Bei der plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung (PECVD) werden je nach Anwendung und gewünschter Schichtzusammensetzung verschiedene Gase verwendet.
5 Häufig verwendete Gase bei der PECVD
1. Silan (SiH4)
Silan ist ein Vorläufergas, das häufig in PECVD-Verfahren zur Abscheidung von Schichten auf Siliziumbasis wie Siliziumnitrid und Siliziumoxid verwendet wird.
Es wird mit anderen Gasen gemischt, um die Schichteigenschaften zu steuern.
2. Ammoniak (NH3)
Ammoniak ist ein weiteres Vorläufergas, das in PECVD-Verfahren verwendet wird.
Es wird üblicherweise in Kombination mit Silan zur Abscheidung von Siliziumnitridschichten verwendet.
Ammoniak hilft bei der Kontrolle des Stickstoffgehalts in der Schicht.
3. Argon (Ar)
Argon ist ein Inertgas, das häufig als Trägergas oder Verdünnungsgas in PECVD-Verfahren verwendet wird.
Es wird mit Vorläufergasen gemischt, um die Reaktion zu steuern und eine gleichmäßige Abscheidung der Schicht zu gewährleisten.
4. Stickstoff (N2)
Stickstoff ist ein weiteres inertes Gas, das in PECVD-Verfahren verwendet werden kann.
Es wird in der Regel als Trägergas oder Verdünnungsgas verwendet, um die Reaktion zu steuern und unerwünschte Gasphasenreaktionen zu verhindern.
5. Methan (CH4), Ethylen (C2H4) und Acetylen (C2H2)
Diese Kohlenwasserstoffgase werden in PECVD-Verfahren für das Wachstum von Kohlenstoff-Nanoröhren (CNT) verwendet.
Sie werden durch das Plasma dissoziiert und erzeugen amorphe Kohlenstoffprodukte.
Um die Bildung von amorphen Produkten zu verhindern, werden diese Gase normalerweise mit Argon, Wasserstoff oder Ammoniak verdünnt.
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