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Detaillierte Prozesse und Parameter der PECVD für die Abscheidung von TiN und Si3N4
vor 3 MonatenEine eingehende Untersuchung der PECVD-Prozesse für TiN und Si3N4, einschließlich der Einrichtung der Anlagen, der Arbeitsschritte und der wichtigsten Prozessparameter.
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Häufige Nachbearbeitungsursachen und Lösungen für röhrenförmige PECVD-Beschichtungen
vor 3 MonatenIn diesem Artikel werden die häufigsten Ursachen für Nacharbeiten bei der PECVD-Beschichtung von kristallinen Silizium-Solarzellen erörtert und praktikable Lösungen zur Qualitätsverbesserung und Kostensenkung vorgestellt.
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Häufige abnormale Ursachen und Lösungen für die PECVD-Beschichtung von kristallinen Silizium-Solarzellen
vor 3 MonatenAnalysiert häufige Probleme bei der PECVD-Beschichtung von Solarzellen und bietet Lösungen zur Qualitätsverbesserung und Kostensenkung.
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Einführung in das PECVD-Verfahren zur Abscheidung von amorphem Silizium bei der Burst-Filmbildung
vor 3 MonatenErklärt den Mechanismus der Burst-Filmbildung bei der PECVD-Abscheidung von amorphem Silizium und Lösungen zur Verhinderung dieses Phänomens.
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Haupthindernisse für die PECVD-Nanobeschichtungstechnologie
vor 3 MonatenUntersucht die wichtigsten Hindernisse bei der Entwicklung und Anwendung der PECVD-Nanobeschichtungstechnologie.
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Optimierung von PECVD-Beschichtungsprozessen für MEMS-Bauteile
vor 4 MonatenLeitfaden zur Konfiguration und Optimierung von PECVD-Prozessen für hochwertige Siliziumoxid- und -nitridschichten in MEMS-Geräten.
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Graphitboote im PECVD-Verfahren für die Zellbeschichtung
vor 4 MonatenErforschung der Verwendung von Graphitbooten in der PECVD für eine effiziente Zellbeschichtung.
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Verständnis der Glimmentladung im PECVD-Prozess
vor 4 MonatenUntersucht das Konzept, die Eigenschaften und die Auswirkungen der Glimmentladung bei der PECVD für die Schichtabscheidung.
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Arten von PECVD-Verfahren, Anlagenstruktur und Verfahrensprinzip
vor 4 MonatenEin Überblick über PECVD-Prozesse, Anlagenstrukturen und häufige Probleme mit Schwerpunkt auf verschiedenen PECVD-Typen und ihren Anwendungen.
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Anwendungen der PECVD-Nano-Beschichtungstechnologie in elektronischen Geräten
vor 4 MonatenDie PECVD-Nanobeschichtungstechnologie verbessert die Haltbarkeit und Zuverlässigkeit verschiedener elektronischer Geräte.
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PECVD-Nanobeschichtungen - Anwendungen jenseits von Wasserabdichtung und Korrosionsschutz
vor 4 MonatenErforscht verschiedene PECVD-Nanobeschichtungsanwendungen, darunter wasserdichte, korrosionsschützende, antibakterielle, hydrophile und verschleißfeste Schichten.
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Carbon Coating for Surface Modification of Silicon-Based Materials in Lithium-Ion Batteries
vor 4 MonatenThis article discusses the application of carbon coatings to improve the performance of silicon-based anode materials in lithium-ion batteries.
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Technischer Überblick über die mit dem CVD-Verfahren hergestellten Silizium-Kohlenstoff-Anodenmaterialien
vor 4 MonatenIn diesem Artikel werden die wichtigsten technischen Aspekte der mittels CVD hergestellten Silizium-Kohlenstoff-Anodenmaterialien erörtert, wobei der Schwerpunkt auf ihrer Synthese, ihren Leistungsverbesserungen und ihrem industriellen Anwendungspotenzial liegt.
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Silizium-Kohlenstoff-Anode aus der Gasphase für Batterien der nächsten Generation
vor 4 MonatenUntersucht das Potenzial von Anoden auf Siliziumbasis und konzentriert sich dabei auf die Aufdampfungstechnologie und ihre Auswirkungen auf die Leistung und die Kosten von Batterien.
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Einführung in die CVD-Dünnschichttechnik Transportsysteme aus der Gasphase
vor 4 MonatenÜberblick über CVD-Verfahren, Komponenten und Systeme für die Dünnschichtabscheidung.
