Rohrofen

Mehrzonen-Labor-Quarzrohr-Röhrenofen

Name: Mehrzonen-Labor-Quarzrohr-Röhrenofen
Brand: Kintek Solution
SKU: KT-MTF
Rating: 4.79 (10 reviews)

Artikelnummer : KT-MTF

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen

Maximale Temperatur: 1700 ℃
Konstante Arbeitstemperatur: 1650 ℃
Ofenrohrdurchmesser: 30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230 mm
Heizzonenlänge: 300 / 450 / 600 / 800 mm
Anzahl der Heizzonen: 1-10 Zonen

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Einleitung

Ein Mehrzonen-Röhrenofen ist ein vielseitiges Laborgerät für Hochtemperaturanwendungen. Er verfügt über mehrere unabhängig steuerbare Heizzonen, die präzise Temperaturgradienten oder gleichmäßige Erwärmung ermöglichen. Der Ofen ist typischerweise mit hochreinem Quarz- oder Aluminiumoxidrohr zur Aufnahme und Erwärmung von Proben ausgestattet.

Dieses fortschrittliche System bietet einen weiten Temperaturbereich (300-1600℃), präzise Temperaturregelung und effiziente Wärmeisolierung. Seine Anwendungen umfassen Sintern, Beschichten, thermische Zersetzung und chemische Gasphasenabscheidung (CVD) unter Vakuum oder Schutzgasatmosphäre. Die mehreren Heizzonen ermöglichen kundenspezifische Temperaturprofile und verbessern die Effizienz und Genauigkeit von thermischen Tests und Analysen.

Anwendungen

Mehrzonen-Röhrenöfen werden in verschiedenen Anwendungen eingesetzt, darunter:

Sintern
Beschichten
Thermische Zersetzung
CVD-Prozess
Abschreckt-Tests
Temperaturmessungen
Chemische Gasphasenabscheidung
Hochtemperatur-Wärmebehandlung
Metallwerkstoffe
Keramische Werkstoffe
Nanomaterialien
Halbleitermaterialien
Pulvermetallurgie
Neue Materialien
Petrochemie
Luft- und Raumfahrt

Merkmale

Der Mehrzonen-Röhrenofen bietet eine Reihe fortschrittlicher Funktionen zur Steigerung der Effizienz und Genauigkeit Ihrer Laborprozesse:

Präzise Temperaturregelung: Die unabhängige Steuerung jeder Heizzone sorgt für eine präzise Temperaturverteilung und minimiert Temperaturgradienten.
Hohe Temperaturbeständigkeit: Mit einer maximalen Temperatur von 1600℃ ist dieser Ofen für eine Vielzahl von Hochtemperaturanwendungen geeignet.
Vielseitige Heizzonen: Erhältlich in 2, 3 oder 5 Heizzonen ermöglicht der Ofen kundenspezifische Temperaturprofile und maßgeschneiderte Heizungsanforderungen.
Effiziente Wärmeisolierung: Doppelwandiges Ofengehäuse mit Zwangsluftkühlung minimiert Wärmeverluste und hält eine niedrige Oberflächentemperatur aufrecht.
Einfache Bedienung: PID-programmierbare Temperaturregelung und ein benutzerfreundlicher Touchscreen vereinfachen Bedienung und Überwachung.
Fernsteuerung: Fernsteuerungs- und Zentralsteuerungsfunktionen ermöglichen eine bequeme und effiziente Bedienung.
Hohe Vakuumkompatibilität: Vakuumflansch aus Edelstahl mit mehreren Anschlüssen sorgt für eine hervorragende Abdichtung und hohen Vakuumdruck für vakuumgestützte Anwendungen.
Datenprotokollierung und -analyse: Der TFT-Touchscreen-Controller ermöglicht einfache Programmeinstellung, Analyse von Verlaufsdaten und Speicherung von Rezepten.

Prinzip

Der Mehrzonen-Röhrenofen erwärmt eine Probe in einer kontrollierten Umgebung. Der Ofen verfügt über mehrere Heizzonen, die jeweils unabhängig voneinander gesteuert werden können, um einen bestimmten Temperaturgradienten zu erzeugen. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung des Heizprozesses und kann für eine Vielzahl von Anwendungen wie Glühen, Sintern und CVD verwendet werden. Der Ofen ist außerdem mit einer Vakuumpumpe ausgestattet, um eine Vakuumumgebung zu erzeugen, die zur Entfernung von Gasen aus der Probe oder zur Schaffung einer kontrollierten Atmosphäre verwendet werden kann.

