Wissen Welchen Einfluss hat das Substrat auf Dünnschichten?
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 1 Woche

Welchen Einfluss hat das Substrat auf Dünnschichten?

Die Auswirkungen des Substrats auf dünne Schichten sind signifikant und vielschichtig und beeinflussen verschiedene Aspekte der Eigenschaften und der Leistung der Schicht. Das Substrat bietet nicht nur eine Oberfläche für die Schichtabscheidung, sondern interagiert auch mit der Schicht während und nach der Abscheidung und beeinflusst deren Struktur, Qualität und Funktionalität.

1. Einfluss auf das Wachstum und die Qualität der Schicht:

Das Substrat spielt in der Anfangsphase des Dünnschichtwachstums eine entscheidende Rolle, insbesondere bei der Keimbildung und in den frühen Phasen der Schichtbildung. Die Wechselwirkung zwischen dem Substrat und den abscheidenden Atomen kann die Mikrostruktur und die Haftung der Schicht beeinflussen. So können beispielsweise die Ionisierung des Inertgases und das Eindringen des Plasmas um das Substrat herum zu einem Ionenbeschuss führen, der die Qualität der Dünnschicht verbessert, indem er eine bessere Haftung und eine dichtere Packung der Atome fördert. Die Eigenschaften des Substrats, wie z. B. seine chemische Zusammensetzung, die Oberflächenrauheit und die Temperatur, können die Keimbildung und die Wachstumsprozesse erheblich beeinflussen, was zu Schwankungen in den Eigenschaften der Schicht führt.2. Auswirkungen auf die Filmeigenschaften:

Das Substrat kann auch die elektrischen, optischen und mechanischen Eigenschaften der Dünnschicht beeinflussen. So kann beispielsweise die elektrische Leitfähigkeit einer Dünnschicht durch das Substrat beeinflusst werden, und zwar durch den Größeneffekt, bei dem die kürzere mittlere freie Weglänge der Ladungsträger in der Dünnschicht in Verbindung mit einer verstärkten Streuung an Defekten und Korngrenzen die Leitfähigkeit verringern kann. Dieser Effekt ist besonders ausgeprägt, wenn das Substrat zusätzliche Streuzentren einführt oder die Mikrostruktur der Schicht verändert.

3. Rolle bei Abscheidungsprozessen:

Die Wahl des Substrats und seiner Eigenschaften kann die effektivsten Abscheidungstechniken und -parameter bestimmen. So sind beispielsweise die Abscheiderate und die Substrattemperatur kritische Parameter, die sorgfältig kontrolliert werden müssen, um eine gleichmäßige Schichtdicke und die gewünschten Schichteigenschaften zu gewährleisten. Insbesondere die Substrattemperatur kann die Mobilität der adsorbierten Spezies auf der Oberfläche beeinflussen, was sich auf den Wachstumsmodus und die Struktur der Schicht auswirkt. In einigen Fällen kann eine Erwärmung oder Abkühlung des Substrats erforderlich sein, um die Schichteigenschaften zu optimieren, was die aktive Rolle des Substrats im Abscheidungsprozess verdeutlicht.

4. Verbesserung der Oberflächeneigenschaften:

Ähnliche Produkte

Fenster/Substrat/optische Linse aus Zinkselenid (ZnSe).

Fenster/Substrat/optische Linse aus Zinkselenid (ZnSe).

Zinkselenid entsteht durch die Synthese von Zinkdampf mit H2Se-Gas, was zu schichtförmigen Ablagerungen auf Graphitsuszeptoren führt.

Infrarot-Transmissionsbeschichtung, Saphirfolie/Saphirsubstrat/Saphirfenster

Infrarot-Transmissionsbeschichtung, Saphirfolie/Saphirsubstrat/Saphirfenster

Das aus Saphir gefertigte Substrat verfügt über beispiellose chemische, optische und physikalische Eigenschaften. Seine bemerkenswerte Beständigkeit gegenüber Thermoschocks, hohen Temperaturen, Sanderosion und Wasser zeichnet es aus.

MgF2-Magnesiumfluorid-Kristallsubstrat / Fenster / Salzplatte

MgF2-Magnesiumfluorid-Kristallsubstrat / Fenster / Salzplatte

Magnesiumfluorid (MgF2) ist ein tetragonaler Kristall, der Anisotropie aufweist, weshalb es bei der Präzisionsbildgebung und Signalübertragung unbedingt erforderlich ist, ihn als Einkristall zu behandeln.

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung: Überlegene Wärmeleitfähigkeit, Kristallqualität und Haftung für Schneidwerkzeuge, Reibung und akustische Anwendungen

Optisches Floatglas aus Natronkalk für das Labor

Optisches Floatglas aus Natronkalk für das Labor

Natronkalkglas, das als isolierendes Substrat für die Dünn-/Dickschichtabscheidung weithin beliebt ist, wird durch das Schweben von geschmolzenem Glas auf geschmolzenem Zinn hergestellt. Diese Methode gewährleistet eine gleichmäßige Dicke und außergewöhnlich ebene Oberflächen.

CaF2-Substrat / Fenster / Linse

CaF2-Substrat / Fenster / Linse

Ein CaF2-Fenster ist ein optisches Fenster aus kristallinem Calciumfluorid. Diese Fenster sind vielseitig, umweltbeständig und resistent gegen Laserschäden und weisen eine hohe, stabile Transmission von 200 nm bis etwa 7 μm auf.

Bariumfluorid (BaF2) Substrat/Fenster

Bariumfluorid (BaF2) Substrat/Fenster

BaF2 ist der schnellste Szintillator und aufgrund seiner außergewöhnlichen Eigenschaften beliebt. Seine Fenster und Platten sind wertvoll für die VUV- und Infrarotspektroskopie.

Infrarot-Silizium / hochbeständiges Silizium / Einkristall-Siliziumlinse

Infrarot-Silizium / hochbeständiges Silizium / Einkristall-Siliziumlinse

Silizium (Si) gilt weithin als eines der langlebigsten mineralischen und optischen Materialien für Anwendungen im Nahinfrarotbereich (NIR), etwa 1 μm bis 6 μm.

Fenster/Salzplatte aus Zinksulfid (ZnS).

Fenster/Salzplatte aus Zinksulfid (ZnS).

Optikfenster aus Zinksulfid (ZnS) haben einen ausgezeichneten IR-Übertragungsbereich zwischen 8 und 14 Mikrometern. Hervorragende mechanische Festigkeit und chemische Inertheit für raue Umgebungen (härter als ZnSe-Fenster).

Hochtemperaturbeständige optische Quarzglasscheibe

Hochtemperaturbeständige optische Quarzglasscheibe

Entdecken Sie die Leistungsfähigkeit optischer Glasscheiben für die präzise Lichtmanipulation in der Telekommunikation, Astronomie und darüber hinaus. Erschließen Sie Fortschritte in der optischen Technologie mit außergewöhnlicher Klarheit und maßgeschneiderten Brechungseigenschaften.

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Isostatischer Kohlenstoffgraphit wird aus hochreinem Graphit gepresst. Es ist ein ausgezeichnetes Material für die Herstellung von Raketendüsen, Verzögerungsmaterialien und reflektierenden Graphitmaterialien für Reaktoren.

Siliziumnitrid (SiC) Keramikplatte Präzisionsbearbeitungskeramik

Siliziumnitrid (SiC) Keramikplatte Präzisionsbearbeitungskeramik

Siliziumnitridplatten sind aufgrund ihrer gleichmäßigen Leistung bei hohen Temperaturen ein häufig verwendetes Keramikmaterial in der metallurgischen Industrie.

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Der Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit hat eine gleichmäßige Temperatur, einen geringen Energieverbrauch und kann kontinuierlich betrieben werden.

Graphit-Verdampfungstiegel

Graphit-Verdampfungstiegel

Gefäße für Hochtemperaturanwendungen, bei denen Materialien zum Verdampfen bei extrem hohen Temperaturen gehalten werden, wodurch dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden können.

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Das Ziehwerkzeug für die Nano-Diamant-Verbundbeschichtung verwendet Sinterkarbid (WC-Co) als Substrat und nutzt die chemische Gasphasenmethode (kurz CVD-Methode), um die herkömmliche Diamant- und Nano-Diamant-Verbundbeschichtung auf die Oberfläche des Innenlochs der Form aufzubringen.

Schräge Rotationsrohrofenmaschine für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD).

Schräge Rotationsrohrofenmaschine für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD).

Wir stellen unseren geneigten rotierenden PECVD-Ofen für die präzise Dünnschichtabscheidung vor. Profitieren Sie von der automatischen Anpassung der Quelle, der programmierbaren PID-Temperaturregelung und der hochpräzisen MFC-Massendurchflussmesser-Steuerung. Integrierte Sicherheitsfunktionen sorgen für Sicherheit.

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Erhalten Sie hochwertige Diamantfilme mit unserer Bell-jar-Resonator-MPCVD-Maschine, die für Labor- und Diamantwachstum konzipiert ist. Entdecken Sie, wie die chemische Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma beim Züchten von Diamanten mithilfe von Kohlenstoffgas und Plasma funktioniert.

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Eine Technologie, die hauptsächlich im Bereich der Leistungselektronik eingesetzt wird. Dabei handelt es sich um eine Graphitfolie, die durch Materialabscheidung mittels Elektronenstrahltechnologie aus Kohlenstoffquellenmaterial hergestellt wird.

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Kohlenstoff (C).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Kohlenstoff (C).

Suchen Sie nach erschwinglichen Kohlenstoff (C)-Materialien für Ihren Laborbedarf? Suchen Sie nicht weiter! Unsere fachmännisch hergestellten und maßgeschneiderten Materialien sind in verschiedenen Formen, Größen und Reinheiten erhältlich. Wählen Sie aus Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Informieren Sie sich über die MPCVD-Maschine mit zylindrischem Resonator, das Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma, das für die Herstellung von Diamantsteinen und -filmen in der Schmuck- und Halbleiterindustrie verwendet wird. Entdecken Sie die kosteneffektiven Vorteile gegenüber den traditionellen HPHT-Methoden.

Elektronenkanonenstrahltiegel

Elektronenkanonenstrahltiegel

Im Zusammenhang mit der Elektronenstrahlverdampfung ist ein Tiegel ein Behälter oder Quellenhalter, der dazu dient, das auf einem Substrat abzuscheidende Material aufzunehmen und zu verdampfen.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht