Artikel

Verständnis und Vorbeugung der Vergiftung von Magnetron-Sputter-Targets

Verständnis und Vorbeugung der Vergiftung von Magnetron-Sputter-Targets

vor 2 Monaten

Erörtert das Phänomen der Targetvergiftung beim Magnetronsputtern, seine Ursachen, Auswirkungen und Präventivmaßnahmen.

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Auswirkungen verschiedener Stromversorgungen auf die Morphologie gesputterter Filme

Auswirkungen verschiedener Stromversorgungen auf die Morphologie gesputterter Filme

vor 2 Monaten

In diesem Artikel wird erörtert, wie sich unterschiedliche Stromversorgungen auf die Morphologie gesputterter Schichten auswirken, wobei der Schwerpunkt auf DC-, PDC- und RF-Stromversorgungen liegt.

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Analyse des starken Abtrags im mittleren Bereich keramischer Targets beim Magnetronsputtern

Analyse des starken Abtrags im mittleren Bereich keramischer Targets beim Magnetronsputtern

vor 2 Monaten

In diesem Artikel werden die Ursachen und Lösungen für den starken Abtrag im mittleren Bereich keramischer Targets beim Magnetronsputtern erörtert.

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Messung der Abziehfestigkeit von gesputterten Filmschichten

Messung der Abziehfestigkeit von gesputterten Filmschichten

vor 2 Monaten

Ein ausführlicher Leitfaden über die Definition, die Messmethoden, die Einflussfaktoren und die Geräte, die zur Bewertung der Schälfestigkeit von gesputterten Folienschichten verwendet werden.

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Kontrolle der Schichtdickentoleranz bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung

Kontrolle der Schichtdickentoleranz bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung

vor 2 Monaten

Erörtert Methoden zur Gewährleistung der Schichtdickentoleranz bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung für eine optimale Materialleistung.

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Elektronenstrahl-Verdampfungsbeschichtung: Vorteile, Nachteile und Anwendungen

Elektronenstrahl-Verdampfungsbeschichtung: Vorteile, Nachteile und Anwendungen

vor 2 Monaten

Ein eingehender Blick auf die Vor- und Nachteile der Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung und ihre verschiedenen Anwendungen in der Industrie.

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Herausforderungen bei der TiN-Schichtabscheidung mit AC-Strom und Lösungen

Herausforderungen bei der TiN-Schichtabscheidung mit AC-Strom und Lösungen

vor 2 Monaten

Erörtert die Schwierigkeiten des TiN-Schichtwachstums mit Wechselstrom und schlägt Lösungen wie Gleichstromsputtern und gepulsten Gleichstrom vor.

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Umfassender Überblick über PVD-Beschichtungsprozesse

Umfassender Überblick über PVD-Beschichtungsprozesse

vor 2 Monaten

Ein detaillierter Einblick in die Prinzipien, Arten, Gasanwendungen und praktischen Anwendungen von PVD-Beschichtungsverfahren.

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Entwurf von Dünnschichtsystemen: Prinzipien, Überlegungen und praktische Anwendungen

Entwurf von Dünnschichtsystemen: Prinzipien, Überlegungen und praktische Anwendungen

vor 2 Monaten

Eine eingehende Untersuchung der Konstruktionsprinzipien von Dünnschichtsystemen, technologische Überlegungen und praktische Anwendungen in verschiedenen Bereichen.

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Probleme bei der Magnetronzerstäubung: Warum ein Glühen auftritt, aber kein Film abgeschieden wird

Probleme bei der Magnetronzerstäubung: Warum ein Glühen auftritt, aber kein Film abgeschieden wird

vor 2 Monaten

Analyse der Faktoren, die dazu führen, dass trotz Glühen beim Magnetronsputtern keine Schicht abgeschieden wird.

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Faktoren, die die Gleichmäßigkeit der Magnetronzerstäubung beeinflussen

Faktoren, die die Gleichmäßigkeit der Magnetronzerstäubung beeinflussen

vor 3 Monaten

Erörtert die Schlüsselfaktoren, die die Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung beim Magnetronsputtern beeinflussen, einschließlich Geräteparameter, Sputterleistung, Gasdruck, Magnetfeldkonfiguration, Substrateigenschaften und mehr.

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Auswahl von Materialien für die Vakuumbeschichtung: Schlüsselfaktoren und Überlegungen

Auswahl von Materialien für die Vakuumbeschichtung: Schlüsselfaktoren und Überlegungen

vor 3 Monaten

Leitlinien zur Auswahl der richtigen Vakuumbeschichtungsmaterialien auf der Grundlage von Anwendung, Materialeigenschaften, Beschichtungsmethoden, Wirtschaftlichkeit, Substratverträglichkeit und Sicherheit.

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Herausforderungen bei der Erzielung einer Glimmentladung mit Rhenium-Targets beim Magnetronsputtern

Herausforderungen bei der Erzielung einer Glimmentladung mit Rhenium-Targets beim Magnetronsputtern

vor 3 Monaten

Untersucht die Gründe, warum Rhenium-Targets beim Magnetron-Sputtern nicht glühen, und bietet Optimierungsvorschläge.

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Parameter, die den Sputtering-Effekt beim Magnetron-Sputterverfahren beeinflussen

Parameter, die den Sputtering-Effekt beim Magnetron-Sputterverfahren beeinflussen

vor 3 Monaten

Schlüsselparameter, die den Sputtereffekt beim Magnetronsputtern beeinflussen, einschließlich Luftdruck, Leistung, Targetabstand, Substrattyp und mehr.

