Die Sputterrate ist ein entscheidendes Konzept im Bereich der Materialwissenschaft.
Sie bezieht sich auf die Anzahl der Monoschichten pro Sekunde, die von der Oberfläche eines Zielmaterials entfernt werden.
Diese Rate wird von mehreren Faktoren beeinflusst.
Einer der Hauptfaktoren ist die Sputterausbeute.
Die Sputterausbeute ist die Anzahl der pro einfallendem Ion ausgestoßenen Atome.
Sie hängt in erster Linie vom Targetmaterial, von der Masse der beschossenen Teilchen und von der Energie der beschossenen Teilchen ab.
Ein weiterer Faktor ist das molare Gewicht des Zielmaterials.
Auch die Materialdichte spielt eine Rolle.
Und schließlich ist die Ionenstromdichte ein wichtiger Faktor.
Bei der Sputterdeposition ist die Sputterrate ein wichtiger Parameter.
Sie bestimmt die Geschwindigkeit, mit der das Targetmaterial abgetragen und auf der Probenoberfläche abgeschieden wird.
Die Sputterrate kann jedoch in Abhängigkeit von mehreren Bedingungen variieren.
Zu diesen Bedingungen gehören der Sputterstrom, die Sputterspannung, der Druck, der Abstand zwischen Target und Probe, das Sputtergas, die Targetdicke und das Probenmaterial.
Die Berechnung der genauen Abscheiderate kann aufgrund der Komplexität und Variabilität dieser Parameter schwierig sein.
Es wird daher empfohlen, die tatsächlich abgeschiedene Schichtdicke mit einem Schichtdickenmessgerät zu messen.
Es ist auch wichtig zu wissen, dass die Sputterrate die Menge des vom Target abgetragenen Materials misst.
Die Abscheiderate hingegen misst die Menge des auf der Probenoberfläche abgeschiedenen Targetmaterials.
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