Wissen Welche Methoden gibt es zur Herstellung von Graphen? (4 Schlüsselmethoden erklärt)
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 4 Wochen

Welche Methoden gibt es zur Herstellung von Graphen? (4 Schlüsselmethoden erklärt)

Die Methoden zur Herstellung von Graphen lassen sich grob in zwei Kategorien einteilen: "Top-down"- und "Bottom-up"-Methoden.

Der "Top-down"-Ansatz umfasst die Exfoliation von Graphit.

Bei der "Bottom-up"-Methode wird Graphen aus gasförmigen Kohlenstoffquellen gewonnen, hauptsächlich durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD).

4 Schlüsselmethoden werden erklärt

Welche Methoden gibt es zur Herstellung von Graphen? (4 Schlüsselmethoden erklärt)

1. Top-Down-Methoden

Bei der "Top-Down"-Methode wird Graphit in erster Linie mechanisch oder chemisch abgeschält, um Graphenschichten zu isolieren.

Diese Methode wird häufig zur Herstellung von Graphenpulvern und -nanopartikeln verwendet.

Diese Produkte finden breite Anwendung in Bereichen wie Energiespeicherung, Polymerverbundwerkstoffe, Beschichtungen und Wärmemanagement.

Der "Top-down"-Ansatz hat den Vorteil, dass er einfach ist und Graphen in Pulverform hergestellt werden kann, das sich leicht in verschiedenen Medien dispergieren lässt.

2. Bottom-Up-Methoden

Die "Bottom-up"-Methode, insbesondere CVD, ist die beliebteste und industriell relevanteste Technik zur Herstellung von hochwertigem Graphen.

Bei der CVD-Methode wird ein kohlenstoffhaltiges Gas bei hohen Temperaturen auf einem Metallsubstrat zersetzt, gefolgt von einem Abkühlungsprozess, bei dem die Kohlenstoffatome Graphenschichten auf der Oberfläche bilden.

Mit dieser Methode lassen sich großflächige, gleichmäßige Graphenschichten herstellen, die für Anwendungen in der Elektronik unerlässlich sind.

Das CVD-Verfahren erfordert eine sorgfältige Kontrolle von Parametern wie Gasmenge, Druck, Temperatur und Zeitdauer, um die Qualität des erzeugten Graphens zu gewährleisten.

Jüngste Fortschritte bei der CVD, wie die Verwendung von Kupferfolien und Rolle-zu-Rolle (R2R)-Verfahren, haben die Massenproduktion von Graphenschichten mit praktisch unbegrenzter Länge und begrenzter Breite ermöglicht, was sie für großtechnische Anwendungen geeignet macht.

3. Sublimation von Siliziumkarbid (SiC)

Die Sublimation von SiC ist eine kostspielige Methode, bei der SiC auf hohe Temperaturen erhitzt wird, um Silizium zu entfernen und eine Graphenschicht zu hinterlassen.

4. Mechanische Exfoliation

Die mechanische Exfoliation, die von Geim und Novoselov demonstriert wurde, wird aufgrund ihrer begrenzten Skalierbarkeit hauptsächlich für grundlegende Studien und Forschungsarbeiten verwendet.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass es für die Herstellung von Graphen eine Vielzahl von Methoden gibt, die jeweils ihre eigenen Vorteile und Grenzen haben.

Die Wahl der Methode hängt von der gewünschten Anwendung und dem erforderlichen Produktionsmaßstab ab.

Die CVD-Methode ist die vielversprechendste Methode für die großtechnische Herstellung von hochwertigem Graphen, insbesondere für elektronische Anwendungen.

Top-down"-Methoden eignen sich eher für Anwendungen, bei denen Graphen in Form von Pulver oder Nanopartikeln benötigt wird.

Erforschen Sie weiter, fragen Sie unsere Experten

Entdecken Sie mit dem umfassenden Angebot an Graphenpräparationslösungen von KINTEK SOLUTION die zukunftsweisenden Materialien, die die Zukunft prägen!

Ganz gleich, ob Sie die Präzision der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) für großflächige Graphenschichten oder die Vielseitigkeit der Top-Down-Methoden für fortschrittliche Pulver- und Nanopartikelanwendungen suchen, unsere hochmodernen Technologien sind darauf ausgelegt, Ihre individuellen Produktions- und Forschungsanforderungen zu erfüllen.

Erleben Sie den Unterschied mit KINTEK SOLUTION - Ihrem Partner für innovative Graphen-Materialforschung.

Entdecken Sie noch heute unsere Produkte und verbessern Sie Ihre Anwendungen mit erstklassigen Graphenlösungen!

Ähnliche Produkte

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Eine Technologie, die hauptsächlich im Bereich der Leistungselektronik eingesetzt wird. Dabei handelt es sich um eine Graphitfolie, die durch Materialabscheidung mittels Elektronenstrahltechnologie aus Kohlenstoffquellenmaterial hergestellt wird.

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Isostatischer Kohlenstoffgraphit wird aus hochreinem Graphit gepresst. Es ist ein ausgezeichnetes Material für die Herstellung von Raketendüsen, Verzögerungsmaterialien und reflektierenden Graphitmaterialien für Reaktoren.

Horizontaler Hochtemperatur-Graphitisierungsofen

Horizontaler Hochtemperatur-Graphitisierungsofen

Horizontaler Graphitisierungsofen: Bei diesem Ofentyp sind die Heizelemente horizontal angeordnet, was eine gleichmäßige Erwärmung der Probe ermöglicht. Es eignet sich gut zum Graphitisieren großer oder sperriger Proben, die eine präzise Temperaturkontrolle und Gleichmäßigkeit erfordern.

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen, eine maßgeschneiderte Lösung für Universitäten und Forschungseinrichtungen mit hoher Heizeffizienz, Benutzerfreundlichkeit und präziser Temperaturregelung.

Ultrahochtemperatur-Graphitisierungsofen

Ultrahochtemperatur-Graphitisierungsofen

Der Ultrahochtemperatur-Graphitisierungsofen nutzt Mittelfrequenz-Induktionserwärmung in einer Vakuum- oder Inertgasumgebung. Die Induktionsspule erzeugt ein magnetisches Wechselfeld, das Wirbelströme im Graphittiegel induziert, der sich erwärmt und Wärme an das Werkstück abstrahlt, wodurch es auf die gewünschte Temperatur gebracht wird. Dieser Ofen wird hauptsächlich zum Graphitieren und Sintern von Kohlenstoffmaterialien, Kohlenstofffasermaterialien und anderen Verbundmaterialien verwendet.

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.

Großer vertikaler Graphitisierungsofen

Großer vertikaler Graphitisierungsofen

Ein großer vertikaler Hochtemperatur-Graphitisierungsofen ist eine Art Industrieofen, der zur Graphitisierung von Kohlenstoffmaterialien wie Kohlenstofffasern und Ruß verwendet wird. Es handelt sich um einen Hochtemperaturofen, der Temperaturen von bis zu 3100°C erreichen kann.

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Das Ziehwerkzeug für die Nano-Diamant-Verbundbeschichtung verwendet Sinterkarbid (WC-Co) als Substrat und nutzt die chemische Gasphasenmethode (kurz CVD-Methode), um die herkömmliche Diamant- und Nano-Diamant-Verbundbeschichtung auf die Oberfläche des Innenlochs der Form aufzubringen.

Kontinuierlicher Graphitierungsofen

Kontinuierlicher Graphitierungsofen

Der Hochtemperatur-Graphitisierungsofen ist eine professionelle Ausrüstung zur Graphitisierungsbehandlung von Kohlenstoffmaterialien. Es handelt sich um eine Schlüsselausrüstung für die Herstellung hochwertiger Graphitprodukte. Es verfügt über eine hohe Temperatur, einen hohen Wirkungsgrad und eine gleichmäßige Erwärmung. Es eignet sich für verschiedene Hochtemperaturbehandlungen und Graphitierungsbehandlungen. Es wird häufig in der Metallurgie-, Elektronik-, Luft- und Raumfahrtindustrie usw. eingesetzt.

Negativmaterial-Graphitisierungsofen

Negativmaterial-Graphitisierungsofen

Der Graphitisierungsofen für die Batterieproduktion hat eine gleichmäßige Temperatur und einen geringen Energieverbrauch. Graphitisierungsofen für negative Elektrodenmaterialien: eine effiziente Graphitisierungslösung für die Batterieproduktion und erweiterte Funktionen zur Verbesserung der Batterieleistung.

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Der Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit hat eine gleichmäßige Temperatur, einen geringen Energieverbrauch und kann kontinuierlich betrieben werden.

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Informieren Sie sich über die MPCVD-Maschine mit zylindrischem Resonator, das Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma, das für die Herstellung von Diamantsteinen und -filmen in der Schmuck- und Halbleiterindustrie verwendet wird. Entdecken Sie die kosteneffektiven Vorteile gegenüber den traditionellen HPHT-Methoden.

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung: Überlegene Wärmeleitfähigkeit, Kristallqualität und Haftung für Schneidwerkzeuge, Reibung und akustische Anwendungen

Graphit-Verdampfungstiegel

Graphit-Verdampfungstiegel

Gefäße für Hochtemperaturanwendungen, bei denen Materialien zum Verdampfen bei extrem hohen Temperaturen gehalten werden, wodurch dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden können.

915MHz MPCVD Diamant-Maschine

915MHz MPCVD Diamant-Maschine

915MHz MPCVD-Diamant-Maschine und seine Multi-Kristall effektives Wachstum, die maximale Fläche kann 8 Zoll erreichen, die maximale effektive Wachstumsfläche von Einkristall kann 5 Zoll erreichen. Diese Ausrüstung wird hauptsächlich für die Produktion von großformatigen polykristallinen Diamantfilmen, das Wachstum von langen Einkristalldiamanten, das Niedertemperaturwachstum von hochwertigem Graphen und anderen Materialien verwendet, die Energie benötigen, die durch Mikrowellenplasma für das Wachstum bereitgestellt wird.

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Erhalten Sie hochwertige Diamantfilme mit unserer Bell-jar-Resonator-MPCVD-Maschine, die für Labor- und Diamantwachstum konzipiert ist. Entdecken Sie, wie die chemische Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma beim Züchten von Diamanten mithilfe von Kohlenstoffgas und Plasma funktioniert.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht