CVD- und PECVD-Ofen
RF PECVD System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung RF PECVD
Artikelnummer : KT-RFPE
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Frequenz
- HF-Frequenz 13,56 MHz
- Heiztemperatur
- max. 200 °C
- Vakuumkammerabmessungen
- Ø420 mm × 400 mm
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Einleitung
Die Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung (RF PECVD) ist eine Dünnschichtabscheidungstechnik, die Plasma nutzt, um den Prozess der chemischen Gasphasenabscheidung zu verbessern. Dieser Prozess wird zur Abscheidung einer Vielzahl von Materialien verwendet, darunter Metalle, Dielektrika und Halbleiter. RF PECVD ist eine vielseitige Technik, mit der Filme mit einer breiten Palette von Eigenschaften abgeschieden werden können, einschließlich Dicke, Zusammensetzung und Morphologie.
Anwendungen
RF-PECVD, eine revolutionäre Technik im Bereich der Dünnschichtabscheidung, findet breite Anwendung in verschiedenen Branchen, darunter:
- Herstellung von optischen Komponenten und Geräten
- Herstellung von Halbleiterbauelementen
- Produktion von Schutzbeschichtungen
- Entwicklung von Mikroelektronik und MEMS
- Synthese neuartiger Materialien
Komponenten und Funktionen
Die Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung (RF PECVD) ist eine Technik zur Abscheidung von Dünnschichten auf Substraten, bei der ein Hochfrequenzgenerator verwendet wird, um ein Plasma zu erzeugen, das Vorläufergase ionisiert. Die ionisierten Gase reagieren miteinander und scheiden sich auf dem Substrat ab, wodurch ein dünner Film entsteht. RF PECVD wird häufig zur Abscheidung von diamantähnlichen Kohlenstofffilmen (DLC) auf Germanium- und Siliziumsubstraten für Anwendungen im Infrarotwellenlängenbereich von 3-12 µm verwendet.
Diese Anlage umfasst eine Vakuumkammer, ein Vakuumpumpensystem, Kathoden- und Anodenziele, eine HF-Quelle, ein aufblasbares Gas-Mischsystem, einen Computer-Steuerschrank und mehr. Sie ermöglicht nahtlose Ein-Knopf-Beschichtung, Prozessspeicherung und -abruf, Alarmfunktionen, Signal- und Ventilumschaltung sowie eine umfassende Protokollierung des Prozessbetriebs.
Details und Beispiele
Merkmale
Merkmale des RF-PECVD Systems zur Hochfrequenz-Plasma-unterstützten chemischen Gasphasenabscheidung:
- Ein-Knopf-Beschichtung: Vereinfacht den Beschichtungsprozess und erleichtert die Bedienung für den Benutzer.
- Prozessspeicherung und -abruf: Ermöglicht dem Benutzer, Prozessparameter zu speichern und abzurufen, um konsistente Ergebnisse zu gewährleisten.
- Alarmfunktionen: Benachrichtigt den Benutzer bei Problemen oder Fehlern während des Beschichtungsprozesses und minimiert Ausfallzeiten.
- Signal- und Ventilumschaltung: Bietet präzise Kontrolle über den Beschichtungsprozess und ermöglicht dem Benutzer, die gewünschten Ergebnisse zu erzielen.
- Umfassende Protokollierung des Prozessbetriebs: Zeichnet alle Prozessparameter auf, was die Nachverfolgung und Analyse des Beschichtungsprozesses erleichtert.
- Vakuumkammer, Vakuumpumpensystem, Kathoden- und Anodenziele, HF-Quelle, aufblasbares Gas-Mischsystem, Computer-Steuerschrank: Gewährleistet eine stabile und kontrollierte Umgebung für den Beschichtungsprozess.
Vorteile
- Hochwertige Filmbeschichtung bei niedriger Temperatur, geeignet für temperaturempfindliche Substrate.
- Präzise Kontrolle über Filmdicke und Zusammensetzung.
- Gleichmäßige und konforme Filmbeschichtung auf komplexen Geometrien.
- Geringe Partikelkontamination und hochreine Filme.
- Skalierbarer und kostengünstiger Prozess für die Massenproduktion.
- Umweltfreundlicher Prozess mit minimaler Erzeugung gefährlicher Abfälle.
Technische Spezifikationen
Hauptausrüstungsteil
| Form der Ausrüstung |
|
| Vakuumkammer |
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| Hauptrahmen |
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| Wasserkühlsystem |
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| Schaltschrank |
|
Vakuumsystem
| Endvakuum |
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| Vakuumwiederherstellungszeit |
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| Druckanstiegsrate |
|
| Konfiguration des Vakuumsystems |
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| Vakuumsystemmessung |
|
| Bedienung des Vakuumsystems | Es gibt zwei wählbare Modi: manuelles Vakuum und automatisches Vakuum;
|
| Vakuumtest |
|
Heizsystem
- Heizmethode: Jod-Wolfram-Lampenheizmethode;
- Leistungsregler: digitaler Leistungsregler;
- Heiztemperatur: maximale Temperatur 200°C, Leistung 2000W/220V, steuerbare und einstellbare Anzeige, ±2°C Regelung;
- Anschlussmethode: Schnelleinschieben und schnelles Herausnehmen, Metallabschirmhaube gegen Verschmutzung und isolierte Stromquelle zur Gewährleistung der Personensicherheit.