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Vergleich und Anwendungsanalyse von LPCVD-, PECVD- und ICPCVD-Verfahren
vor 4 MonatenEin detaillierter Vergleich der LPCVD-, PECVD- und ICPCVD-Technologien mit Schwerpunkt auf den Prinzipien, Merkmalen, Vor- und Nachteilen.
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Vakuum-Beschichtungstechnologie: Entwicklung und Anwendung
vor 4 MonatenErforscht die Entwicklung, die Methoden und die Anwendungen der Vakuumbeschichtungstechnologie mit Schwerpunkt auf PVD und deren Auswirkungen auf industrielle Werkzeuge und Formen.
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Auswirkung von Siliziumnitrid-Schichtvorbereitungsverfahren auf die Genauigkeit der Schichtdickenkontrolle
vor 4 MonatenAnalyse des Einflusses verschiedener Verfahren zur Herstellung von Siliziumnitridschichten auf die Genauigkeit der Dickenkontrolle bei der Halbleiterherstellung.
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Herstellung und Transfertechnologie von Graphen durch chemische Gasphasenabscheidung
vor 4 MonatenDieser Artikel gibt einen Überblick über die Verfahren zur Herstellung von Graphen, wobei der Schwerpunkt auf der CVD-Technologie, ihren Übertragungstechniken und den Zukunftsaussichten liegt.
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Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und hochreine PFA-Rohre
vor 4 MonatenEin Überblick über das CVD-Verfahren und die Rolle von hochreinen PFA-Rohren in der Halbleiterfertigung.
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Fortschrittliche Oberflächenbehandlung: Titan CVD-Beschichtung
vor 4 MonatenUntersucht die Vorteile und Anwendungen von CVD-Beschichtungen auf Titanlegierungen, mit Schwerpunkt auf Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und thermischer Stabilität.
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Beschichtungsmethoden für die Herstellung von Einkristallschichten
vor 4 MonatenEin Überblick über verschiedene Beschichtungsmethoden wie CVD, PVD und Epitaxie zur Herstellung von Einkristallschichten.
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Umfassender Überblick über 12 Arten der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)
vor 4 MonatenErforschen Sie die verschiedenen CVD-Methoden, von plasmaunterstützter bis hin zu Ultrahochvakuum, und ihre Anwendungen in der Halbleiter- und Materialwissenschaft.
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Vorteile, Beschränkungen und Prozesskontrolle der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)
vor 4 MonatenUntersucht die Vorteile, Beschränkungen und das Prozessmanagement der CVD-Technologie für Oberflächenbeschichtungen.
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Eingehende Untersuchung von Beschichtungen durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
vor 4 MonatenEine umfassende Untersuchung der CVD-Technologie, ihrer Grundsätze, Merkmale, Klassifizierungen, neuen Fortschritte und Anwendungen in verschiedenen Bereichen.
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Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und elektronische Spezialgase
vor 4 MonatenEin Überblick über die CVD-Technologie und die Rolle elektronischer Spezialgase bei der Halbleiterherstellung.
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Photovoltaic Passivation Layer Thin Film Deposition Process
vor 4 MonatenDetailed analysis of the passivation layer thin film deposition methods in TOPCon cells, including PVD and CVD technologies.
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Umfassender Überblick über CVD-Verfahren zur anorganischen Dünnschichtabscheidung
vor 4 MonatenIn diesem Artikel werden verschiedene CVD- und PVD-Methoden für die Abscheidung anorganischer Dünnschichten beschrieben, einschließlich ihrer Verfahren, Anwendungen und Vergleiche.
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Präzise abgestimmte Dünnschichttechnologie: Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) in Chalkogenid-Solarzellen
vor 4 MonatenUntersucht die Rolle der CVD bei der Verbesserung der Leistung und Skalierbarkeit von Chalkogenid-Solarzellen, wobei der Schwerpunkt auf ihren Vorteilen und Anwendungen liegt.
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Richtlinien zur Probenvorbereitung für verschiedene Analyseinstrumente
vor 4 MonatenDetaillierte Anweisungen zur Vorbereitung von Proben für NMR, MS, Chromatographie, IR, UV, ICP, Thermogravimetrie, XRD, TEM, SEM und andere Instrumente.
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Bestellung von Laborverbrauchsmaterialien
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