Sputtertargets werden in erster Linie für die Abscheidung dünner Schichten auf verschiedenen Substraten in einem Verfahren verwendet, das als physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) bezeichnet wird. Diese Technik ist in mehreren Branchen von entscheidender Bedeutung, darunter Elektronik, Optik und erneuerbare Energien.
Halbleiter:
Sputtertargets spielen eine wichtige Rolle bei der Herstellung von Halbleitern. Sie werden verwendet, um leitende Schichten in Mikrochips, Speicherchips, Druckköpfen und Flachbildschirmen zu erzeugen. Bei diesem Verfahren werden metallische Legierungen verwendet, die eine hohe chemische Reinheit und metallurgische Gleichmäßigkeit gewährleisten müssen, um die Integrität und Leistung der Halbleiterbauelemente zu erhalten.Glasbeschichtung:
In der Bauindustrie werden Sputtering-Targets zur Herstellung von Glas mit niedrigem Emissionsgrad (Low-E) eingesetzt. Diese Art von Glas wird beschichtet, um die Menge des durchgelassenen infraroten und ultravioletten Lichts zu reduzieren und so Energie zu sparen, Licht zu kontrollieren und die Ästhetik zu verbessern. Die Beschichtung wird durch ein Sputtering-Verfahren aufgebracht, bei dem dünne Materialschichten auf die Glasoberfläche aufgebracht werden.
Solarzellen-Beschichtung:
Angesichts der steigenden Nachfrage nach erneuerbaren Energien werden Sputtering-Targets bei der Herstellung von Dünnschicht-Solarzellen eingesetzt. Diese Solarzellen der dritten Generation werden mit der Sputter-Beschichtungstechnologie hergestellt, die eine präzise Aufbringung von Materialien ermöglicht, die die Fähigkeit der Zellen zur Umwandlung von Sonnenlicht in Elektrizität verbessern.Optische Anwendungen:
Sputtern wird auch bei optischen Anwendungen eingesetzt, bei denen dünne Schichten auf Glas aufgebracht werden, um dessen Eigenschaften zu verändern. Dies kann die Verbesserung des Reflexionsvermögens, der Durchlässigkeit oder der Haltbarkeit des Glases umfassen, je nach den spezifischen Anforderungen des herzustellenden optischen Geräts.
