In der Abscheidekammer ist ein Hochvakuum erforderlich, um die Reinheit und Qualität der abgeschiedenen Schichten zu gewährleisten.
Dies wird durch die Minimierung des Gasdrucks erreicht, um die mittlere freie Weglänge der verdampften Atome zu erhöhen, die Verunreinigung zu verringern und die Kontrolle über die Zusammensetzung der Gas- und Dampfphase zu verbessern.
Warum ist die Beschichtungskammer im Hochvakuum? 4 Hauptgründe werden erklärt
1. Erhöhter mittlerer freier Weg
In einer Hochvakuumumgebung ist der Gasdruck erheblich reduziert.
Dadurch erhöht sich die mittlere freie Weglänge der verdampften Atome.
Diese Atome legen längere Strecken zurück, ohne mit anderen Gasmolekülen zusammenzustoßen.
Dies ist von entscheidender Bedeutung, da es die Bildung von Ruß im Dampf verhindert.
Es sorgt dafür, dass die Atome das Substrat ohne Streuung erreichen.
Dies führt zu einer gleichmäßigeren und hochwertigeren Abscheidung.
2. Geringere Verschmutzungsgrade
Durch Hochvakuumbedingungen wird das Vorhandensein von Hintergrundgasen in der Kammer drastisch reduziert.
Diese Gase sind potenzielle Kontaminationsquellen.
Dies ist besonders wichtig für Anwendungen, die empfindlich auf Sauerstoff und Feuchtigkeit reagieren.
Dies gilt zum Beispiel für organische lichtemittierende Bauteile und organische Photovoltaik.
Selbst Spuren dieser Gase können die aktiven funktionellen Spezies auslöschen.
Durch die Aufrechterhaltung eines Vakuums im Bereich von 10^-6 bis 10^-9 Torr wird die Reinheit der aufgedampften Schichten erheblich verbessert.
3. Bessere Kontrolle der Gas- und Dampfphasenzusammensetzung
Die Hochvakuumumgebung ermöglicht es den Technikern, die Zusammensetzung der Gas- und Dampfphasen genau zu kontrollieren.
Diese Kontrolle ist für die Herstellung spezieller dünner Schichten unerlässlich.
Diese werden beispielsweise für optische Beschichtungen verwendet.
Die chemische Zusammensetzung des Films muss exakt sein.
4. Saubere Oberflächen für bessere Haftung
Ein Hochvakuum sorgt auch dafür, dass die Oberflächen in der Kammer sauber sind.
Diese Sauberkeit ist entscheidend.
Sie ermöglicht es den verdampften Atomen, besser am Substrat zu haften.
Es bildet sich eine stabile und gleichmäßige Schicht.
Ohne ein hohes Vakuum könnten die verdampften Atome nicht gut haften.
Dies könnte zu einer instabilen oder ungleichmäßigen Abscheidung führen.
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