Das beim Sputtern verwendete Gas ist in der Regel ein Inertgas, wobei Argon die häufigste und kostengünstigste Wahl ist. Andere Inertgase wie Krypton, Xenon, Neon und Stickstoff werden ebenfalls verwendet, je nach den spezifischen Anforderungen des Sputterverfahrens und dem Atomgewicht des Zielmaterials. Die Wahl des Gases ist entscheidend für eine effiziente Impulsübertragung, wobei leichtere Gase wie Neon für das Sputtern leichter Elemente und schwerere Gase wie Krypton oder Xenon für schwere Elemente bevorzugt werden. Außerdem können reaktive Gase wie Sauerstoff und Stickstoff in Verbindung mit Inertgasen für die Abscheidung dünner Schichten aus Oxiden, Nitriden und anderen Verbindungen verwendet werden. Die Wahl des Sputtergases kann die Abscheiderate und die Qualität der Schicht oder des Überzugs auf dem Substrat erheblich beeinflussen.
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