Wissen Ist gepulstes DC-Sputtern besser als DC-Sputtern? 4 Hauptgründe warum
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Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 2 Monaten

Ist gepulstes DC-Sputtern besser als DC-Sputtern? 4 Hauptgründe warum

Die gepulste Gleichstromzerstäubung wird für bestimmte Anwendungen allgemein als besser angesehen als die Gleichstromzerstäubung, insbesondere bei der reaktiven Zerstäubung und beim Umgang mit Isolatoren.

Dies liegt an der Fähigkeit, Schäden durch Lichtbogenentladungen zu mindern, und an der besseren Kontrolle über die Schichteigenschaften.

4 Hauptgründe, warum gepulstes DC-Sputtern besser ist

Ist gepulstes DC-Sputtern besser als DC-Sputtern? 4 Hauptgründe warum

1. Abschwächung von Schäden durch Bogenentladungen

Das gepulste DC-Sputtern ist besonders vorteilhaft beim reaktiven Ionensputtern, wo das Risiko einer Bogenentladung hoch ist.

Lichtbogenentladungen entstehen durch die Ansammlung von Ladungen auf dem Target, was sowohl für die Dünnschicht als auch für die Stromversorgung schädlich sein kann.

Das gepulste DC-Sputtern hilft bei der Bewältigung dieses Problems, indem es die angesammelte Ladung in regelmäßigen Abständen entlädt und so den Aufbau verhindert, der zu Bogenentladungen führt.

Dadurch wird der Prozess stabiler und weniger schädlich für die Geräte und die abgeschiedenen Schichten.

2. Bessere Kontrolle über die Filmeigenschaften

Das gepulste DC-Sputtern ermöglicht eine bessere Kontrolle über verschiedene Schichteigenschaften wie Dicke, Gleichmäßigkeit, Haftfestigkeit, Spannung, Kornstruktur und optische oder elektrische Eigenschaften.

Dies ist von entscheidender Bedeutung für Anwendungen, bei denen eine präzise Kontrolle der Schichteigenschaften erforderlich ist.

Der gepulste Charakter der Stromversorgung ermöglicht eine kontrolliertere Umgebung für die Abscheidung von Materialien, was zu einer höheren Qualität der Schichten führt.

3. Vorteile bei der Abscheidung von Isolierstoffen

Das herkömmliche Gleichstromsputtern hat aufgrund der Ladungsbildung auf dem Target Einschränkungen bei der Abscheidung von Isoliermaterialien.

Das gepulste DC-Sputtern und Weiterentwicklungen wie das High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) überwinden diese Einschränkungen, indem sie eine Methode zur effektiven Abscheidung von Isoliermaterialien bieten.

Dies ist besonders wichtig für die Entwicklung fortschrittlicher Werkstoffe und Beschichtungen, bei denen isolierende Eigenschaften von entscheidender Bedeutung sind.

4. Schlussfolgerung

Während die Gleichstromzerstäubung für einfache und leitfähige Materialien geeignet ist, bietet die gepulste Gleichstromzerstäubung erhebliche Vorteile in Bezug auf die Prozessstabilität, die Kontrolle der Schichteigenschaften und die Fähigkeit, reaktive und isolierende Materialien zu verarbeiten.

Diese Vorteile machen das gepulste DC-Sputtern zu einer überlegenen Wahl für viele moderne Anwendungen der Dünnschichtabscheidung, insbesondere in Branchen, die eine hohe Präzision und Qualität ihrer Materialien benötigen.

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