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Farbkontrolle und Anwendungen von aufgedampften Siliziumoxidschichten

Farbkontrolle und Anwendungen von aufgedampften Siliziumoxidschichten

vor 3 Monaten

Erforschung von Farbvariationen, Kontrollmethoden und praktischen Anwendungen von Siliziumoxid-Dünnschichten.

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Vorsichtsmaßnahmen für die Herstellung von Blei-Zirkonat-Titanat-Schichten (PZT) durch Magnetron-Sputtern

Vorsichtsmaßnahmen für die Herstellung von Blei-Zirkonat-Titanat-Schichten (PZT) durch Magnetron-Sputtern

vor 3 Monaten

Richtlinien und Vorsichtsmaßnahmen für die Herstellung von PZT-Schichten durch Magnetronsputtern.

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Überlegungen zur Verdunstungsbeschichtung auf flexiblen Substraten

Überlegungen zur Verdunstungsbeschichtung auf flexiblen Substraten

vor 3 Monaten

Schlüsselfaktoren für eine erfolgreiche Verdunstungsbeschichtung auf flexiblen Materialien, die Qualität und Leistung gewährleisten.

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Arten von Bias-Stromversorgungen beim Magnetronsputtern und ihre Aufgaben

Arten von Bias-Stromversorgungen beim Magnetronsputtern und ihre Aufgaben

vor 3 Monaten

Überblick über die Arten der Bias-Stromversorgung beim Magnetronsputtern und ihre Rolle bei der Verbesserung der Schichthaftung und -dichte.

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Die Unterschiede und Anwendungen von DC-, MF- und RF-Sputtern bei der Dünnschichtherstellung verstehen

Die Unterschiede und Anwendungen von DC-, MF- und RF-Sputtern bei der Dünnschichtherstellung verstehen

vor 3 Monaten

Dieser Artikel erläutert die Unterschiede und Anwendungen von DC-, MF- und RF-Sputtertechniken bei der Dünnschichtpräparation.

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Funkenbildung des Zielmaterials bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung: Ursachen und Lösungen

Funkenbildung des Zielmaterials bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung: Ursachen und Lösungen

vor 3 Monaten

Erklärt, warum das Targetmaterial beim Magnetronsputtern Funken schlägt und bietet Lösungen an, um dies zu verhindern.

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Verständnis der Sputtering-Beschichtungstechnologie

Verständnis der Sputtering-Beschichtungstechnologie

vor 3 Monaten

Ein eingehender Blick auf die Sputtering-Beschichtungstechnologie, ihre Mechanismen, Arten und Anwendungen.

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Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) Dünnschichttechnologie

Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) Dünnschichttechnologie

vor 3 Monaten

Überblick über die CVD-Technologie, ihre Grundsätze, Arten, Anwendungen, Verfahrensmerkmale und Vorteile.

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Dünnschichtabscheidungsverfahren in der Halbleiterherstellung

Dünnschichtabscheidungsverfahren in der Halbleiterherstellung

vor 3 Monaten

Ein Überblick über die Techniken der Dünnschichtabscheidung mit Schwerpunkt auf den Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) in der Halbleiterherstellung.

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Umfassender Überblick über Technologien der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)

Umfassender Überblick über Technologien der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)

vor 3 Monaten

Dieser Artikel beschreibt verschiedene CVD-Technologien, die in der Halbleiter- und Dünnschichtindustrie eingesetzt werden.

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MPCVD-Kulturdiamanten revolutionieren die Industrie

MPCVD-Kulturdiamanten revolutionieren die Industrie

vor 3 Monaten

Untersucht die Auswirkungen von MPCVD-gezüchteten Diamanten auf verschiedene Branchen und Strategien zur Kostensenkung und Effizienzsteigerung.

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Auswahl eines leistungsstarken MPCVD-Geräts

Auswahl eines leistungsstarken MPCVD-Geräts

vor 3 Monaten

Wichtige Überlegungen bei der Auswahl einer MPCVD-Anlage für das Diamantwachstum.

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MPCVD verstehen: Ein umfassender Leitfaden für die chemische Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma

MPCVD verstehen: Ein umfassender Leitfaden für die chemische Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma

vor 3 Monaten

Eine eingehende Untersuchung der MPCVD-Technologie, ihrer Komponenten, Vorteile und Faktoren, die das Filmwachstum beeinflussen.

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Die Wahl der richtigen Heizmethode für Laborexperimente

Die Wahl der richtigen Heizmethode für Laborexperimente

vor 3 Monaten

Erörtert verschiedene Heizmethoden im Labor und ihre Eignung für verschiedene Experimente.

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Hydraulische Heißpresse: Prinzipien, Komponenten, Merkmale, Vorteile und Anwendungen

Hydraulische Heißpresse: Prinzipien, Komponenten, Merkmale, Vorteile und Anwendungen

vor 3 Monaten

Ein eingehender Blick auf die hydraulische Heißpresse, ihre Komponenten, Merkmale, Vorteile und Anwendungen.

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Richtlinien für den sicheren Betrieb und die Verfahren von Flachplatten-Heißpressen bei Laminierversuchen

Richtlinien für den sicheren Betrieb und die Verfahren von Flachplatten-Heißpressen bei Laminierversuchen

vor 3 Monaten

Detaillierte Sicherheits- und Betriebsrichtlinien für den Einsatz einer Flachbett-Heißpresse bei Laminierungsversuchen, einschließlich Prüfungen vor dem Einsatz, Materialvorbereitung, Heizverfahren und Nachbearbeitung.

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