Vorteile

Präzise Temperaturregelung: Jede Heizzone kann unabhängig gesteuert werden, was präzise Temperaturgradienten und eine gleichmäßige Erwärmung im gesamten Rohr ermöglicht.
Hohe Temperaturbeständigkeit: Mit einer maximalen Temperatur von 1600℃ kann der Mehrzonen-Röhrenofen anspruchsvolle Anwendungen mit hohen Temperaturen bewältigen.
Vakuum- und Schutzgas-Kompatibilität: Der Ofen kann unter Vakuum oder im Schutzgasstrom betrieben werden, was ihn für verschiedene Prozesse wie Abschrecken, Sintern und CVD geeignet macht.
Hochreine Materialien: Das Ofenrohr besteht aus hochreinem Quarz oder Aluminiumoxid, was eine minimale Kontamination und genaue Temperaturmessungen gewährleistet.
Effiziente Wärmeisolierung: Das doppelwandige Ofengehäuse und die Zwangsluftströmung zwischen den inneren und äußeren Wänden minimieren Wärmeverluste und halten eine niedrige Oberflächentemperatur aufrecht.
Benutzerfreundliche Oberfläche: Der TFT-Touchscreen-Controller mit intuitiver Programmierung und Datenanalysefunktionen vereinfacht Bedienung und Überwachung.
Vielseitigkeit: Geeignet für verschiedene Anwendungen in Forschungs-, Entwicklungs- und Produktionsumgebungen, einschließlich Materialverarbeitung, Temperaturmessungen und Tests.

Sicherheitsvorteile

Der Kindle Tech Röhrenofen verfügt über Überstromschutz und Übertemperaturalarm. Der Ofen schaltet die Stromversorgung automatisch ab, sobald ein Überstrom erkannt wird.
Der Ofen verfügt über eine integrierte Thermoelement-Erkennungsfunktion. Der Ofen stoppt die Heizung und löst einen Alarm aus, sobald ein gebrochenes oder fehlerhaftes Thermoelement erkannt wird.
TFM Pro unterstützt die Funktion zum Neustart nach Stromausfall. Der Ofen setzt das Heizprogramm des Ofens fort, wenn nach einem Ausfall wieder Strom anliegt.

Technische Spezifikationen

Ofenmodell	KT-MTF	KT-MTF Pro
Temperaturregler	Digitaler PID-Regler	Touchscreen-PID-Regler
Mehrprogramm-Voreinstellung	nein	ja
Neustart nach Stromausfall	nein	ja
Max. Temperatur	1700℃
Konstante Arbeitstemperatur	1650℃
Material des Ofenrohrs	Hochwertiger Quarz/ Al2O3-Aluminiumoxid
Durchmesser des Ofenrohrs	30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230 mm
Länge der Heizzone	300 / 450 / 600 / 800 mm
Anzahl der Heizzonen	1-10 Zonen
Vakuumversiegelungslösung	SS 304 Flansch mit O-Ring
Nenndruck Vakuum	0.001Pa/10E5 torr
Nenndruck Überdruck	0.02Mpa/150 torr
Kammerwerkstoff	Japanisches Al2O3-Aluminiumoxidfaser
Heizelement	Cr2Al2Mo2 Drahtspule
Thermoelement	K /S/B-Typ
Temperaturregelgenauigkeit	±1℃
Temperaturgleichmäßigkeit	±5℃
Elektrische Stromversorgung	AC110-220V, 50/60HZ
Andere Größen von Al2O3-Aluminiumoxidrohren und Längen der Heizzonen können kundenspezifisch angefertigt werden

Standardpaket

Nr.	Beschreibung	Menge
1	Ofen	1
2	Aluminiumoxidrohr	1
3	Vakuumflansch	2
4	Rohr-Wärmeblock	2
5	Haken für Rohr-Wärmeblock	1
6	Hitzebeständiger Handschuh	1
7	Bedienungsanleitung	1

Optionale Einrichtung

Erkennung und Überwachung von Gasen im Rohr, wie H2, O2 usw.
Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
RS 485 Kommunikationsport für PC-Fernsteuerung und Datenexport
Steuerung der Durchflussrate von Einlassgasen, wie Massendurchflussmesser und Schwimmkörper-Durchflussmesser
Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, benutzerfreundlichen Funktionen
Vakuum-Pumpenstations-Setups, wie Drehschieberpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe

Warnungen

Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.

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FAQ

Was Ist Ein Rohrofen?

Der Laborrohrofen ist ein klassischer Hochtemperatur-Rohrofen mit externer Heizung, auch Heißwandheizofen genannt.

Abhängig von der unterschiedlichen Arbeitstemperatur kann das Ofenrohrmaterial normalerweise aus transparenten Quarzrohren, hochreinen Aluminiumoxid-Keramikrohren und hochfesten Metalllegierungsrohren bestehen.