HF-Hochfrequenzstromversorgung
- Frequenz: HF-Frequenz 13,56 MHz;
- Leistung: 0-2000 W kontinuierlich einstellbar;
- Funktion: vollautomatische Anpassung der Impedanzanpassung, vollautomatische Einstellung, um die Reflexionsfunktion sehr niedrig zu halten, interne Reflexion innerhalb von 0,5 %, mit manueller und automatischer Umschaltfunktion;
- Anzeige: mit Bias-Spannung, CT-Kondensatorposition, RT-Kondensatorposition, eingestellter Leistung, Anzeige der Reflexionsfunktion, mit Kommunikationsfunktion, Kommunikation mit Touchscreen, Einstellung und Anzeige von Parametern in der Konfigurationssoftware, Abstimmungsleitungsanzeige usw.
Kathoden-Anoden-Target
- Anodentarget: Eine Kupferscheibe von Ø300 mm wird als Kathodentarget verwendet, die Temperatur ist im Betrieb niedrig, und es wird kein Kühlwasser benötigt;
- Kathodentarget: Ø200 mm Kupfer-Wasserkühlkathodentarget, die Temperatur ist im Betrieb hoch, und das Innere wird mit Wasser gekühlt, um eine konstante Temperatur während des Betriebs zu gewährleisten, der maximale Abstand zwischen Anoden- und Kathodentarget beträgt 100-250 mm.
Aufblassteuerung
- Durchflussmesser: Ein britischer Vierwege-Durchflussmesser wird verwendet, der Durchfluss beträgt 0-200 SCCM, mit Druckanzeige, Kommunikations-Einstellungsparametern und Gasart kann eingestellt werden;
- Absperrventil: Qixing Huachuang DJ2C-VUG6 Absperrventil, arbeitet mit dem Durchflussmesser, mischt das Gas, füllt es durch die ringförmige Aufblasvorrichtung in die Kammer und strömt gleichmäßig über die Targetoberfläche;
- Vorgelagerte Gasflasche: Hauptsächlich eine Spülwechselflasche, die flüssiges C4H10 verdampft und dann in die vorgelagerte Pipeline des Durchflussmessers eintritt. Die Gasflasche verfügt über ein DSP-Instrument mit digitaler Druckanzeige, das Alarme bei Überdruck und Unterdruck ausgibt;
- Mischgas-Pufferflasche: Die Pufferflasche mischt vier Gase in der hinteren Stufe. Nach dem Mischen wird sie aus der Pufferflasche nach unten in die Kammer und nach oben ausgegeben, und einer davon kann unabhängig geschlossen werden;
- Aufblasvorrichtung: die gleichmäßige Gasleitung am Auslass des Gasstromkreises des Kammerkörpers, die gleichmäßig auf die Targetoberfläche geladen wird, um eine gleichmäßige Beschichtung zu erzielen.
Steuerungssystem
- Touchscreen: TPC1570GI Touchscreen als Host-Computer + Tastatur und Maus;
- Steuersoftware: tabellarische Einstellung der Prozessparameter, Anzeige der Alarmparameter, Anzeige der Vakuumparameter und Kurvenanzeige, Einstellung und Anzeige der HF-Stromversorgung und Gleichstromversorgung, Aufzeichnung des Arbeitszustands aller Ventile und Schalter, Prozessaufzeichnungen, Alarmaufzeichnungen, Vakuumaufzeichnungsparameter, kann etwa ein halbes Jahr gespeichert werden, und der Prozessbetrieb der gesamten Ausrüstung wird in 1 Sekunde gespeichert, um die Parameter zu speichern;
- SPS: Omron SPS wird als unterer Computer verwendet, um Daten von verschiedenen Komponenten und In-Position-Schaltern zu sammeln, Ventile und verschiedene Komponenten zu steuern und dann Dateninteraktion, Anzeige und Steuerung mit der Konfigurationssoftware durchzuführen. Dies ist sicherer und zuverlässiger;
- Steuerstatus: Ein-Knopf-Beschichtung, automatisches Vakuumieren, konstantes Vakuum, automatische Heizung, automatische Mehrschicht-Prozessabscheidung, automatische Fertigstellung von Abholung und anderen Arbeiten;
- Vorteile des Touchscreens: Die Touchscreen-Steuerungssoftware kann nicht geändert werden, der stabile Betrieb ist bequemer und flexibler, aber die Menge der gespeicherten Daten ist begrenzt, Parameter können direkt exportiert werden, und wenn es ein Problem mit dem Prozess gibt; 6. Alarm: Annahme des Ton- und Lichtalarmmodus und Aufzeichnung des Alarms in der Konfigurationsalarmparameterbibliothek. Er kann jederzeit in Zukunft abgefragt werden, und die gespeicherten Daten können jederzeit abgefragt und aufgerufen werden.
Konstantes Vakuum
- Schmetterlingsventil konstantes Vakuum: DN80 Schmetterlingsventil arbeitet mit Inficon CDG025 kapazitivem Dünnschichtmanometer zur Erzeugung eines konstanten Vakuums, Nachteil ist, dass die Ventilöffnung leicht verschmutzt und schwer zu reinigen ist;
- Ventilposition Modus: Setzen Sie den Positionssteuerungsmodus.
Wasser, Strom, Gas
- Die Haupt-Einlass- und Auslassrohre bestehen aus Edelstahl und sind mit Notfalleinlässen ausgestattet;
- Alle wassergekühlten Rohre außerhalb der Vakuumkammer verwenden Edelstahl-Schnellwechsel-Festverbindungen und Kunststoff-Hochdruckrohre (hochwertige Wasserrohre, die lange Zeit ohne Leckagen oder Brüche verwendet werden können), und die Einlass- und Auslass-Kunststoff-Hochdruckwasserrohre sollten in zwei verschiedenen Farben und entsprechend gekennzeichnet sein; Marke Airtek;
- Alle wassergekühlten Rohre innerhalb der Vakuumkammer bestehen aus hochwertigem SUS304-Material;
- Die Wasser- und Gasleitungen sind jeweils mit sicheren und zuverlässigen, hochpräzisen Anzeigeinstrumenten für Wasserdruck und Luftdruck ausgestattet.
- Ausgestattet mit einem 8P-Kühler für den Wasserdurchfluss der Kohlenstofffilmmaschine.
- Ausgestattet mit einem Satz 6KW-Warmwasserbereiter, wenn die Tür geöffnet wird, fließt heißes Wasser durch den Raum.
Sicherheitsanforderungen
- Die Maschine ist mit einer Alarmvorrichtung ausgestattet;
- Wenn der Wasser- oder Luftdruck nicht den spezifizierten Durchfluss erreicht, sind alle Vakuumpumpen und Ventile geschützt und können nicht gestartet werden, und es ertönt ein Alarmton und ein rotes Signallicht;
- Wenn die Maschine im normalen Arbeitsprozess ist und der Wasser- oder Luftdruck plötzlich unzureichend ist, werden alle Ventile automatisch geschlossen, und es ertönt ein Alarmton und ein rotes Signallicht;
- Wenn das Betriebssystem abnormal ist (Hochspannung, Ionenquelle, Steuerungssystem), ertönt ein Alarmton und ein rotes Signallicht;
- Die Hochspannung ist eingeschaltet und es gibt eine Schutzalarmvorrichtung.
Anforderungen an die Arbeitsumgebung
- Umgebungstemperatur: 10–35℃;
- Relative Luftfeuchtigkeit: nicht mehr als 80 %;
- Die Umgebung um die Ausrüstung ist sauber und die Luft ist rein. Es darf kein Staub oder Gas vorhanden sein, das Korrosion an elektrischen Geräten und anderen Metalloberflächen verursachen oder eine elektrische Leitfähigkeit zwischen Metallen bewirken kann.
Anforderungen an die Stromversorgung der Ausrüstung
- Wasserquelle: industrielles weiches Wasser, Wasserdruck 0,2–0,3 MPa, Wasservolumen ~ 60 l/min, Wassertemperatur ≤ 25 °C; Wasserrohranschluss 1,5 Zoll;
- Luftquelle: Luftdruck 0,6 MPa;
- Stromversorgung: Dreiphasen-Fünfleitersystem 380 V, 50 Hz, Spannungsfluktuationsbereich: Leitungsspannung 342–399 V, Phasenspannung 198–231 V; Frequenzfluktuationsbereich: 49–51 Hz; Stromverbrauch der Ausrüstung: ~ 16 KW; Erdungswiderstand ≤ 1 Ω;
- Hebenanforderungen: selbst mitgebrachter 3-Tonnen-Kran, Hubtor nicht weniger als 2000 x 2200 mm
Warnungen
Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.
Für Sie entworfen
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FAQ
Was Ist Die PECVD-Methode?
Wofür Wird PECVD Verwendet?
Was Sind Die Vorteile Von PECVD?
Was Ist Der Unterschied Zwischen ALD Und PECVD?
Was Ist Der Unterschied Zwischen PECVD Und Sputtern?
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RF PECVD System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung RF PECVD
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