreine Sputtering-Targets für die Herstellung integrierter Schaltungen
In diesem Artikel werden die Anforderungen an die hohe Reinheit und die Anwendungen verschiedener Sputtertargets bei der Herstellung integrierter Schaltkreise erörtert, wobei der Schwerpunkt auf Metallen und Legierungen liegt, die in verschiedenen Technologieknoten verwendet werden.
Einführung in Sputtering Targets
Ein Überblick über Sputtertargets, ihre Typen und Schlüsselparameter wie Reinheit, Dichte und Korngröße.
Aufbereitungstechnologien und Anwendungen von hochreinen Metallen
Ein eingehender Blick auf die Definition, die Aufbereitungstechnologien und die Anwendungen von hochreinen Metallen.
Umfassende Analyse von Magnetron-Sputter-Targets
Eine eingehende Untersuchung der Magnetron-Sputter-Targets, ihrer Anforderungen, Prinzipien, Typen und Leistungsfaktoren.
Herausforderungen bei der Erzielung einer Glimmentladung mit Rhenium-Targets beim Magnetronsputtern
Untersucht die Gründe, warum Rhenium-Targets beim Magnetron-Sputtern nicht glühen, und bietet Optimierungsvorschläge.
Anwendung, Vorbereitung und Rückgewinnung von Edelmetalltargets in der Halbleiterherstellung
Erläutert die Verwendung, Aufbereitung und das Recycling von Edelmetalltargets in der Halbleiterherstellung.
Arten von Verdunstungsquellen für die Verdunstungsbeschichtung
Untersuchen Sie die verschiedenen Verdampfungsquellen, die bei der Dünnschichtabscheidung verwendet werden, einschließlich Fäden, Tiegel und Verdampfungsboote.