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KinTek bietet eine Reihe von Laborverbrauchsmaterialien und -materialien an, darunter Verdampfungsmaterialien, Targets, Metalle, elektrochemische Teile sowie Pulver, Pellets, Drähte, Streifen, Folien, Platten und mehr.
Kupfer-Nickel-Indium-Legierung (CuNiIn) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-CuNiIn
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Aluminium-Kupfer-Legierung (AlCu).
Artikelnummer : LM-AlCu
Kobaltsilizid (CoSi2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-CoSi2
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Zirkonium-Silizium-Legierung (ZrSi).
Artikelnummer : LM-ZrSi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Silizium-Legierung (NiSi).
Artikelnummer : LM-NiSi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Zirkonium-Silber-Legierung (ZrAg).
Artikelnummer : LM-ZrAg
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Zinn-Wismuth-Silber-Legierung (SnBiAg).
Artikelnummer : LM-SnBiAg
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Chrom-Nickel-Legierung (CrNi).
Artikelnummer : LM-CrNi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Aluminium-Legierung (NiAl).
Artikelnummer : LM-NiAl
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Niob-Legierung (NiNb).
Artikelnummer : LM-NiNb
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Eisen-Nickel-Legierung (FeNi).
Artikelnummer : LM-FeNi
Mangan-Kobalt-Nickel-Legierung (MnCoNi) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-MnCoNi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Bornitrid (BN).
Artikelnummer : LM-BN
Aluminiumnitrid (AlN) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-AlN
Siliziumnitrid (Si3N4) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Si3N4
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titannitrid (TiN).
Artikelnummer : LM-TiN
Tantalnitrid (TaN) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TaN
Zinksulfid (ZnS) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ZnS
Molybdänsulfid (MoS2) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat
Artikelnummer : LM-MoS2
Zinnsulfid (SnS2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SnS2
Wolframsulfid (WS2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-WS2
Cadmiumsulfid (CdS) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat
Artikelnummer : LM-CdS
Borkarbid (B4C) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-B4C
Hafniumcarbid (HfC) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-HfC
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Wolframcarbid (WC).
Artikelnummer : LM-WC
Molybdänkarbid (Mo2C) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat
Artikelnummer : LM-Mo2C
Aluminiumborid (AlB2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-AlB2
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titankarbid (TiC).
Artikelnummer : LM-TiC
Borcarbid (BC) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-BC
Siliziumkarbid (SiC) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SiC
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Untersucht den Einsatz des heißisostatischen Pressens zur Herstellung hochwertiger Sputtertargets und die Anwendungen der PVD-Sputtertechnologie.
Dieser Artikel befasst sich mit der Herstellung und Optimierung von PVD-Sputtertargets, wobei der Schwerpunkt auf Techniken wie dem heißisostatischen Pressen und der Hochdruckwärmebehandlung liegt.
Ein Überblick über die Verwendung von isostatischem Graphit in verschiedenen Phasen der Photovoltaik-Produktion und seine Marktnachfrage.
Tauchen Sie ein in die Welt der Spark Plasma Sintering (SPS)-Öfen, ihre innovative Technologie und ihre Anwendungen in der Materialwissenschaft. Erfahren Sie, wie SPS-Öfen den Sinterprozess mit hoher Geschwindigkeit, Effizienz und Präzision revolutionieren.
Vorsichtsmaßnahmen beim Einbau von MoSi2-Heizelementen
Vorsichtsmaßnahmen für den Einbau von Siliziumkarbid-Stickstoff.
Erfahren Sie mehr über das wissenschaftliche Prinzip des Siebens, einschließlich des Verfahrens zur Trennung von Partikeln nach Größe und der Arten von Labortestsieben. Entdecken Sie, wie sich das Sieben auf verschiedene Branchen auswirkt und wie genau die Partikelgröße gemessen werden kann.
Entdecken Sie das transformative Potenzial von Molybdän-Vakuumöfen in der Luft- und Raumfahrt, der Automobilindustrie und verschiedenen anderen Branchen. Erfahren Sie mehr über ihre fortschrittlichen Merkmale, Anwendungen und Isolierungstechniken für Hochleistungsprozesse.
Entdecken Sie die Welt der Spark Plasma Sintering Furnaces (SPS). Dieser umfassende Leitfaden deckt alles ab, von den Vorteilen und Anwendungen bis hin zu Verfahren und Ausrüstung. Erfahren Sie, wie SPS-Öfen Ihren Sinterbetrieb revolutionieren können.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) und Heißisostatisches Pressen (HIP) sind zwei pulvermetallurgische Verfahren zur Herstellung dichter und hochwertiger Metallkomponenten.
Heißisostatisches Pressen (HIP) ist eine Technologie zur Verdichtung von Materialien bei hohen Temperaturen und Drücken. Bei diesem Verfahren wird ein Material in einen verschlossenen Behälter gegeben, der dann mit einem Inertgas unter Druck gesetzt und auf eine hohe Temperatur erhitzt wird.
Heißisostatisches Pressen (HIP) ist ein leistungsstarkes Herstellungsverfahren, das eine entscheidende Rolle bei der Erhöhung der Dichte keramischer Materialien und der Verringerung der Porosität von Metallen spielt. Es wird häufig in verschiedenen Branchen eingesetzt, darunter in der Luft- und Raumfahrt, der Pulvermetallurgie und der Komponentenherstellung.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) nutzt extrem hohe Drücke, um Produkte oder Kaltkompaktpulver zu sterilisieren. CIP ist besonders effektiv bei der Herstellung komplexer Formen und der Erhöhung der Enddichte von Materialien.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) ist ein Verfahren zum Verdichten von Pulvern in eine bestimmte Form oder Größe. Bei dieser Methode werden die Pulver in einem flüssigen Medium einem hohen Druck ausgesetzt, typischerweise zwischen 100 und 200 MPa.
Laborpressen sind ein unverzichtbares Werkzeug in Forschung und Entwicklung für eine Vielzahl von Branchen, darunter Pharmazie, Materialwissenschaft und Elektronik.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) ist eine Pulververdichtungstechnik, bei der aus allen Richtungen ein gleichmäßiger Druck auf einen mit Pulver gefüllten Behälter ausgeübt wird.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) ist eine Methode zur Verarbeitung von Materialien, bei der Flüssigkeitsdruck zum Verdichten von Pulver eingesetzt wird. Es ähnelt der Metallformverarbeitung und basiert auf dem Pascalschen Gesetz.
Warmisostatisches Pressen (WIP) ist eine Hochdrucktechnik, die zur Erhöhung der Dichte und zur Reduzierung von Materialfehlern eingesetzt wird. Dabei wird ein Material einem hohen Druck und einer hohen Temperatur ausgesetzt und gleichzeitig ein Inertgas zugeführt, das das Material gleichmäßig komprimiert.
Das isostatische Pressen ist ein Verfahren, das bei der Herstellung von Hochleistungswerkstoffen und -bauteilen eingesetzt wird. Dabei wird gleichmäßiger Druck auf alle Seiten eines Materials oder Teils ausgeübt, was zu einer gleichmäßigeren Dichte und besseren mechanischen Eigenschaften führt.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) ist ein Verfahren zum Verdichten und Verdichten von Pulvern, Keramik und Metallen. Bei diesem Verfahren werden Hochdruckflüssigkeiten, meist Wasser oder Öl, eingesetzt, um aus allen Richtungen einen gleichmäßigen Druck auf das Material auszuüben.