Wissen Welche Substrate werden für die Dünnschichtabscheidung verwendet? Die 5 wichtigsten Materialien erklärt
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 3 Monaten

Welche Substrate werden für die Dünnschichtabscheidung verwendet? Die 5 wichtigsten Materialien erklärt

Bei der Dünnschichtabscheidung wird eine dünne Schicht eines Materials auf ein Substrat aufgebracht.

Die Wahl des Substratmaterials ist von entscheidender Bedeutung, da es sich direkt auf die Leistung und Funktionalität der Dünnschicht auswirkt.

Es gibt verschiedene Arten von Materialien, die üblicherweise für das Aufbringen von Dünnschichten verwendet werden, jedes mit seinen eigenen Vor- und Nachteilen.

5 Schlüsselmaterialien erklärt

Welche Substrate werden für die Dünnschichtabscheidung verwendet? Die 5 wichtigsten Materialien erklärt

1. Metalle

Metalle werden aufgrund ihrer Festigkeit, Haltbarkeit und einfachen Abscheidung auf Substraten häufig für die Dünnschichtabscheidung verwendet.

Sie werden besonders wegen ihrer ausgezeichneten thermischen und elektrischen Leitfähigkeit geschätzt und sind daher ideal für Anwendungen, die diese Eigenschaften erfordern.

Allerdings können die Kosten bestimmter Metalle ihre Verwendung in einigen Anwendungen einschränken.

2. Oxide

Oxide sind eine weitere wichtige Wahl für die Abscheidung dünner Schichten, vor allem wegen ihrer Härte und Beständigkeit gegen hohe Temperaturen.

Sie werden häufig als Schutzschichten in verschiedenen Anwendungen eingesetzt.

Trotz ihrer Vorteile können Oxide spröde und schwer zu bearbeiten sein, was ihre Verwendung in bestimmten Szenarien einschränken kann.

3. Verbindungen

Die bei der Dünnschichtabscheidung verwendeten Verbindungen sind so beschaffen, dass sie je nach den Anforderungen der Anwendung bestimmte Eigenschaften aufweisen.

Dazu können maßgeschneiderte elektrische, optische oder mechanische Eigenschaften gehören, was die Verbindungen für eine Vielzahl von Anwendungen vielseitig einsetzbar macht.

4. Halbleiter

Halbleiterwafer werden häufig als Substrate für die Abscheidung von Dünnschichten verwendet, insbesondere in der Elektronikindustrie.

Sie bieten eine stabile und leitfähige Grundlage für die Abscheidung von Dünnschichten.

5. Optische Komponenten

Optische Komponenten wie Linsen und Spiegel werden ebenfalls als Substrate für die Dünnschichtabscheidung verwendet.

Diese Substrate werden häufig mit dünnen Schichten beschichtet, um ihre optischen Eigenschaften zu verbessern.

Erforschen Sie weiter, konsultieren Sie unsere Experten

Verbessern Sie Ihre Dünnschichtabscheidung mit Präzision und Leistung!

KINTEK SOLUTION bietet ein umfassendes Angebot an hochwertigen Substraten aus Metallen, Oxiden und Verbundwerkstoffen - jedes einzelne sorgfältig entwickelt, um die einzigartigen Anforderungen Ihrer Anwendung zu erfüllen.

Unsere von Experten ausgewählten Materialien bieten unvergleichliche thermische, elektrische und mechanische Eigenschaften, die sicherstellen, dass Ihre Dünnschichtlösungen die Erwartungen übertreffen.

Entdecken Sie noch heute den KINTEK-Unterschied und bringen Sie Ihre Technologie auf ein neues Niveau!

Kontaktieren Sie uns jetzt um sich mit unseren Experten zu beraten und das perfekte Substrat für Ihre Anforderungen bei der Dünnschichtabscheidung zu finden.

Ähnliche Produkte

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

Fenster/Substrat/optische Linse aus Zinkselenid (ZnSe).

Fenster/Substrat/optische Linse aus Zinkselenid (ZnSe).

Zinkselenid entsteht durch die Synthese von Zinkdampf mit H2Se-Gas, was zu schichtförmigen Ablagerungen auf Graphitsuszeptoren führt.

Infrarot-Transmissionsbeschichtung, Saphirfolie/Saphirsubstrat/Saphirfenster

Infrarot-Transmissionsbeschichtung, Saphirfolie/Saphirsubstrat/Saphirfenster

Das aus Saphir gefertigte Substrat verfügt über beispiellose chemische, optische und physikalische Eigenschaften. Seine bemerkenswerte Beständigkeit gegenüber Thermoschocks, hohen Temperaturen, Sanderosion und Wasser zeichnet es aus.

