Ausführlicher Leitfaden zur TEM-Probenvorbereitung, der Reinigung, Schleifen, Polieren, Fixierung und Abdecktechniken umfasst.
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Ein Überblick über verschiedene Probenvorbereitungsmethoden für die Infrarotspektralanalyse.
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Ein Überblick über die Grundsätze, Probenanforderungen und Vorbereitungsmethoden für die In-situ-Infrarotspektroskopie.
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Dieser Artikel befasst sich mit den Präparationsmethoden und Wachstumsmechanismen von Diamant-Dünnschichten durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und zeigt die Herausforderungen und potenziellen Anwendungen auf.
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Erörtert die Verwendung von gezüchteten Diamanten in Halbleitern, bei der Wärmeableitung und in der modernen Fertigung.
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Erforscht die einzigartigen Eigenschaften von CVD-Diamanten, ihre Präparationsmethoden und ihre vielfältigen Anwendungen in verschiedenen Bereichen.
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In diesem Artikel werden die Anwendungen von MPCVD-Einkristalldiamant in den Bereichen Halbleiter und optische Displays erörtert, wobei seine überlegenen Eigenschaften und seine potenziellen Auswirkungen auf verschiedene Branchen hervorgehoben werden.
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Dieser Artikel befasst sich mit den Fortschritten und Herausforderungen bei der Herstellung großformatiger einkristalliner Diamanten mit Hilfe der plasmachemischen Mikrowellen-Gasphasenabscheidung (MPCVD).
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Ein eingehender Blick auf die Methoden und Vorteile der Vakuumbeschichtung von Architekturglas mit Schwerpunkt auf Energieeffizienz, Ästhetik und Haltbarkeit.
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Eine eingehende Analyse der Schlüsselfaktoren, die die Haftung von Schichten beeinflussen, die mit der Magnetron-Sputter-Technologie hergestellt wurden.
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Erforscht die Eigenschaften und vielfältigen Anwendungen von diamantähnlichen Kohlenstoffbeschichtungen (DLC).
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Erörtert das Phänomen der Targetvergiftung beim Magnetronsputtern, seine Ursachen, Auswirkungen und Präventivmaßnahmen.
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In diesem Artikel wird erörtert, wie sich unterschiedliche Stromversorgungen auf die Morphologie gesputterter Schichten auswirken, wobei der Schwerpunkt auf DC-, PDC- und RF-Stromversorgungen liegt.
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In diesem Artikel werden die Ursachen und Lösungen für den starken Abtrag im mittleren Bereich keramischer Targets beim Magnetronsputtern erörtert.
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Ein ausführlicher Leitfaden über die Definition, die Messmethoden, die Einflussfaktoren und die Geräte, die zur Bewertung der Schälfestigkeit von gesputterten Folienschichten verwendet werden.
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Erörtert Methoden zur Gewährleistung der Schichtdickentoleranz bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung für eine optimale Materialleistung.
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Ein eingehender Blick auf die Vor- und Nachteile der Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung und ihre verschiedenen Anwendungen in der Industrie.
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Erörtert die Schwierigkeiten des TiN-Schichtwachstums mit Wechselstrom und schlägt Lösungen wie Gleichstromsputtern und gepulsten Gleichstrom vor.
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Ein detaillierter Einblick in die Prinzipien, Arten, Gasanwendungen und praktischen Anwendungen von PVD-Beschichtungsverfahren.
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Eine eingehende Untersuchung der Konstruktionsprinzipien von Dünnschichtsystemen, technologische Überlegungen und praktische Anwendungen in verschiedenen Bereichen.
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Analyse der Faktoren, die dazu führen, dass trotz Glühen beim Magnetronsputtern keine Schicht abgeschieden wird.
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Erörtert die Schlüsselfaktoren, die die Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung beim Magnetronsputtern beeinflussen, einschließlich Geräteparameter, Sputterleistung, Gasdruck, Magnetfeldkonfiguration, Substrateigenschaften und mehr.
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Leitlinien zur Auswahl der richtigen Vakuumbeschichtungsmaterialien auf der Grundlage von Anwendung, Materialeigenschaften, Beschichtungsmethoden, Wirtschaftlichkeit, Substratverträglichkeit und Sicherheit.
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Untersucht die Gründe, warum Rhenium-Targets beim Magnetron-Sputtern nicht glühen, und bietet Optimierungsvorschläge.
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Schlüsselparameter, die den Sputtereffekt beim Magnetronsputtern beeinflussen, einschließlich Luftdruck, Leistung, Targetabstand, Substrattyp und mehr.
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Erforschung von Farbvariationen, Kontrollmethoden und praktischen Anwendungen von Siliziumoxid-Dünnschichten.
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Richtlinien und Vorsichtsmaßnahmen für die Herstellung von PZT-Schichten durch Magnetronsputtern.
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Schlüsselfaktoren für eine erfolgreiche Verdunstungsbeschichtung auf flexiblen Materialien, die Qualität und Leistung gewährleisten.
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Überblick über die Arten der Bias-Stromversorgung beim Magnetronsputtern und ihre Rolle bei der Verbesserung der Schichthaftung und -dichte.
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Dieser Artikel erläutert die Unterschiede und Anwendungen von DC-, MF- und RF-Sputtertechniken bei der Dünnschichtpräparation.
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