CVD- und PECVD-Ofen
Chemische Gasphasenabscheidung CVD-Anlagenkammer-Schiebe-PECVD-Rohröfen mit Flüssiggasifikator PECVD-Maschine
Artikelnummer : KT-PE12
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Maximale Temperatur
- 1200 ℃
- Konstante Arbeitstemperatur
- 1100 ℃
- Ofenrohrdurchmesser
- 60 mm
- Heizzonenlänge
- 1x450 mm
- Aufheizgeschwindigkeit
- 0-20 ℃/min
- Gleitweg
- 600mm
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Einleitung
Die PECVD-Rohröfen-Schiebemaschine mit Flüssiggasifikator ist ein vielseitiges und leistungsstarkes System für eine breite Palette von Dünnschichtabscheidungsanwendungen. Sie verfügt über eine 500-W-HF-Plasmasquelle, einen herausziehbaren Ofen, eine präzise Gasflussregelung und eine Vakuumstation. Das System bietet Vorteile wie automatische Plasmaanpassung, Hochgeschwindigkeits-Aufheizen und -Abkühlen, programmierbare Temperaturregelung und eine benutzerfreundliche Oberfläche. Es wird häufig in Forschungs- und Produktionsumgebungen für die Abscheidung von Dünnschichten in verschiedenen Branchen eingesetzt, darunter Elektronik, Halbleiter und Optik.
Anwendungen
Die PECVD-Rohröfen-Schiebemaschine mit Flüssiggasifikator findet ihre Anwendungen in:
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
- Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
- Dünnschichtabscheidung
- Herstellung von Solarzellen
- Halbleiterverarbeitung
- Nanotechnologie
- Materialwissenschaft
- Forschung und Entwicklung
Verschiedene CVD-Systeme mit unterschiedlichen Temperaturen und Aufbauten verfügbar
Prinzip
Die PECVD-Rohröfen-Schiebemaschine mit Flüssiggasifikator verwendet Niedertemperaturplasma, um eine Glimmentladung in der Kathode (Probenhalter) der Prozesskammer zu erzeugen. Die Glimmentladung (oder eine andere Wärmequelle) erhöht die Temperatur der Probe auf ein vordefiniertes Niveau. Anschließend werden kontrollierte Mengen an Prozessgas zugeführt, die chemischen und Plasma-Reaktionen eingehen, um einen festen Film auf der Oberfläche der Probe zu bilden.
Merkmale
Die PECVD-Rohröfen-Schiebemaschine mit Flüssiggasifikator bietet zahlreiche Vorteile für die Benutzer:
- Verbesserte Energieerzeugung für Solarzellen-Wafer: Die innovative Graphittiegelstruktur verbessert die Leistung von Solarzellen erheblich.
- Beseitigung von Farbunterschieden bei röhrenförmigen PECVD-Zellen: Diese Ausrüstung behebt effektiv das Problem der Farbabweichungen bei röhrenförmigen PECVD-Zellen.
- Großer Ausgangsleistungsbereich (5-500 W): Die automatische HF-Plasma-Anpassungsquelle bietet einen vielseitigen Bereich an Ausgangsleistung und gewährleistet eine optimale Leistung für verschiedene Anwendungen.
- Schnelles Aufheizen und Abkühlen: Das Schiebesystem der Ofenkammer ermöglicht schnelles Aufheizen und Abkühlen und reduziert die Prozesszeit. Zusätzliche Zwangsluftzirkulation beschleunigt die Kühlrate weiter.
- Automatisierte Schiebebewegung: Die optionale Schiebebewegungsfunktion ermöglicht den automatischen Betrieb, erhöht die Effizienz und reduziert manuelle Eingriffe.
- Präzise Temperaturregelung: Die PID-programmierbare Temperaturregelung sorgt für eine genaue Temperaturregelung und unterstützt die Fern- und Zentralsteuerung für zusätzlichen Komfort.
- Hochpräzise MFC-Massendurchflussmesser-Regelung: Der MFC-Massendurchflussmesser steuert präzise die Prozessgase und gewährleistet eine stabile und konsistente Gaszufuhr.
- Vielseitige Vakuumstation: Der Vakuumflansch aus Edelstahl mit mehreren Anschlussmöglichkeiten ermöglicht verschiedene Konfigurationen der Vakuumpumpstation und gewährleistet einen hohen Vakuumgrad.
- Benutzerfreundliche Oberfläche: Der CTF Pro 7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller vereinfacht die Programmeinstellung und ermöglicht eine einfache Analyse historischer Daten.
