Wissen Was sind 2 Beispiele für Ablagerungen in der Chemie?
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 2 Monaten

Was sind 2 Beispiele für Ablagerungen in der Chemie?

Die Abscheidung in der Chemie ist ein faszinierender Prozess, bei dem sich ein Gas direkt in einen Feststoff verwandelt, ohne die flüssige Phase zu durchlaufen.

Dieser Prozess kann auf natürliche Weise erfolgen oder durch verschiedene Methoden herbeigeführt werden.

Lassen Sie uns zwei gängige Beispiele für Abscheidungen in der Chemie untersuchen.

Was sind 2 Beispiele für Ablagerungen in der Chemie?

Was sind 2 Beispiele für Ablagerungen in der Chemie?

1. Bildung von Frost

Die Bildung von Frost ist ein gängiges Beispiel für Ablagerungen.

Wenn Wasserdampf in der Luft mit einer kalten Oberfläche in Berührung kommt, verwandelt er sich direkt in Eis, ohne vorher flüssig zu werden.

Dies ist ein physikalischer Ablagerungsprozess, bei dem sich Gas in einen Feststoff verwandelt, ohne die flüssige Phase zu durchlaufen.

2. Herstellung einer dünnen Schicht eines Feststoffs auf einem Substrat

Ein weiteres Beispiel für die Abscheidung ist die Herstellung eines dünnen Films aus einem Feststoff auf einem Substrat.

Dies kann durch physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) erreicht werden.

PVD nutzt mechanische, elektromechanische oder thermodynamische Mittel, um eine dünne Schicht eines Feststoffs auf einem Substrat zu erzeugen.

Dieses Verfahren wird häufig für verschiedene Anwendungen wie Schutzschichten, optische Beschichtungen, dekorative Beschichtungen und Dünnschicht-Photovoltaikzellen eingesetzt.

In der Chemie bezeichnet der Begriff Abscheidung den Prozess der Umwandlung eines Gases in einen Feststoff, ohne die flüssige Phase zu durchlaufen.

Dies kann auf natürliche Weise geschehen, wie z. B. bei der Bildung von Frost, oder durch verschiedene Abscheidungsmethoden, wie z. B. die physikalische Gasphasenabscheidung, um dünne Schichten von Feststoffen auf Oberflächen für verschiedene Anwendungen zu erzeugen.

Erforschen Sie weiter, konsultieren Sie unsere Experten

Sie suchen eine hochwertige Laborausrüstung für Ihre Abscheidungsprozesse?

Suchen Sie nicht weiter als KINTEK!

Als führender Anbieter in der Branche bieten wir eine breite Palette von Werkzeugen und Lösungen zur Verbesserung Ihrer PVD-Verfahren.

Von hochmodernen Aufdampfanlagen bis hin zu Präzisionssubstraten haben wir alles, was Sie für eine Atom-für-Atom- oder Molekül-für-Molekül-Beschichtung benötigen.

Besuchen Sie noch heute unsere Website und bringen Sie Ihre Abscheidungsprozesse mit KINTEK auf die nächste Stufe!

Ähnliche Produkte

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

Infrarot-Transmissionsbeschichtung, Saphirfolie/Saphirsubstrat/Saphirfenster

Infrarot-Transmissionsbeschichtung, Saphirfolie/Saphirsubstrat/Saphirfenster

Das aus Saphir gefertigte Substrat verfügt über beispiellose chemische, optische und physikalische Eigenschaften. Seine bemerkenswerte Beständigkeit gegenüber Thermoschocks, hohen Temperaturen, Sanderosion und Wasser zeichnet es aus.

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Das Ziehwerkzeug für die Nano-Diamant-Verbundbeschichtung verwendet Sinterkarbid (WC-Co) als Substrat und nutzt die chemische Gasphasenmethode (kurz CVD-Methode), um die herkömmliche Diamant- und Nano-Diamant-Verbundbeschichtung auf die Oberfläche des Innenlochs der Form aufzubringen.

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Isostatischer Kohlenstoffgraphit wird aus hochreinem Graphit gepresst. Es ist ein ausgezeichnetes Material für die Herstellung von Raketendüsen, Verzögerungsmaterialien und reflektierenden Graphitmaterialien für Reaktoren.

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Eine Technologie, die hauptsächlich im Bereich der Leistungselektronik eingesetzt wird. Dabei handelt es sich um eine Graphitfolie, die durch Materialabscheidung mittels Elektronenstrahltechnologie aus Kohlenstoffquellenmaterial hergestellt wird.

MgF2-Magnesiumfluorid-Kristallsubstrat / Fenster / Salzplatte

MgF2-Magnesiumfluorid-Kristallsubstrat / Fenster / Salzplatte

Magnesiumfluorid (MgF2) ist ein tetragonaler Kristall, der Anisotropie aufweist, weshalb es bei der Präzisionsbildgebung und Signalübertragung unbedingt erforderlich ist, ihn als Einkristall zu behandeln.