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung: Überlegene Wärmeleitfähigkeit, Kristallqualität und Haftung für Schneidwerkzeuge, Reibung und akustische Anwendungen

Kohlepapier für Batterien

Kohlepapier für Batterien

Dünne Protonenaustauschmembran mit geringem Widerstand; hohe Protonenleitfähigkeit; niedrige Wasserstoffpermeationsstromdichte; langes Leben; Geeignet für Elektrolytseparatoren in Wasserstoff-Brennstoffzellen und elektrochemischen Sensoren.

MgF2-Magnesiumfluorid-Kristallsubstrat / Fenster / Salzplatte

MgF2-Magnesiumfluorid-Kristallsubstrat / Fenster / Salzplatte

Magnesiumfluorid (MgF2) ist ein tetragonaler Kristall, der Anisotropie aufweist, weshalb es bei der Präzisionsbildgebung und Signalübertragung unbedingt erforderlich ist, ihn als Einkristall zu behandeln.

Graphit-Verdampfungstiegel

Graphit-Verdampfungstiegel

Gefäße für Hochtemperaturanwendungen, bei denen Materialien zum Verdampfen bei extrem hohen Temperaturen gehalten werden, wodurch dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden können.

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.

Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung

Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung

Beim Einsatz von Elektronenstrahlverdampfungstechniken minimiert der Einsatz von sauerstofffreien Kupfertiegeln das Risiko einer Sauerstoffverunreinigung während des Verdampfungsprozesses.

Verdampferschiffchen aus aluminisierter Keramik

Verdampferschiffchen aus aluminisierter Keramik

Gefäß zum Aufbringen dünner Schichten; verfügt über einen aluminiumbeschichteten Keramikkörper für verbesserte thermische Effizienz und chemische Beständigkeit. wodurch es für verschiedene Anwendungen geeignet ist.

Hochreine Metallbleche – Gold/Platin/Kupfer/Eisen usw.

Hochreine Metallbleche – Gold/Platin/Kupfer/Eisen usw.

Erweitern Sie Ihre Experimente mit unserem hochreinen Blech. Gold, Platin, Kupfer, Eisen und mehr. Perfekt für die Elektrochemie und andere Bereiche.

Elektronenkanonenstrahltiegel

Elektronenkanonenstrahltiegel

Im Zusammenhang mit der Elektronenstrahlverdampfung ist ein Tiegel ein Behälter oder Quellenhalter, der dazu dient, das auf einem Substrat abzuscheidende Material aufzunehmen und zu verdampfen.

Goldblechelektrode

Goldblechelektrode

Entdecken Sie hochwertige Goldblechelektroden für sichere und langlebige elektrochemische Experimente. Wählen Sie aus kompletten Modellen oder passen Sie sie an Ihre spezifischen Bedürfnisse an.

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Kohlenstoff (C).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Kohlenstoff (C).

Suchen Sie nach erschwinglichen Kohlenstoff (C)-Materialien für Ihren Laborbedarf? Suchen Sie nicht weiter! Unsere fachmännisch hergestellten und maßgeschneiderten Materialien sind in verschiedenen Formen, Größen und Reinheiten erhältlich. Wählen Sie aus Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.

Hochreines Eisen (Fe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Eisen (Fe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach erschwinglichen Eisenmaterialien (Fe) für den Laborgebrauch? Unser Produktsortiment umfasst Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr in verschiedenen Spezifikationen und Größen, maßgeschneidert auf Ihre spezifischen Bedürfnisse. Kontaktiere uns heute!

Sonderformteile aus Aluminiumoxid-Zirkonoxid, die maßgeschneiderte Keramikplatten verarbeiten

Sonderformteile aus Aluminiumoxid-Zirkonoxid, die maßgeschneiderte Keramikplatten verarbeiten

Aluminiumoxidkeramik weist eine gute elektrische Leitfähigkeit, mechanische Festigkeit und hohe Temperaturbeständigkeit auf, während Zirkonoxidkeramik für ihre hohe Festigkeit und hohe Zähigkeit bekannt ist und weit verbreitet ist.

Kupferschaum

Kupferschaum

Kupferschaum hat eine gute Wärmeleitfähigkeit und kann in großem Umfang zur Wärmeleitung und Wärmeableitung von Motoren/Elektrogeräten und elektronischen Bauteilen verwendet werden.

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Isostatischer Kohlenstoffgraphit wird aus hochreinem Graphit gepresst. Es ist ein ausgezeichnetes Material für die Herstellung von Raketendüsen, Verzögerungsmaterialien und reflektierenden Graphitmaterialien für Reaktoren.

