Wissen Was ist die Geschichte des Magnetronsputterns?
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Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 1 Woche

Was ist die Geschichte des Magnetronsputterns?

Die Geschichte des Magnetronsputterns reicht bis in die Mitte des 19. Jahrhunderts zurück, als die ersten Beobachtungen von Sputterphänomenen gemacht wurden. Jahrhunderts mit ersten Beobachtungen von Sputterphänomenen zurück. Erst Mitte des 20. Jahrhunderts wurde das Sputtern kommerziell relevant, insbesondere mit der Entwicklung des Diodensputterns in den 1940er Jahren. Der eigentliche Fortschritt in der Sputtertechnologie kam mit der Einführung des Magnetronsputterns in den 1970er Jahren, das die Effizienz und Anwendbarkeit des Verfahrens erheblich verbesserte.

Frühe Entwicklungen (1850er-1940er Jahre):

Das Sputtern wurde erstmals in den 1850er Jahren beobachtet, wo es für die Abscheidung von Refraktärmetallen verwendet wurde, die sich nicht durch thermische Verdampfung abscheiden ließen. Bei diesem Verfahren wurden Metallschichten mittels einer elektrischen Entladung auf einer kalten Kathode abgeschieden. Diese frühe Form der Kathodenzerstäubung wurde aufgrund ihrer geringen Effizienz und hohen Kosten nur begrenzt eingesetzt.Kommerzielle Bedeutung und Diodenzerstäubung (1940er-1960er Jahre):

In den 1940er Jahren wurde die Diodenzerstäubung eingeführt, die als Beschichtungsverfahren kommerzielle Anwendung fand. Trotz seiner anfänglichen Akzeptanz stand das Diodensputtern aufgrund seiner geringen Abscheidungsraten und hohen Kosten noch immer vor Herausforderungen, die seine breite Anwendung einschränkten.

Einführung des Magnetronsputterns (1970er Jahre):

Der eigentliche Durchbruch in der Sputtertechnologie erfolgte Mitte der 1970er Jahre mit der Entwicklung des Magnetronsputterns. Bei dieser Technik wird ein geschlossenes Magnetfeld über der Oberfläche des Targets angelegt, das die Effizienz der Plasmaerzeugung erhöht, indem es die Wahrscheinlichkeit von Zusammenstößen zwischen Elektronen und Argonatomen in der Nähe der Target-Oberfläche steigert. Durch diese Innovation konnten die Abscheideraten erheblich gesteigert und die Kosten gesenkt werden, so dass das Magnetronsputtern zu einer bevorzugten Methode für verschiedene Anwendungen in Branchen wie der Mikroelektronik und dem Architekturglas wurde.

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