Um unterschiedliche thermische Forschungszwecke zu erfüllen, können Rohröfen mit mehreren Heizzonen ausgestattet werden, um eine flexible Steuerung des Temperaturgradienten in der Rohrarbeitskammer zu ermöglichen. Das Ofenrohr kann in einer Arbeitsumgebung mit kontrollierter Atmosphäre oder in einer Hochvakuum-Arbeitsumgebung betrieben werden.

Was Ist Ein CVD-Ofen?

Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) handelt es sich um eine Technologie, die verschiedene Energiequellen wie Erhitzen, Plasmaanregung oder Lichtstrahlung nutzt, um gasförmige oder dampfförmige chemische Substanzen an der Gasphase oder Gas-Feststoff-Grenzfläche chemisch zu reagieren und so feste Ablagerungen im Reaktor zu bilden chemische Reaktion. Vereinfacht ausgedrückt werden zwei oder mehr gasförmige Rohstoffe in eine Reaktionskammer eingeleitet, reagieren dann miteinander, bilden ein neues Material und scheiden es auf der Substratoberfläche ab.

Der CVD-Ofen ist ein kombiniertes Ofensystem mit einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer Gassteuereinheit und einer Vakuumeinheit. Er wird häufig für Experimente und die Produktion von Verbundwerkstoffvorbereitungen, mikroelektronischen Prozessen, Halbleiter-Optoelektronik, Solarenergienutzung, Glasfaserkommunikation und Supraleitern verwendet Technologie, Schutzbeschichtungsbereich.

Wie Funktioniert Ein Rohrofen?

Die Heizelemente des Rohrofens sind um den zylindrischen Hohlraum herum angeordnet. Der Ofen kann die Proben im zylindrischen Hohlraum nur durch indirekte Wärmestrahlung erwärmen, da das Ofenrohr verhindern kann, dass das Probenmaterial mit den Heizelementen und Isoliermaterialien des Ofens in Kontakt kommt, sodass der Rohrofen eine saubere Isolierung schafft Wärmekammer und verringern das Risiko einer Kontamination des Probenmaterials durch den Ofen.

Wie Funktioniert Ein CVD-Ofen?

Das CVD-Ofensystem besteht aus einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer präzisen Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle, einer Vakuumpumpstation und entsprechenden Montageteilen.

Die Vakuumpumpe dient dazu, die Luft aus dem Reaktionsrohr zu entfernen und sicherzustellen, dass sich keine unerwünschten Gase im Reaktionsrohr befinden. Anschließend heizt der Rohrofen das Reaktionsrohr auf eine Zieltemperatur auf. Anschließend kann die präzise Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle eine andere einleiten Gase werden in einem festgelegten Verhältnis in das Ofenrohr für die chemische Reaktion eingeleitet, die chemische Gasphasenabscheidung erfolgt im CVD-Ofen.

Was Ist Die Anwendung Für Rohröfen?

Rohröfen werden hauptsächlich in der Metallurgie, Glas, Wärmebehandlung, Lithiumanoden- und -kathodenmaterialien, neuen Energien, Schleifmitteln und anderen Industrien eingesetzt und sind eine professionelle Ausrüstung zur Messung von Materialien unter bestimmten Temperaturbedingungen.

Der Rohrofen zeichnet sich durch einfache Struktur, einfache Bedienung, einfache Steuerung und kontinuierliche Produktion aus.

Rohröfen werden auch häufig in CVD-Systemen (chemische Gasphasenabscheidung) und plasmaunterstützten CVD-Systemen eingesetzt.

Welches Gas Wird Im CVD-Prozess Verwendet?

Es gibt enorme Gasquellen, die im CVD-Prozess verwendet werden können. Zu den üblichen chemischen Reaktionen von CVD gehören Pyrolyse, Photolyse, Reduktion, Oxidation und Redox, sodass die an diesen chemischen Reaktionen beteiligten Gase im CVD-Prozess verwendet werden können.

Nehmen wir als Beispiel das CVD-Graphenwachstum. Die im CVD-Prozess verwendeten Gase sind CH4, H2, O2 und N2.

Wie Viele Verschiedene Arten Von Rohröfen Gibt Es?

Rohröfen können mit verschiedenen mechanischen Funktionen reibungslos arbeiten, daher gibt es viele verschiedene Rohrofenvarianten für verschiedene Versuchszwecke. Typische Ofenöfen sind wie folgt:

Horizontaler Rohrofen
Vertikaler Rohrofen
Geteilter Rohrofen
Drehrohrofen
Kipprohrofen
Schieberohrofen
Schneller Heiz- und Kühlrohrofen
Kontinuierlicher Zufuhr- und Abfuhrrohrofen

Was Ist Der Vorteil Des CVD-Systems?

Es kann eine große Auswahl an Folien hergestellt werden, je nach Bedarf Metallfolien, Nichtmetallfolien und Mehrkomponenten-Legierungsfolien. Gleichzeitig können damit hochwertige Kristalle hergestellt werden, die mit anderen Methoden wie GaN, BP usw. nur schwer zu erhalten sind.
Die Filmbildungsgeschwindigkeit ist hoch und beträgt normalerweise mehrere Mikrometer pro Minute oder sogar Hunderte Mikrometer pro Minute. Es ist möglich, große Mengen an Beschichtungen mit gleichmäßiger Zusammensetzung gleichzeitig abzuscheiden, was mit anderen Filmvorbereitungsmethoden wie Flüssigphasenepitaxie (LPE) und Molekularstrahlepitaxie (MBE) nicht zu vergleichen ist.
Die Arbeitsbedingungen werden unter Normaldruck- oder Niedrigvakuumbedingungen durchgeführt, sodass die Beschichtung eine gute Beugung aufweist und Werkstücke mit komplexen Formen gleichmäßig beschichtet werden können, was PVD deutlich überlegen ist.
Durch die gegenseitige Diffusion von Reaktionsgas, Reaktionsprodukt und Substrat kann eine Beschichtung mit guter Haftfestigkeit erhalten werden, die für die Herstellung oberflächenverstärkter Filme wie verschleißfester und korrosionsbeständiger Filme von entscheidender Bedeutung ist.
Manche Filme wachsen bei einer Temperatur, die weit unter dem Schmelzpunkt des Filmmaterials liegt. Unter der Bedingung des Wachstums bei niedriger Temperatur reagieren das Reaktionsgas und die Reaktorwand sowie die darin enthaltenen Verunreinigungen nahezu nicht, sodass ein Film mit hoher Reinheit und guter Kristallinität erhalten werden kann.
Durch chemische Gasphasenabscheidung kann eine glatte Abscheidungsoberfläche erzielt werden. Dies liegt daran, dass die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) im Vergleich zu LPE bei hoher Sättigung, mit hoher Keimbildungsrate, hoher Keimbildungsdichte und gleichmäßiger Verteilung auf der gesamten Ebene durchgeführt wird, was zu einer makroskopisch glatten Oberfläche führt. Gleichzeitig ist bei der chemischen Gasphasenabscheidung die durchschnittliche freie Weglänge von Molekülen (Atomen) viel größer als bei LPE, sodass die räumliche Verteilung der Moleküle gleichmäßiger ist, was der Bildung einer glatten Abscheidungsoberfläche förderlich ist.
Geringe Strahlungsschäden, eine notwendige Voraussetzung für die Herstellung von Metalloxidhalbleitern (MOS) und anderen Geräten

Wofür Steht PECVD?

PECVD ist eine Technologie, die Plasma verwendet, um Reaktionsgas zu aktivieren, chemische Reaktionen auf der Oberfläche des Substrats oder im oberflächennahen Raum zu fördern und einen festen Film zu erzeugen. Das Grundprinzip der plasmachemischen Gasphasenabscheidungstechnologie besteht darin, dass unter der Einwirkung eines elektrischen HF- oder Gleichstromfeldes das Quellgas ionisiert wird, um ein Plasma zu bilden, das Niedertemperaturplasma als Energiequelle verwendet wird und eine geeignete Menge Reaktionsgas vorhanden ist eingeführt, und die Plasmaentladung wird verwendet, um das Reaktionsgas zu aktivieren und eine chemische Gasphasenabscheidung zu realisieren.

Je nach Methode zur Plasmaerzeugung kann es in HF-Plasma, Gleichstromplasma und Mikrowellenplasma-CVD usw. unterteilt werden.

Was Ist Der Unterschied Zwischen CVD Und PECVD?

Der Unterschied zwischen PECVD und der herkömmlichen CVD-Technologie besteht darin, dass das Plasma eine große Anzahl hochenergetischer Elektronen enthält, die die im chemischen Gasphasenabscheidungsprozess erforderliche Aktivierungsenergie bereitstellen und so den Energieversorgungsmodus des Reaktionssystems ändern können. Da die Elektronentemperatur im Plasma bis zu 10.000 K beträgt, kann die Kollision zwischen Elektronen und Gasmolekülen das Aufbrechen chemischer Bindungen und die Rekombination der Reaktionsgasmoleküle fördern, um aktivere chemische Gruppen zu erzeugen, während das gesamte Reaktionssystem eine niedrigere Temperatur aufrechterhält.

Im Vergleich zum CVD-Verfahren kann PECVD also den gleichen chemischen Gasphasenabscheidungsprozess bei einer niedrigeren Temperatur durchführen.

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