Zu den gängigen Verfahren für die Metallabscheidung gehören die thermische Verdampfung, die chemische Abscheidung und die Sputtering-Technik.
Thermische Verdampfung:
Bei dieser Methode wird ein elektrischer Widerstandsheizer verwendet, um das Abscheidungsmaterial in einem Hochvakuum zu schmelzen. Das Material wird erhitzt, bis es verdampft und dann auf dem Substrat kondensiert, wodurch eine dünne Schicht entsteht. Eine Alternative dazu ist die Verwendung eines Elektronenstrahlverdampfers, der Materialien direkt auf dem Substrat schmelzen kann. Diese Technik eignet sich für eine breite Palette von Metallen und Legierungen.Chemische Abscheidung:
Bei diesem Verfahren wird das Substrat vollständig in eine chemische Flüssigkeit getaucht, wodurch sich eine gleichmäßige Beschichtung auf der Oberfläche abscheidet. Diese Technik ist besonders für Metalle und Oxide geeignet. Metalle werden wegen ihrer Festigkeit und Haltbarkeit bevorzugt, während Oxide wegen ihrer Fähigkeit, hohen Temperaturen standzuhalten, und ihrer Abscheidung bei relativ niedrigen Temperaturen gewählt werden. Allerdings kann die Sprödigkeit von Oxiden ihre Anwendung manchmal einschränken.
Sputtern:
