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Fortschritte bei der mikrowellenplasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung für die Herstellung großformatiger Diamant-Einkristalle
vor 6 MonatenDieser Artikel befasst sich mit den Fortschritten und Herausforderungen bei der Herstellung großformatiger einkristalliner Diamanten mit Hilfe der plasmachemischen Mikrowellen-Gasphasenabscheidung (MPCVD).
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Anwendung von Vakuumbeschichtungen auf Architekturglas
vor 6 MonatenEin eingehender Blick auf die Methoden und Vorteile der Vakuumbeschichtung von Architekturglas mit Schwerpunkt auf Energieeffizienz, Ästhetik und Haltbarkeit.
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Faktoren, die die Haftung von magnetrongesputterten Schichten beeinflussen
vor 6 MonatenEine eingehende Analyse der Schlüsselfaktoren, die die Haftung von Schichten beeinflussen, die mit der Magnetron-Sputter-Technologie hergestellt wurden.
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Diamantähnliche Beschichtung (DLC) und ihre Anwendungen
vor 6 MonatenErforscht die Eigenschaften und vielfältigen Anwendungen von diamantähnlichen Kohlenstoffbeschichtungen (DLC).
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Verständnis und Vorbeugung der Vergiftung von Magnetron-Sputter-Targets
vor 6 MonatenErörtert das Phänomen der Targetvergiftung beim Magnetronsputtern, seine Ursachen, Auswirkungen und Präventivmaßnahmen.
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Auswirkungen verschiedener Stromversorgungen auf die Morphologie gesputterter Filme
vor 6 MonatenIn diesem Artikel wird erörtert, wie sich unterschiedliche Stromversorgungen auf die Morphologie gesputterter Schichten auswirken, wobei der Schwerpunkt auf DC-, PDC- und RF-Stromversorgungen liegt.
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Analyse des starken Abtrags im mittleren Bereich keramischer Targets beim Magnetronsputtern
vor 6 MonatenIn diesem Artikel werden die Ursachen und Lösungen für den starken Abtrag im mittleren Bereich keramischer Targets beim Magnetronsputtern erörtert.
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Messung der Abziehfestigkeit von gesputterten Filmschichten
vor 6 MonatenEin ausführlicher Leitfaden über die Definition, die Messmethoden, die Einflussfaktoren und die Geräte, die zur Bewertung der Schälfestigkeit von gesputterten Folienschichten verwendet werden.
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Kontrolle der Schichtdickentoleranz bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung
vor 6 MonatenErörtert Methoden zur Gewährleistung der Schichtdickentoleranz bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung für eine optimale Materialleistung.
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Elektronenstrahl-Verdampfungsbeschichtung: Vorteile, Nachteile und Anwendungen
vor 6 MonatenEin eingehender Blick auf die Vor- und Nachteile der Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung und ihre verschiedenen Anwendungen in der Industrie.
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Herausforderungen bei der TiN-Schichtabscheidung mit AC-Strom und Lösungen
vor 6 MonatenErörtert die Schwierigkeiten des TiN-Schichtwachstums mit Wechselstrom und schlägt Lösungen wie Gleichstromsputtern und gepulsten Gleichstrom vor.
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Umfassender Überblick über PVD-Beschichtungsprozesse
vor 6 MonatenEin detaillierter Einblick in die Prinzipien, Arten, Gasanwendungen und praktischen Anwendungen von PVD-Beschichtungsverfahren.
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Entwurf von Dünnschichtsystemen: Prinzipien, Überlegungen und praktische Anwendungen
vor 6 MonatenEine eingehende Untersuchung der Konstruktionsprinzipien von Dünnschichtsystemen, technologische Überlegungen und praktische Anwendungen in verschiedenen Bereichen.
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Probleme bei der Magnetronzerstäubung: Warum ein Glühen auftritt, aber kein Film abgeschieden wird
vor 6 MonatenAnalyse der Faktoren, die dazu führen, dass trotz Glühen beim Magnetronsputtern keine Schicht abgeschieden wird.
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Faktoren, die die Gleichmäßigkeit der Magnetronzerstäubung beeinflussen
vor 6 MonatenErörtert die Schlüsselfaktoren, die die Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung beim Magnetronsputtern beeinflussen, einschließlich Geräteparameter, Sputterleistung, Gasdruck, Magnetfeldkonfiguration, Substrateigenschaften und mehr.
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Auswahl von Materialien für die Vakuumbeschichtung: Schlüsselfaktoren und Überlegungen
vor 6 MonatenLeitlinien zur Auswahl der richtigen Vakuumbeschichtungsmaterialien auf der Grundlage von Anwendung, Materialeigenschaften, Beschichtungsmethoden, Wirtschaftlichkeit, Substratverträglichkeit und Sicherheit.
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Herausforderungen bei der Erzielung einer Glimmentladung mit Rhenium-Targets beim Magnetronsputtern
vor 6 MonatenUntersucht die Gründe, warum Rhenium-Targets beim Magnetron-Sputtern nicht glühen, und bietet Optimierungsvorschläge.
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Parameter, die den Sputtering-Effekt beim Magnetron-Sputterverfahren beeinflussen
vor 6 MonatenSchlüsselparameter, die den Sputtereffekt beim Magnetronsputtern beeinflussen, einschließlich Luftdruck, Leistung, Targetabstand, Substrattyp und mehr.
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Farbkontrolle und Anwendungen von aufgedampften Siliziumoxidschichten
vor 6 MonatenErforschung von Farbvariationen, Kontrollmethoden und praktischen Anwendungen von Siliziumoxid-Dünnschichten.
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Vorsichtsmaßnahmen für die Herstellung von Blei-Zirkonat-Titanat-Schichten (PZT) durch Magnetron-Sputtern
vor 6 MonatenRichtlinien und Vorsichtsmaßnahmen für die Herstellung von PZT-Schichten durch Magnetronsputtern.
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Überlegungen zur Verdunstungsbeschichtung auf flexiblen Substraten
vor 6 MonatenSchlüsselfaktoren für eine erfolgreiche Verdunstungsbeschichtung auf flexiblen Materialien, die Qualität und Leistung gewährleisten.
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Arten von Bias-Stromversorgungen beim Magnetronsputtern und ihre Aufgaben
vor 6 MonatenÜberblick über die Arten der Bias-Stromversorgung beim Magnetronsputtern und ihre Rolle bei der Verbesserung der Schichthaftung und -dichte.
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Die Unterschiede und Anwendungen von DC-, MF- und RF-Sputtern bei der Dünnschichtherstellung verstehen
vor 6 MonatenDieser Artikel erläutert die Unterschiede und Anwendungen von DC-, MF- und RF-Sputtertechniken bei der Dünnschichtpräparation.
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Funkenbildung des Zielmaterials bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung: Ursachen und Lösungen
vor 6 MonatenErklärt, warum das Targetmaterial beim Magnetronsputtern Funken schlägt und bietet Lösungen an, um dies zu verhindern.
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Verständnis der Sputtering-Beschichtungstechnologie
vor 6 MonatenEin eingehender Blick auf die Sputtering-Beschichtungstechnologie, ihre Mechanismen, Arten und Anwendungen.
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Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) Dünnschichttechnologie
vor 6 MonatenÜberblick über die CVD-Technologie, ihre Grundsätze, Arten, Anwendungen, Verfahrensmerkmale und Vorteile.
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Dünnschichtabscheidungsverfahren in der Halbleiterherstellung
vor 6 MonatenEin Überblick über die Techniken der Dünnschichtabscheidung mit Schwerpunkt auf den Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) in der Halbleiterherstellung.
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Umfassender Überblick über Technologien der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)
vor 6 MonatenDieser Artikel beschreibt verschiedene CVD-Technologien, die in der Halbleiter- und Dünnschichtindustrie eingesetzt werden.
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MPCVD-Kulturdiamanten revolutionieren die Industrie
vor 6 MonatenUntersucht die Auswirkungen von MPCVD-gezüchteten Diamanten auf verschiedene Branchen und Strategien zur Kostensenkung und Effizienzsteigerung.
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Auswahl eines leistungsstarken MPCVD-Geräts
vor 6 MonatenWichtige Überlegungen bei der Auswahl einer MPCVD-Anlage für das Diamantwachstum.
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