Vorteile
- Automatische HF-Plasma-Anpassungsquelle, großer stabiler Ausgangsleistungsbereich von 5-500 W
- Ofenkammer-Schiebesystem für schnelles Aufheizen und kurze Abkühlzeiten, zusätzliche schnelle Kühlung und automatische Schiebebewegung sind verfügbar
- PID-programmierbare Temperaturregelung, ausgezeichnete Regelgenauigkeit und Unterstützung für Fern- und Zentralsteuerung
- Hochpräzise MFC-Massendurchflussmesser-Regelung, Vormischung der Prozessgase und stabile Gaszufuhrgeschwindigkeit
- Vakuumflansch aus Edelstahl mit verschiedenen Anschlussmöglichkeiten für unterschiedliche Vakuumpumpenkonfigurationen, gute Abdichtung und hoher Vakuumgrad
- CTF Pro verwendet einen 7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller, benutzerfreundlichere Programmeinstellung und Analyse historischer Daten
Sicherheitsvorteil
- Die Röhrenöfen von Kindle Tech verfügen über einen Überstromschutz und eine Übertemperaturalarmfunktion, der Ofen schaltet die Stromversorgung automatisch ab
- Der Ofen verfügt über eine integrierte Thermoelement-Erfassungsfunktion, der Ofen stoppt die Heizung und ein Alarm wird ausgelöst, sobald ein Bruch oder Ausfall erkannt wird
- PE Pro unterstützt die Funktion zum Neustart nach Stromausfall, der Ofen setzt das Heizprogramm fort, wenn nach einem Ausfall wieder Strom anliegt
Technische Spezifikationen
| Ofenmodell | KT-PE12-60 |
| Max. Temperatur | 1200℃ |
| Konstante Arbeitstemperatur | 1100℃ |
| Material des Ofenrohrs | Hochreines Quarzglas |
| Durchmesser des Ofenrohrs | 60 mm |
| Länge der Heizzone | 1x450 mm |
| Material der Kammer | Japanische Aluminiumoxidfaser |
| Heizelement | Cr2Al2Mo2 Drahtspule |
| Aufheizrate | 0-20℃/min |
| Thermoelement | Integriert Typ K |
| Temperaturregler | Digitaler PID-Regler/Touchscreen-PID-Regler |
| Genauigkeit der Temperaturregelung | ±1℃ |
| Schiebeweg | 600 mm |
| HF-Plasmaeinheit | |
| Ausgangsleistung | 5 -500 W einstellbar mit ± 1 % Stabilität |
| HF-Frequenz | 13,56 MHz ±0,005 % Stabilität |
| Reflektierte Leistung | Max. 350 W |
| Anpassung | Automatisch |
| Geräuschpegel | < 50 dB |
| Kühlung | Luftkühlung. |
| Präzise Gasregelungs-Einheit | |
| Durchflussmesser | MFC-Massendurchflussmesser |
| Gaskanäle | 4 Kanäle |
| Durchflussrate | MFC1: 0-5 SCCM O2 MFC2: 0-20 SCCM CH4 MFC3: 0- 100 SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearität | ±0,5 % F.S. |
| Wiederholgenauigkeit | ±0,2 % F.S. |
| Rohrleitung und Ventil | Edelstahl |
| Maximaler Betriebsdruck | 0,45 MPa |
| Durchflussmesserregler | Digitaler Drehknopf-Regler/Touchscreen-Regler |
| Standard-Vakuum-Einheit (optional) | |
| Vakuumpumpe | Rotationsschieber-Vakuumpumpe |
| Pumpenflussrate | 4 L/S |
| Vakuumanschluss | KF25 |
| Vakuummeter | Pirani/Widerstands-Silizium-Vakuummeter |
| Nenn-Vakuumdruck | 10 Pa |
| Hochvakuum-Einheit (optional) | |
| Vakuumpumpe | Rotationsschieberpumpe + Molekularpumpe |
| Pumpenflussrate | 4 L/S + 110 L/S |
| Vakuumanschluss | KF25 |
| Vakuummeter | Compound-Vakuummeter |
| Nenn-Vakuumdruck | 6x10-4 Pa |
| Obige Spezifikationen und Konfigurationen können angepasst werden | |
Standardpaket
| Nr. | Beschreibung | Menge |
| 1 | Ofen | 1 |
| 2 | Quarzrohr | 1 |
| 3 | Vakuumflansch | 2 |
| 4 | Rohr-Wärmeblock | 2 |
| 5 | Rohr-Wärmeblock-Haken | 1 |
| 6 | Hitzebeständige Handschuhe | 1 |
| 7 | HF-Plasmasquelle | 1 |
| 8 | Präzise Gasregelung | 1 |
| 9 | Vakuum-Einheit | 1 |
| 10 | Bedienungsanleitung | 1 |
Optionale Konfiguration
- In-Rohr-Gaserfassung und -Überwachung, z.B. H2, O2 usw.
- Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
- RS 485-Kommunikationsport für PC-Fernsteuerung und Datenexport
- Einspeisung von Einlassgasen mit Durchflussregelung, z.B. Massendurchflussmesser und Schwimmkörper-Durchflussmesser
- Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, benutzerfreundlichen Funktionen
- Hochvakuum-Pumpenkonfigurationen, z.B. Drehschieberpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe
Warnungen
Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.
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FAQ
Was Ist Die PECVD-Methode?
Was Ist Mpcvd?
Wofür Wird PECVD Verwendet?
Was Ist Eine Mpcvd-Maschine?
Was Sind Die Vorteile Von PECVD?
Was Sind Die Vorteile Von Mpcvd?
Was Ist Der Unterschied Zwischen ALD Und PECVD?
Sind CVD-Diamanten Echt Oder Gefälscht?
Was Ist Der Unterschied Zwischen PECVD Und Sputtern?
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