Die Herstellung von Graphen kann wie ein komplexer Prozess erscheinen, aber es gibt eine Methode, die sich als die einfachste und effektivste herausstellt: Chemische Gasphasenabscheidung (CVD).
Die 5 wichtigsten Punkte werden erklärt
1. Was ist chemische Gasphasenabscheidung (CVD)?
CVD ist ein Verfahren zum Aufwachsen von Graphenschichten auf Substraten, in der Regel Metallfolien wie Kupfer oder Nickel.
2. Wie funktioniert CVD?
Bei diesem Verfahren werden die Temperatur und die Gaszusammensetzung in einer Reaktionskammer sorgfältig kontrolliert. Dies führt zur Bildung von Graphenschichten auf der Substratoberfläche.
3. Warum wird CVD bevorzugt?
CVD wird bevorzugt, weil damit hochwertiges, großflächiges Graphen hergestellt werden kann, das für Anwendungen in der Elektronik, der Energiespeicherung und anderen Bereichen entscheidend ist.
4. Das CVD-Verfahren im Detail
Bei der CVD werden gasförmige Ausgangsstoffe verwendet, die sich bei hohen Temperaturen zersetzen. Die zersetzten Kohlenstoffatome verbinden sich dann auf der Substratoberfläche zu Graphen. Als Substrat wird in der Regel Kupfer verwendet, da es kostengünstig ist und das Wachstum von einlagigem Graphen erleichtert.
5. Vorteile der CVD gegenüber anderen Methoden
Andere Methoden wie die Flüssigphasenexfoliation und die kontrollierte Sublimation von SiC haben zwar ihre Grenzen, z. B. die geringe Ausbeute, die hohen Kosten oder die Unfähigkeit, großflächiges Graphen herzustellen. CVD hingegen ist skalierbar und kosteneffizient und eignet sich daher sowohl für die Forschung als auch für kommerzielle Anwendungen.
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