Mikrowellenplasma bietet mehrere Vorteile, insbesondere bei Verfahren wie der chemischen Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma (MPCVD) und Sputtertechniken.
7 Vorteile von Mikrowellenplasma
1. Energieeffizienz und elektrodenloser Betrieb
Mikrowellenplasma ist ein elektrodenloses Verfahren.
Das bedeutet, dass es keine Elektroden zur Erzeugung des Plasmas benötigt.
Dadurch entfällt die Bildung einer Plasmahülle um die Elektroden, die bei der gleichstromplasmagestützten CVD Energie verbrauchen kann.
Dieser elektrodenlose Charakter macht das Verfahren energieeffizienter und reduziert die Komplexität des Aufbaus.
2. Stabilität und Reproduzierbarkeit
Das durch Mikrowellenenergie erzeugte nicht-isotherme Plasma ist äußerst stabil und reproduzierbar.
Diese Stabilität ermöglicht kontinuierliche Abscheidungsprozesse, die viele Stunden oder sogar Tage lang ohne Unterbrechung laufen können.
Dies ist von entscheidender Bedeutung für Anwendungen, die große oder lang andauernde Produktionsläufe erfordern.
3. Skalierbarkeit und Modularität
Die Verfügbarkeit von 1-2-KW-Mikrowellenstromversorgungen und -applikatoren erleichtert die Verwendung von modularen Einheiten.
Die Wachstumsrate bei MPCVD ist proportional zur Mikrowellenleistung.
Das bedeutet, dass eine Erhöhung der Leistung den Prozess vergrößern kann.
Diese Skalierbarkeit ist für die Ausweitung der Produktion auf größere Substrate oder höhere Stückzahlen von Vorteil.
4. Erhöhte Plasmadichte und Kontrolle
Der Einsatz der Magnetronverstärkung in Mikrowellenplasmasystemen erzeugt eine Entladung mit niedrigerer Spannung und höherem Strom im Vergleich zu Standard-Sputterverfahren.Dies führt zu einer höheren Dichte der ionisierten Spezies, was eine schnellere Zerstäubung des Zielmaterials zur Folge hat.Die in diesen Anlagen verwendeten modernen Stromversorgungen bieten ein hohes Maß an Stabilität und Kontrolle. Dadurch sind die Plasma- und Beschichtungsprozesse leicht zu regeln und auf sehr große Größenordnungen skalierbar.
