Technisches Team · Kintek Solution

Der Widerstand von CVD-Graphen, insbesondere sein Schichtwiderstand, beträgt typischerweise etwa 350 Ω/sq, wenn es auf einem Kupfersubstrat gewachsen ist, mit einer Transparenz von 90 %. Dieser Wert stellt eine erhebliche Verbesserung des Verhältnisses zwischen Transparenz und Schichtwiderstand im Vergleich zu undotiertem Graphen dar, das einen Schichtwiderstand von etwa 6 kΩ bei 98 % Transparenz aufweist.

Detaillierte Erläuterung:

1. Schichtwiderstand von CVD-Graphen: Der Schichtwiderstand von Graphen, das durch chemische Abscheidung aus der Gasphase (CVD) auf einem Kupfersubstrat hergestellt wird, beträgt 350 Ω/qm. Diese Messung wird unter Bedingungen vorgenommen, bei denen das Graphen eine hohe Transparenz, nämlich 90 %, aufweist. Der Schichtwiderstand ist ein kritischer Parameter für Anwendungen wie transparente leitfähige Schichten, bei denen ein Gleichgewicht zwischen Leitfähigkeit und Transparenz unerlässlich ist.

2. Vergleich mit undotiertem Graphen: Undotiertes Graphen, ein einatomiges, zweidimensionales kristallines Allotrop, weist einen Schichtwiderstand von etwa 6 kΩ bei 98 % Transparenz auf. Dieser höhere Widerstand im Vergleich zu CVD-Graphen auf Kupfer deutet darauf hin, dass das CVD-Verfahren die Leitfähigkeit von Graphen verbessern kann, ohne seine Transparenz wesentlich zu beeinträchtigen.

3. Einfluss der Schichtdicke: Der Schichtwiderstand von Graphen nimmt mit zunehmender Schichtdicke ab. Wenn sich die Schichten unabhängig voneinander verhalten, sollte der Schichtwiderstand hypothetisch konstant bleiben und mit dem eines mehrlagigen Films vergleichbar sein. Dies deutet darauf hin, dass das CVD-Verfahren optimiert werden kann, um die Anzahl der Schichten zu steuern und so den Schichtwiderstand an die spezifischen Anwendungsanforderungen anzupassen.

4. Anwendungen und Zukunftsperspektiven: CVD-Graphen wird in verschiedenen Anwendungen wie Sensoren, Touchscreens und Heizelementen eingesetzt. Es wird erwartet, dass die Entwicklung besserer Methoden für die Handhabung und die Senkung der Kosten der CVD-Graphenproduktion die Anwendungen weiter ausweiten wird. Die Fähigkeit, Graphen mit einer großen Oberfläche und guten elektrischen Eigenschaften herzustellen, macht CVD zu einer attraktiven Methode für industrielle Anwendungen.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass der Widerstand von CVD-Graphen, insbesondere sein Schichtwiderstand, deutlich geringer ist als der von undotiertem Graphen, was es zu einem vielversprechenden Material für transparente leitfähige Anwendungen macht. Die Möglichkeit, den Schichtwiderstand durch die Kontrolle der Anzahl der Schichten anzupassen, und die ständigen Verbesserungen der CVD-Techniken sind Schlüsselfaktoren für den Einsatz von CVD-Graphen in verschiedenen technischen Anwendungen.

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