Die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) ist ein vielseitiges Verfahren mit einer breiten Palette von Anwendungen in verschiedenen Branchen.
6 Schlüsselanwendungen der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD)
Halbleitergeräte
PVD wird häufig bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen eingesetzt.
Mit diesem Verfahren werden dünne Schichten aus verschiedenen Materialien auf Halbleitersubstrate wie Siliziumwafer aufgebracht.
Diese dünnen Schichten dienen u. a. als Isolierung, Diffusionsbarriere und Metallkontakt.
Optische Beschichtungen und Filter
PVD wird eingesetzt, um dünne Schichten aus Materialien mit bestimmten optischen Eigenschaften auf optische Komponenten aufzubringen.
Diese Beschichtungen verbessern das Reflexionsvermögen, die Durchlässigkeit und die Haltbarkeit von optischen Oberflächen.
Sie werden für Anwendungen wie Antireflexionsbeschichtungen, Spiegelbeschichtungen und Filter für die Wellenlängenauswahl verwendet.
Beschichtete Schneidwerkzeuge
Mit PVD werden harte Beschichtungen auf Schneidwerkzeuge wie Bohrer, Schaftfräser und Wendeplatten aufgebracht.
Diese Beschichtungen verbessern die Verschleißfestigkeit und Härte der Schneidwerkzeuge.
Dies führt zu einer längeren Lebensdauer der Werkzeuge und einer verbesserten Schneidleistung.
Dekorative Anzeigen
PVD wird verwendet, um hochreflektierende Schichten auf Oberflächen wie Glas oder Kunststoff zu dekorativen Zwecken aufzubringen.
Diese Schichten erzeugen eine spiegelähnliche Oberfläche und werden häufig in Produkten wie Smartphones, Tablets und Automobildisplays verwendet.SolarzellenPVD wird bei der Herstellung von Solarzellen eingesetzt.Dabei werden dünne Schichten aus Materialien wie Silizium auf die Oberfläche der Solarzelle aufgebracht.Diese dünnen Schichten erhöhen den Wirkungsgrad der Solarzelle, indem sie die Lichtabsorption und den Elektronentransport verbessern.