Thermisch verdampfter Wolframdraht

Thermisch verdampfter Wolframdraht

Es verfügt über einen hohen Schmelzpunkt, thermische und elektrische Leitfähigkeit sowie Korrosionsbeständigkeit. Es ist ein wertvolles Material für Hochtemperatur-, Vakuum- und andere Industrien.

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titannitrid (TiN).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titannitrid (TiN).

Suchen Sie nach erschwinglichen Titannitrid (TiN)-Materialien für Ihr Labor? Unsere Expertise liegt in der Herstellung maßgeschneiderter Materialien in verschiedenen Formen und Größen, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Wir bieten eine breite Palette an Spezifikationen und Größen für Sputtertargets, Beschichtungen und mehr.

PTFE-Isolator

PTFE-Isolator

PTFE-Isolator PTFE verfügt über hervorragende elektrische Isolationseigenschaften in einem weiten Temperatur- und Frequenzbereich.

Aluminiumoxid (Al2O3) Keramik-Kühlkörper – Isolierung

Aluminiumoxid (Al2O3) Keramik-Kühlkörper – Isolierung

Die Lochstruktur des Keramikkühlkörpers vergrößert die Wärmeableitungsfläche im Kontakt mit der Luft, was den Wärmeableitungseffekt erheblich verbessert und der Wärmeableitungseffekt besser ist als der von Superkupfer und Aluminium.

Teflonschaufel / PTFE-Spatel

Teflonschaufel / PTFE-Spatel

PTFE ist ein vielseitiges thermoplastisches Material, das für seine hervorragende thermische Stabilität, chemische Beständigkeit und elektrischen Isoliereigenschaften bekannt ist.

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Der Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit hat eine gleichmäßige Temperatur, einen geringen Energieverbrauch und kann kontinuierlich betrieben werden.

Siliziumnitrid (SiNi) Keramische Bleche Präzisionsbearbeitung Keramik

Siliziumnitrid (SiNi) Keramische Bleche Präzisionsbearbeitung Keramik

Siliciumnitridplatten sind aufgrund ihrer gleichmäßigen Leistung bei hohen Temperaturen ein häufig verwendetes keramisches Material in der metallurgischen Industrie.

Flacher/gewellter Kühlkörper aus Siliziumkarbid (SIC)-Keramikplatte

Flacher/gewellter Kühlkörper aus Siliziumkarbid (SIC)-Keramikplatte

Der keramische Kühlkörper aus Siliziumkarbid (sic) erzeugt nicht nur keine elektromagnetischen Wellen, sondern kann auch elektromagnetische Wellen isolieren und einen Teil der elektromagnetischen Wellen absorbieren.

Bornitrid (BN) Keramik-leitfähiger Verbundwerkstoff

Bornitrid (BN) Keramik-leitfähiger Verbundwerkstoff

Aufgrund der Eigenschaften von Bornitrid selbst sind die Dielektrizitätskonstante und der dielektrische Verlust sehr gering, sodass es sich um ein ideales elektrisches Isoliermaterial handelt.

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Titan (Ti).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Titan (Ti).

Kaufen Sie hochwertige Titan (Ti)-Materialien zu günstigen Preisen für den Laborgebrauch. Finden Sie eine große Auswahl an maßgeschneiderten Produkten, die Ihren individuellen Anforderungen gerecht werden, darunter Sputtertargets, Beschichtungen, Pulver und mehr.

Hochreines Indiumzinnoxid (ITO)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Indiumzinnoxid (ITO)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie hochwertige Indium-Zinn-Oxid (ITO)-Sputtertargets für Ihren Laborbedarf zu angemessenen Preisen. Unsere maßgeschneiderten Optionen in verschiedenen Formen und Größen gehen auf Ihre individuellen Anforderungen ein. Stöbern Sie noch heute in unserem Sortiment.

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titankarbid (TiC).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titankarbid (TiC).

Erhalten Sie hochwertige Titancarbid (TiC)-Materialien zu erschwinglichen Preisen für Ihr Labor. Wir bieten eine große Auswahl an Formen und Größen, darunter Sputtertargets, Pulver und mehr. Auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten.

Iithiumtitanat (LiTiO3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat

Iithiumtitanat (LiTiO3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat

Erhalten Sie hochwertige Iithiumtitanat (LiTiO3)-Materialien für Ihr Labor zu günstigen Preisen. Unsere maßgeschneiderten Lösungen decken unterschiedliche Reinheiten, Formen und Größen ab, darunter Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr. Jetzt bestellen!


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht