Bei höheren Temperaturen ist die Abscheidung von Atomen auf Oberflächen mit mehreren komplexen Prozessen verbunden, darunter thermische Zersetzung, Oberflächenreaktionen und Migration von Adatomen. Die höhere Temperatur erhöht die Mobilität der Adatome, was zu einer gleichmäßigeren und dichteren Filmbildung führen kann, birgt aber auch die Gefahr von parasitären Reaktionen, die zu Verunreinigungen führen können.
Thermische Zersetzung und Oberflächenreaktionen:
Bei höheren Temperaturen können die flüchtigen Verbindungen des abzuscheidenden Stoffes leichter verdampfen. Diese Dämpfe werden dann thermisch in Atome und Moleküle zerlegt oder reagieren mit anderen Gasen an der Substratoberfläche. Dieser Prozess ist von entscheidender Bedeutung, da er die Zusammensetzung und Struktur der abgeschiedenen Schicht direkt beeinflusst. Die Zersetzung von Ammoniak auf einer Metalloberfläche veranschaulicht zum Beispiel, wie molekulare Vorläufer in elementare Adatome zerfallen, die für das Schichtwachstum unerlässlich sind. Die Geschwindigkeit dieser Zersetzung und damit die Abscheidungsrate wird von der Temperatur und dem Prozessdruck beeinflusst.Adatom-Migration und Keimbildung:
Die durch Oberflächenreaktionen entstandenen elementaren Adatome sind bei hohen Temperaturen sehr mobil. Sie wandern über die Substratoberfläche, bis sie auf hochenergetische Stellen wie atomare Leerstellen, Gitterkanten oder Knickstellen auf kristallinen Oberflächen treffen. Auf nicht-kristallinen Oberflächen sind Adatome an anderen Arten von Oberflächenplätzen gefangen. Diese Migration und eventuelle Keimbildung an bestimmten Stellen sind entscheidend für die Bildung eines gleichmäßigen und kontinuierlichen Films. Höhere Temperaturen erleichtern diese Migration, was zu einer effizienteren Keimbildung und einer besseren Schichtqualität führen kann.
Parasitäre Reaktionen und Verunreinigungen:
Trotz der Vorteile höherer Temperaturen erhöhen diese Bedingungen auch die Wahrscheinlichkeit parasitärer Reaktionen an der Oberfläche des Materials. Bei diesen Reaktionen können Verunreinigungen entstehen, die die Eigenschaften der wachsenden Schicht beeinträchtigen können. Beispielsweise kann die Bildung unerwünschter Verbindungen oder das Einfangen von Nebenprodukten zu Defekten in der Schicht führen, die ihre elektrischen, mechanischen oder optischen Eigenschaften beeinträchtigen.
Auswirkungen auf Struktur und Eigenschaften der Schicht: