Wissen Was ist die Siliziumkarbid-Methode? 5 wichtige Punkte zum Verstehen
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 2 Monaten

Was ist die Siliziumkarbid-Methode? 5 wichtige Punkte zum Verstehen

Siliciumcarbid (SiC) ist eine synthetisch hergestellte Verbindung aus Silicium und Kohlenstoff, die für ihre außergewöhnliche Härte und Wärmeleitfähigkeit bekannt ist.

Für die Herstellung von Siliciumcarbid sind mehrere industrielle Verfahren erforderlich, darunter Sintern, Reaktionsbinden, Kristallwachstum und chemische Gasphasenabscheidung (CVD).

Die gängigsten industriellen Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbidpulver sind die Acheson-Methode, die karbothermische Reduktion von Siliciumdioxid bei niedriger Temperatur und die direkte Silicium-Kohlenstoff-Reaktion.

Bei der Acheson-Methode handelt es sich um die traditionelle carbothermische Reduktionsmethode, bei der Quarzsand oder Quarzerz bei hohen Temperaturen mit Petrolkoks oder Graphit reagiert.

SiC existiert in zwei primären Kristallformen, α und β, wobei β-SiC ein kubisches Kristallsystem ist und α-SiC mehrere Polytypen wie 4H, 15R und 6H aufweist.

Die Umwandlung zwischen diesen Formen ist temperaturabhängig, wobei β-SiC unter 1600°C stabil ist und sich bei höheren Temperaturen in α-SiC umwandelt.

Die Anwendungen von Siliciumcarbid sind vielfältig und reichen von traditionellen Anwendungen in der Keramik, in feuerfesten Materialien und beim Schleifen bis hin zu fortschrittlicheren Anwendungen in Halbleitern und leitfähigen Keramiken.

In der Halbleiterindustrie wird Siliciumcarbid wegen seiner hohen Härte, seines geringen Verschleißes und seiner Kompatibilität mit Siliciumwafern geschätzt, was es ideal für den Einsatz in Schleifscheiben und -vorrichtungen macht.

Darüber hinaus machen die Eigenschaften von SiC - große Bandlücke, hohe Wärmeleitfähigkeit und hohe Sättigungsbeweglichkeit der Elektronen - es zu einem hervorragenden Material für Leistungshalbleiter, das die Einschränkungen herkömmlicher Halbleitermaterialien wie Silizium und Galliumarsenid ausgleicht.

Die chemische Gasphasenabscheidung ist für die Herstellung von Siliciumcarbid für die Elektronik besonders wichtig, da sie das Wachstum relativ dicker, verunreinigungsfreier SiC-Kristalle auf Siliciumwafersubstraten ermöglicht.

Dieser Prozess ist entscheidend für die Entwicklung hochwertiger SiC-Kristalle, die in verschiedenen elektronischen Bauteilen verwendet werden.

Insgesamt beinhaltet das Siliziumkarbid-Verfahren eine präzise Steuerung chemischer Reaktionen und Temperaturen, um ein Material mit einzigartigen Eigenschaften zu synthetisieren, die in zahlreichen Branchen von Nutzen sind.

Die Herstellung und Anwendung von Siliciumcarbid entwickelt sich aufgrund des technischen Fortschritts und der steigenden Nachfrage nach Hochleistungswerkstoffen in der Elektronik und anderen Bereichen ständig weiter.

Erforschen Sie weiter, konsultieren Sie unsere Experten

Was ist die Siliziumkarbid-Methode? 5 wichtige Punkte zum Verstehen

Entdecken Sie die bahnbrechenden Möglichkeiten der überlegenen Siliziumkarbid-Produkte von KINTEK SOLUTION. Setzen Sie auf Innovation mit unseren präzisionsgefertigten SiC-Materialien, die sich ideal für die anspruchsvollsten Anwendungen in der Elektronik, Halbleiterindustrie und darüber hinaus eignen. Vertrauen Sie auf unser Fachwissen, um Materialien höchster Qualität zu liefern, die den technologischen Fortschritt vorantreiben. Bringen Sie Ihre Projekte auf ein neues Niveau - werden Sie noch heute Mitglied der KINTEK SOLUTION Familie!

Ähnliche Produkte

Siliziumkarbid (SIC)-Keramikplatte

Siliziumkarbid (SIC)-Keramikplatte

Siliziumnitrid (sic)-Keramik ist eine Keramik aus anorganischem Material, die beim Sintern nicht schrumpft. Es handelt sich um eine hochfeste kovalente Bindungsverbindung mit geringer Dichte und hoher Temperaturbeständigkeit.

Siliziumkarbid(SiC)-Heizelement

Siliziumkarbid(SiC)-Heizelement

Erleben Sie die Vorteile von Heizelementen aus Siliziumkarbid (SiC): Lange Lebensdauer, hohe Korrosions- und Oxidationsbeständigkeit, schnelle Aufheizgeschwindigkeit und einfache Wartung. Jetzt mehr erfahren!

Siliziumkarbid (SiC) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Siliziumkarbid (SiC) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Materialien aus Siliziumkarbid (SiC) für Ihr Labor? Suchen Sie nicht weiter! Unser Expertenteam produziert und passt SiC-Materialien genau auf Ihre Bedürfnisse zu angemessenen Preisen an. Stöbern Sie noch heute in unserem Angebot an Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr.

Siliziumkarbid (SIC) Keramische Platten, verschleißfest

Siliziumkarbid (SIC) Keramische Platten, verschleißfest

Siliziumkarbid-Keramikplatten bestehen aus hochreinem Siliziumkarbid und ultrafeinem Pulver, das durch Vibrationsformen und Hochtemperatursintern hergestellt wird.

Siliziumnitrid (SiNi) Keramische Bleche Präzisionsbearbeitung Keramik

Siliziumnitrid (SiNi) Keramische Bleche Präzisionsbearbeitung Keramik

Siliciumnitridplatten sind aufgrund ihrer gleichmäßigen Leistung bei hohen Temperaturen ein häufig verwendetes keramisches Material in der metallurgischen Industrie.

Flacher/gewellter Kühlkörper aus Siliziumkarbid (SIC)-Keramikplatte

Flacher/gewellter Kühlkörper aus Siliziumkarbid (SIC)-Keramikplatte

Der keramische Kühlkörper aus Siliziumkarbid (sic) erzeugt nicht nur keine elektromagnetischen Wellen, sondern kann auch elektromagnetische Wellen isolieren und einen Teil der elektromagnetischen Wellen absorbieren.

Schneidwerkzeugrohlinge

Schneidwerkzeugrohlinge

CVD-Diamantschneidwerkzeuge: Hervorragende Verschleißfestigkeit, geringe Reibung, hohe Wärmeleitfähigkeit für die Bearbeitung von Nichteisenmaterialien, Keramik und Verbundwerkstoffen

Infrarot-Silizium / hochbeständiges Silizium / Einkristall-Siliziumlinse

Infrarot-Silizium / hochbeständiges Silizium / Einkristall-Siliziumlinse

Silizium (Si) gilt weithin als eines der langlebigsten mineralischen und optischen Materialien für Anwendungen im Nahinfrarotbereich (NIR), etwa 1 μm bis 6 μm.

CVD-bordotierter Diamant

CVD-bordotierter Diamant

CVD-bordotierter Diamant: Ein vielseitiges Material, das maßgeschneiderte elektrische Leitfähigkeit, optische Transparenz und außergewöhnliche thermische Eigenschaften für Anwendungen in der Elektronik, Optik, Sensorik und Quantentechnologie ermöglicht.

Molybdändisilizid (MoSi2)-Heizelement

Molybdändisilizid (MoSi2)-Heizelement

Entdecken Sie die Leistung von Molybdändisilizid (MoSi2) Heizelementen für Hochtemperaturbeständigkeit. Einzigartige Oxidationsbeständigkeit mit stabilem Widerstandswert. Erfahren Sie jetzt mehr über seine Vorteile!

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titankarbid (TiC).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titankarbid (TiC).

Erhalten Sie hochwertige Titancarbid (TiC)-Materialien zu erschwinglichen Preisen für Ihr Labor. Wir bieten eine große Auswahl an Formen und Größen, darunter Sputtertargets, Pulver und mehr. Auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten.

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung: Überlegene Wärmeleitfähigkeit, Kristallqualität und Haftung für Schneidwerkzeuge, Reibung und akustische Anwendungen


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht