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Mehrzonen-Labortiegelofen

Rohrofen

Mehrzonen-Labortiegelofen

Artikelnummer : KT-MTF

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen


Maximale Temperatur
1700 ℃
Konstante Arbeitstemperatur
1650 ℃
Ofenrohrdurchmesser
30 \/ 40 \/ 60 \/ 80 \/ 100 \/ 150 \/ 230 mm
Heizzonenlänge
300 \/ 450 \/ 600 \/ 800 mm
Anzahl der Heizzonen
1-10 Zonen
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Einleitung

Ein Mehrzonen-Tiegelofen ist ein vielseitiges Laborgerät, das für Hochtemperaturanwendungen entwickelt wurde. Er verfügt über mehrere unabhängig steuerbare Heizzonen, die präzise Temperaturgradienten oder gleichmäßige Erwärmung ermöglichen. Der Ofen ist typischerweise mit hochreinem Quarz- oder Aluminiumoxidrohr zur Probenaufnahme und -erhitzung ausgestattet.

Dieses fortschrittliche System bietet einen weiten Temperaturbereich (300-1600℃), präzise Temperaturregelung und effiziente Wärmeisolierung. Seine Anwendungen umfassen Sinter-, Beschichtungs-, thermische Zersetzungs- und chemische Gasphasenabscheidungs (CVD)-Prozesse unter Vakuum- oder Inertgasatmosphäre. Die mehreren Heizzonen ermöglichen kundenspezifische Temperaturprofile, wodurch die Effizienz und Genauigkeit von thermischen Tests und Analysen verbessert werden.

Anwendungen

Mehrzonen-Tiegelöfen werden in verschiedenen Anwendungen eingesetzt, darunter:

  • Sintern  
  • Beschichten  
  • Thermische Zersetzung  
  • Abschrecktests  
  • Temperaturmessungen
  • Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
  • Hochtemperatur-Wärmebehandlung
  • Metallische Werkstoffe 
  • Keramische Werkstoffe 
  • Nanomaterialien 
  • Halbleitermaterialien  
  • Pulvermetallurgie 
  • Neue Materialien   
  • Petrochemie   
  • Luft- und Raumfahrt
Vorderseite des Mehrzonen-Tiegelofens
Vorderseite des Mehrzonen-Tiegelofens

Merkmale

Der Mehrzonen-Tiegelofen bietet eine Reihe von fortschrittlichen Funktionen, die darauf ausgelegt sind, die Effizienz und Genauigkeit Ihrer Laborprozesse zu verbessern:

  • Präzise Temperaturregelung: Die unabhängige Steuerung jeder Heizzone gewährleistet eine präzise Temperaturverteilung und minimiert Temperaturgradienten.
  • Hohe Temperaturbeständigkeit: Mit einer maximalen Temperatur von 1700℃ ist dieser Ofen für eine Vielzahl von Hochtemperaturanwendungen geeignet.
  • Vielseitige Heizzonen: Erhältlich in 2, 3 oder 5 Heizzonen, ermöglicht der Ofen kundenspezifische Temperaturprofile und maßgeschneiderte Heizungsanforderungen.
  • Effiziente Wärmeisolierung: Das Design mit doppelter Ofenschale und erzwungener Luftzirkulation minimiert Wärmeverluste und hält eine niedrige Oberflächentemperatur.
  • Einfache Bedienung: Die programmierbare PID-Temperaturregelung und ein benutzerfreundlicher Touchscreen vereinfachen die Bedienung und Überwachung.
  • Fernsteuerung: Fernsteuerungs- und zentrale Steuerungsfunktionen ermöglichen eine bequeme und effiziente Bedienung.
  • Hohe Vakuumkompatibilität: Der Vakuumflansch aus Edelstahl mit mehreren Anschlüssen gewährleistet eine hervorragende Abdichtung und einen hohen Vakuumdruck für vakuumgestützte Anwendungen.
  • Datenprotokollierung und -analyse: Der TFT-Touchscreen-Controller ermöglicht eine einfache Programmeinstellung, Analyse von historischen Daten und Speicherung von Rezepten.

Prinzip

Der Mehrzonen-Tiegelofen erwärmt eine Probe in einer kontrollierten Umgebung. Der Ofen verfügt über mehrere Heizzonen, die jeweils unabhängig gesteuert werden können, um einen bestimmten Temperaturgradienten zu erzeugen. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung des Heizprozesses und kann für eine Vielzahl von Anwendungen wie Glühen, Sintern und CVD verwendet werden. Der Ofen ist außerdem mit einer Vakuumpumpe ausgestattet, um eine Vakuumumgebung zu erzeugen, die zur Entfernung von Gasen aus der Probe oder zur Schaffung einer kontrollierten Atmosphäre verwendet werden kann.

Vorteile

  • Präzise Temperaturregelung: Jede Heizzone kann unabhängig gesteuert werden, was präzise Temperaturgradienten und eine gleichmäßige Erwärmung im gesamten Rohr ermöglicht.
  • Hohe Temperaturbeständigkeit: Mit einer maximalen Temperatur von 1700℃ kann der Mehrzonen-Tiegelofen anspruchsvolle Anwendungen bei hohen Temperaturen bewältigen.
  • Vakuum- und Inertgas-Kompatibilität: Der Ofen kann unter Vakuum oder im Durchfluss von Inertgas betrieben werden, wodurch er sich für verschiedene Prozesse wie Abschrecken, Sintern und CVD eignet.
  • Hochreine Materialien: Das Ofenrohr besteht aus hochreinem Quarz oder Aluminiumoxid, was eine minimale Kontamination und genaue Temperaturmessungen gewährleistet.
  • Effiziente Wärmeisolierung: Das Design mit doppelter Ofenschale und erzwungenem Luftstrom zwischen den inneren und äußeren Schalen minimiert Wärmeverluste und hält eine niedrige Oberflächentemperatur.
  • Benutzerfreundliche Oberfläche: Der TFT-Touchscreen-Controller mit intuitiver Programmierung und Datenanalysefunktionen vereinfacht die Bedienung und Überwachung.
  • Vielseitigkeit: Geeignet für verschiedene Anwendungen in Forschungs-, Entwicklungs- und Produktionsumgebungen, einschließlich Materialbearbeitung, Temperaturmessungen und Tests.

Sicherheitsvorteil

  • Der Kindle Tech Tiegelofen verfügt über einen Überstromschutz und eine Übertemperaturwarnfunktion. Der Ofen schaltet die Stromversorgung automatisch ab, sobald ein Überstrom erkannt wird.
  • Der Ofen verfügt über eine integrierte Thermoelement-Erkennungsfunktion. Der Ofen stoppt die Heizung und gibt einen Alarm aus, sobald ein Bruch oder Ausfall des Thermoelements erkannt wird.
  • TFM Pro unterstützt die Funktion zum Neustart nach Stromausfall. Der Ofen setzt das Heizprogramm des Ofens fort, wenn nach einem Ausfall wieder Strom anliegt.

Technische Spezifikationen

Ofenmodell KT-MTF KT-MTF Pro
Temperaturregler Digitaler PID-Regler Touchscreen-PID-Regler
Mehrprogramm-Voreinstellung nein ja
Neustart nach Stromausfall nein ja
Max. Temperatur 1700℃
Konstante Arbeitstemperatur 1650℃
Material des Ofenrohrs Hochwertiger Quarz / Al2O3 Aluminiumoxid
Durchmesser des Ofenrohrs 30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230 mm
Länge der Heizzone 300 / 450 / 600 / 800 mm
Anzahl der Heizzonen 1-10 Zonen
Vakuumdichtungs-Lösung SS 304 Flansch mit O-Ring
Nenndruck Vakuum 0,001 Pa / 10E5 Torr
Nenndruck Überdruck 0,02 MPa / 150 Torr
Kammer-Material Japanisches Al2O3 Aluminiumoxidfaser
Heizelement Cr2Al2Mo2 Drahtspule / Siliziumkarbid / Siliziumkarbid
Thermoelement K / S / B Typ
Temperaturregelgenauigkeit ±1℃
Temperatur-Gleichmäßigkeit ±5℃
Elektrische Stromversorgung AC110-220V, 50/60HZ
Andere Al2O3 Aluminiumoxidrohrgrößen und Heizzonenlängen können kundenspezifisch angefertigt werden

Standardpaket

Nr. Beschreibung Menge
1 Ofen 1
2 Aluminiumoxidrohr 1
3 Vakuumflansch 2
4 Rohr-Thermoblock 2
5 Rohr-Thermoblock-Haken 1
6 Hitzebeständige Handschuhe 1
7 Bedienungsanleitung 1

Optionale Einrichtung

  • In-Rohr-Gaserkennung und -überwachung, wie H2, O2 und so weiter
  • Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
  • RS 485 Kommunikationsport für PC-Fernsteuerung und Datenexport
  • Regelung des Zuflusses von Einlassgasen, wie Massendurchflussmesser und Schwimmermassendurchflussmesser
  • Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, benutzerfreundlichen Funktionen
  • Hochvakuum-Pumpstations-Setups, wie Drehschieberpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe

Warnungen

Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.

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KinTek bietet umfassenden, maßgeschneiderten Service und Ausrüstung für Kunden auf der ganzen Welt. Unsere spezialisierte Teamarbeit und unsere erfahrenen Ingenieure sind in der Lage, die kundenspezifischen Hardware- und Software-Ausrüstungsanforderungen zu erfüllen und unseren Kunden beim Aufbau der exklusiven und personalisierten Ausrüstung und Lösung zu helfen!

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FAQ

Was Ist Ein Rohrofen?

Der Laborrohrofen ist ein klassischer Hochtemperatur-Rohrofen mit externer Heizung, auch Heißwandheizofen genannt.

Abhängig von der unterschiedlichen Arbeitstemperatur kann das Ofenrohrmaterial normalerweise aus transparenten Quarzrohren, hochreinen Aluminiumoxid-Keramikrohren und hochfesten Metalllegierungsrohren bestehen.

Um unterschiedliche thermische Forschungszwecke zu erfüllen, können Rohröfen mit mehreren Heizzonen ausgestattet werden, um eine flexible Steuerung des Temperaturgradienten in der Rohrarbeitskammer zu ermöglichen. Das Ofenrohr kann in einer Arbeitsumgebung mit kontrollierter Atmosphäre oder in einer Hochvakuum-Arbeitsumgebung betrieben werden.

Was Ist Ein CVD-Ofen?

Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) handelt es sich um eine Technologie, die verschiedene Energiequellen wie Erhitzen, Plasmaanregung oder Lichtstrahlung nutzt, um gasförmige oder dampfförmige chemische Substanzen an der Gasphase oder Gas-Feststoff-Grenzfläche chemisch zu reagieren und so feste Ablagerungen im Reaktor zu bilden chemische Reaktion. Vereinfacht ausgedrückt werden zwei oder mehr gasförmige Rohstoffe in eine Reaktionskammer eingeleitet, reagieren dann miteinander, bilden ein neues Material und scheiden es auf der Substratoberfläche ab.

Der CVD-Ofen ist ein kombiniertes Ofensystem mit einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer Gassteuereinheit und einer Vakuumeinheit. Er wird häufig für Experimente und die Produktion von Verbundwerkstoffvorbereitungen, mikroelektronischen Prozessen, Halbleiter-Optoelektronik, Solarenergienutzung, Glasfaserkommunikation und Supraleitern verwendet Technologie, Schutzbeschichtungsbereich.

Wie Funktioniert Ein Rohrofen?

Die Heizelemente des Rohrofens sind um den zylindrischen Hohlraum herum angeordnet. Der Ofen kann die Proben im zylindrischen Hohlraum nur durch indirekte Wärmestrahlung erwärmen, da das Ofenrohr verhindern kann, dass das Probenmaterial mit den Heizelementen und Isoliermaterialien des Ofens in Kontakt kommt, sodass der Rohrofen eine saubere Isolierung schafft Wärmekammer und verringern das Risiko einer Kontamination des Probenmaterials durch den Ofen.

Wie Funktioniert Ein CVD-Ofen?

Das CVD-Ofensystem besteht aus einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer präzisen Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle, einer Vakuumpumpstation und entsprechenden Montageteilen.

Die Vakuumpumpe dient dazu, die Luft aus dem Reaktionsrohr zu entfernen und sicherzustellen, dass sich keine unerwünschten Gase im Reaktionsrohr befinden. Anschließend heizt der Rohrofen das Reaktionsrohr auf eine Zieltemperatur auf. Anschließend kann die präzise Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle eine andere einleiten Gase werden in einem festgelegten Verhältnis in das Ofenrohr für die chemische Reaktion eingeleitet, die chemische Gasphasenabscheidung erfolgt im CVD-Ofen.

Was Ist Die Anwendung Für Rohröfen?

Rohröfen werden hauptsächlich in der Metallurgie, Glas, Wärmebehandlung, Lithiumanoden- und -kathodenmaterialien, neuen Energien, Schleifmitteln und anderen Industrien eingesetzt und sind eine professionelle Ausrüstung zur Messung von Materialien unter bestimmten Temperaturbedingungen.

Der Rohrofen zeichnet sich durch einfache Struktur, einfache Bedienung, einfache Steuerung und kontinuierliche Produktion aus.

Rohröfen werden auch häufig in CVD-Systemen (chemische Gasphasenabscheidung) und plasmaunterstützten CVD-Systemen eingesetzt.

Welches Gas Wird Im CVD-Prozess Verwendet?

Es gibt enorme Gasquellen, die im CVD-Prozess verwendet werden können. Zu den üblichen chemischen Reaktionen von CVD gehören Pyrolyse, Photolyse, Reduktion, Oxidation und Redox, sodass die an diesen chemischen Reaktionen beteiligten Gase im CVD-Prozess verwendet werden können.

Nehmen wir als Beispiel das CVD-Graphenwachstum. Die im CVD-Prozess verwendeten Gase sind CH4, H2, O2 und N2.

Wie Viele Verschiedene Arten Von Rohröfen Gibt Es?

Rohröfen können mit verschiedenen mechanischen Funktionen reibungslos arbeiten, daher gibt es viele verschiedene Rohrofenvarianten für verschiedene Versuchszwecke. Typische Ofenöfen sind wie folgt:

  • Horizontaler Rohrofen
  • Vertikaler Rohrofen
  • Geteilter Rohrofen
  • Drehrohrofen
  • Kipprohrofen
  • Schieberohrofen
  • Schneller Heiz- und Kühlrohrofen
  • Kontinuierlicher Zufuhr- und Abfuhrrohrofen

Was Ist Der Vorteil Des CVD-Systems?

  • Es kann eine große Auswahl an Folien hergestellt werden, je nach Bedarf Metallfolien, Nichtmetallfolien und Mehrkomponenten-Legierungsfolien. Gleichzeitig können damit hochwertige Kristalle hergestellt werden, die mit anderen Methoden wie GaN, BP usw. nur schwer zu erhalten sind.
  • Die Filmbildungsgeschwindigkeit ist hoch und beträgt normalerweise mehrere Mikrometer pro Minute oder sogar Hunderte Mikrometer pro Minute. Es ist möglich, große Mengen an Beschichtungen mit gleichmäßiger Zusammensetzung gleichzeitig abzuscheiden, was mit anderen Filmvorbereitungsmethoden wie Flüssigphasenepitaxie (LPE) und Molekularstrahlepitaxie (MBE) nicht zu vergleichen ist.
  • Die Arbeitsbedingungen werden unter Normaldruck- oder Niedrigvakuumbedingungen durchgeführt, sodass die Beschichtung eine gute Beugung aufweist und Werkstücke mit komplexen Formen gleichmäßig beschichtet werden können, was PVD deutlich überlegen ist.
  • Durch die gegenseitige Diffusion von Reaktionsgas, Reaktionsprodukt und Substrat kann eine Beschichtung mit guter Haftfestigkeit erhalten werden, die für die Herstellung oberflächenverstärkter Filme wie verschleißfester und korrosionsbeständiger Filme von entscheidender Bedeutung ist.
  • Manche Filme wachsen bei einer Temperatur, die weit unter dem Schmelzpunkt des Filmmaterials liegt. Unter der Bedingung des Wachstums bei niedriger Temperatur reagieren das Reaktionsgas und die Reaktorwand sowie die darin enthaltenen Verunreinigungen nahezu nicht, sodass ein Film mit hoher Reinheit und guter Kristallinität erhalten werden kann.
  • Durch chemische Gasphasenabscheidung kann eine glatte Abscheidungsoberfläche erzielt werden. Dies liegt daran, dass die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) im Vergleich zu LPE bei hoher Sättigung, mit hoher Keimbildungsrate, hoher Keimbildungsdichte und gleichmäßiger Verteilung auf der gesamten Ebene durchgeführt wird, was zu einer makroskopisch glatten Oberfläche führt. Gleichzeitig ist bei der chemischen Gasphasenabscheidung die durchschnittliche freie Weglänge von Molekülen (Atomen) viel größer als bei LPE, sodass die räumliche Verteilung der Moleküle gleichmäßiger ist, was der Bildung einer glatten Abscheidungsoberfläche förderlich ist.
  • Geringe Strahlungsschäden, eine notwendige Voraussetzung für die Herstellung von Metalloxidhalbleitern (MOS) und anderen Geräten

Wofür Steht PECVD?

PECVD ist eine Technologie, die Plasma verwendet, um Reaktionsgas zu aktivieren, chemische Reaktionen auf der Oberfläche des Substrats oder im oberflächennahen Raum zu fördern und einen festen Film zu erzeugen. Das Grundprinzip der plasmachemischen Gasphasenabscheidungstechnologie besteht darin, dass unter der Einwirkung eines elektrischen HF- oder Gleichstromfeldes das Quellgas ionisiert wird, um ein Plasma zu bilden, das Niedertemperaturplasma als Energiequelle verwendet wird und eine geeignete Menge Reaktionsgas vorhanden ist eingeführt, und die Plasmaentladung wird verwendet, um das Reaktionsgas zu aktivieren und eine chemische Gasphasenabscheidung zu realisieren.

Je nach Methode zur Plasmaerzeugung kann es in HF-Plasma, Gleichstromplasma und Mikrowellenplasma-CVD usw. unterteilt werden.

Was Ist Der Unterschied Zwischen CVD Und PECVD?

Der Unterschied zwischen PECVD und der herkömmlichen CVD-Technologie besteht darin, dass das Plasma eine große Anzahl hochenergetischer Elektronen enthält, die die im chemischen Gasphasenabscheidungsprozess erforderliche Aktivierungsenergie bereitstellen und so den Energieversorgungsmodus des Reaktionssystems ändern können. Da die Elektronentemperatur im Plasma bis zu 10.000 K beträgt, kann die Kollision zwischen Elektronen und Gasmolekülen das Aufbrechen chemischer Bindungen und die Rekombination der Reaktionsgasmoleküle fördern, um aktivere chemische Gruppen zu erzeugen, während das gesamte Reaktionssystem eine niedrigere Temperatur aufrechterhält.

Im Vergleich zum CVD-Verfahren kann PECVD also den gleichen chemischen Gasphasenabscheidungsprozess bei einer niedrigeren Temperatur durchführen.

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4.9 / 5

The independent zone control is a game-changer for our materials research. Unmatched precision and a surprisingly fast delivery!

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