Graphit-Verdampfungstiegel

Graphit-Verdampfungstiegel

Gefäße für Hochtemperaturanwendungen, bei denen Materialien zum Verdampfen bei extrem hohen Temperaturen gehalten werden, wodurch dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden können.

CVD-bordotierter Diamant

CVD-bordotierter Diamant

CVD-bordotierter Diamant: Ein vielseitiges Material, das maßgeschneiderte elektrische Leitfähigkeit, optische Transparenz und außergewöhnliche thermische Eigenschaften für Anwendungen in der Elektronik, Optik, Sensorik und Quantentechnologie ermöglicht.

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung: Überlegene Wärmeleitfähigkeit, Kristallqualität und Haftung für Schneidwerkzeuge, Reibung und akustische Anwendungen

Elektronenkanonenstrahltiegel

Elektronenkanonenstrahltiegel

Im Zusammenhang mit der Elektronenstrahlverdampfung ist ein Tiegel ein Behälter oder Quellenhalter, der dazu dient, das auf einem Substrat abzuscheidende Material aufzunehmen und zu verdampfen.

Keramik-Verdampfungsboot-Set

Keramik-Verdampfungsboot-Set

Es kann zum Aufdampfen verschiedener Metalle und Legierungen verwendet werden. Die meisten Metalle können vollständig und verlustfrei verdampft werden. Verdunstungskörbe sind wiederverwendbar.

Verdampfungstiegel für organische Stoffe

Verdampfungstiegel für organische Stoffe

Ein Verdampfungstiegel für organische Stoffe, auch Verdampfungstiegel genannt, ist ein Behälter zum Verdampfen organischer Lösungsmittel in einer Laborumgebung.

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.

Kaliumfluorid (KF) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat

Kaliumfluorid (KF) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat

Erhalten Sie hochwertige Kaliumfluorid (KF)-Materialien für Ihren Laborbedarf zu günstigen Preisen. Unsere maßgeschneiderten Reinheiten, Formen und Größen entsprechen Ihren individuellen Anforderungen. Finden Sie Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien und mehr.

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Kohlenstoff (C).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Kohlenstoff (C).

Suchen Sie nach erschwinglichen Kohlenstoff (C)-Materialien für Ihren Laborbedarf? Suchen Sie nicht weiter! Unsere fachmännisch hergestellten und maßgeschneiderten Materialien sind in verschiedenen Formen, Größen und Reinheiten erhältlich. Wählen Sie aus Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Informieren Sie sich über die MPCVD-Maschine mit zylindrischem Resonator, das Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma, das für die Herstellung von Diamantsteinen und -filmen in der Schmuck- und Halbleiterindustrie verwendet wird. Entdecken Sie die kosteneffektiven Vorteile gegenüber den traditionellen HPHT-Methoden.

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Erhalten Sie hochwertige Diamantfilme mit unserer Bell-jar-Resonator-MPCVD-Maschine, die für Labor- und Diamantwachstum konzipiert ist. Entdecken Sie, wie die chemische Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma beim Züchten von Diamanten mithilfe von Kohlenstoffgas und Plasma funktioniert.

Schräge Rotationsrohrofenmaschine für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD).

Schräge Rotationsrohrofenmaschine für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD).

Wir stellen unseren geneigten rotierenden PECVD-Ofen für die präzise Dünnschichtabscheidung vor. Profitieren Sie von der automatischen Anpassung der Quelle, der programmierbaren PID-Temperaturregelung und der hochpräzisen MFC-Massendurchflussmesser-Steuerung. Integrierte Sicherheitsfunktionen sorgen für Sicherheit.

915MHz MPCVD Diamant-Maschine

915MHz MPCVD Diamant-Maschine

915MHz MPCVD-Diamant-Maschine und seine Multi-Kristall effektives Wachstum, die maximale Fläche kann 8 Zoll erreichen, die maximale effektive Wachstumsfläche von Einkristall kann 5 Zoll erreichen. Diese Ausrüstung wird hauptsächlich für die Produktion von großformatigen polykristallinen Diamantfilmen, das Wachstum von langen Einkristalldiamanten, das Niedertemperaturwachstum von hochwertigem Graphen und anderen Materialien verwendet, die Energie benötigen, die durch Mikrowellenplasma für das Wachstum bereitgestellt wird.

CVD-Diamant für das Wärmemanagement

CVD-Diamant für das Wärmemanagement

CVD-Diamant für das Wärmemanagement: Hochwertiger Diamant mit einer Wärmeleitfähigkeit von bis zu 2000 W/mK, ideal für Wärmeverteiler, Laserdioden und GaN on Diamond (GOD)-Anwendungen.

Verdampfungsboot für organische Stoffe

Verdampfungsboot für organische Stoffe

Das Verdampfungsschiffchen für organische Stoffe ist ein wichtiges Hilfsmittel zur präzisen und gleichmäßigen Erwärmung bei der Abscheidung organischer Stoffe.

Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung

Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung

Beim Einsatz von Elektronenstrahlverdampfungstechniken minimiert der Einsatz von sauerstofffreien Kupfertiegeln das Risiko einer Sauerstoffverunreinigung während des Verdampfungsprozesses.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht