Wissen Was ist die Spannung der Elektronenstrahlverdampfung? (4 wichtige Punkte erklärt)
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 2 Monaten

Was ist die Spannung der Elektronenstrahlverdampfung? (4 wichtige Punkte erklärt)

Die Elektronenstrahlverdampfung ist ein Verfahren, bei dem ein Hochspannungselektronenstrahl verwendet wird, um Materialien in einer Vakuumumgebung zu erhitzen und zu verdampfen. Die Spannung liegt in der Regel zwischen 3 und 40 kV, wobei üblicherweise Spannungen zwischen 10 kV und 25 kV verwendet werden. Diese hohe Spannung ist notwendig, um den Elektronenstrahl auf eine hohe kinetische Energie zu beschleunigen, die dann zum Erhitzen und Verdampfen des Ausgangsmaterials verwendet wird.

4 wichtige Punkte erklärt

Was ist die Spannung der Elektronenstrahlverdampfung? (4 wichtige Punkte erklärt)

1. Spannungsbereich und Zweck

Die bei der Elektronenstrahlverdampfung verwendete Spannung ist entscheidend, da sie die kinetische Energie der Elektronen bestimmt. Diese Energie ist direkt proportional zu der angelegten Spannung. Bei einer Beschleunigungsspannung von 20-25 kV und einem Strahlstrom von einigen Ampere können beispielsweise etwa 85 % der kinetischen Energie der Elektronen in Wärmeenergie umgewandelt werden, die für die Erwärmung des Materials bis zum Verdampfungspunkt erforderlich ist.

2. Auswirkungen auf die Materialerwärmung

Die Hochspannung beschleunigt die Elektronen auf eine Geschwindigkeit, bei der sie beim Aufprall auf das Ausgangsmaterial eine beträchtliche Menge an Energie abgeben können. Durch diese Energieübertragung wird das Material erhitzt, oft auf Temperaturen von über 3000 °C, wodurch es schmilzt oder sublimiert. Die lokale Erhitzung an der Stelle des Elektronenbeschusses sorgt für eine minimale Kontamination des Tiegels.

3. Energieumwandlung und -verluste

Beim Auftreffen auf das Verdampfungsmaterial verlieren die Elektronen schnell ihre Energie und wandeln ihre kinetische Energie in Wärmeenergie um. Ein Teil der Energie geht jedoch durch die Erzeugung von Röntgenstrahlung und Sekundärelektronenemission verloren. Diese Verluste machen nur einen kleinen Teil der insgesamt abgegebenen Energie aus, sind aber für die Gesamteffizienz und Sicherheit des Prozesses von Bedeutung.

4. Betriebsflexibilität

Die Spannung kann je nach den spezifischen Anforderungen des Abscheidungsprozesses, wie z. B. der Art des zu verdampfenden Materials und der gewünschten Abscheidungsrate, angepasst werden. Dank dieser Flexibilität kann die E-Beam-Verdampfung für eine breite Palette von Materialien eingesetzt werden, auch für solche mit hohen Schmelzpunkten, was sie zu einer vielseitigen Technik für die Dünnschichtabscheidung macht.

Erforschen Sie weiter, konsultieren Sie unsere Experten

Entdecken Sie die präzise Steuerung und Effizienz der E-Beam-Verdampfung mit den hochmodernen Anlagen von KINTEK SOLUTION. Unsere fortschrittlichen Systeme bieten einen vielseitigen Spannungsbereich von 3 bis 40 kV, der auf eine optimale Materialerwärmung und Verdampfung zugeschnitten ist.Verpassen Sie nicht die Gelegenheit, Ihren Dünnschichtabscheidungsprozess zu verbessern - wenden Sie sich noch heute an uns, um fachkundige Lösungen zu erhalten, die Ihre Forschungs- und Produktionskapazitäten verbessern werden.

Ähnliche Produkte

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Eine Technologie, die hauptsächlich im Bereich der Leistungselektronik eingesetzt wird. Dabei handelt es sich um eine Graphitfolie, die durch Materialabscheidung mittels Elektronenstrahltechnologie aus Kohlenstoffquellenmaterial hergestellt wird.

Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung

Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung

Beim Einsatz von Elektronenstrahlverdampfungstechniken minimiert der Einsatz von sauerstofffreien Kupfertiegeln das Risiko einer Sauerstoffverunreinigung während des Verdampfungsprozesses.

Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtungs-Wolframtiegel / Molybdäntiegel

Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtungs-Wolframtiegel / Molybdäntiegel

Tiegel aus Wolfram und Molybdän werden aufgrund ihrer hervorragenden thermischen und mechanischen Eigenschaften häufig in Elektronenstrahlverdampfungsprozessen eingesetzt.

Vakuumschwebe-Induktionsschmelzofen Lichtbogenschmelzofen

Vakuumschwebe-Induktionsschmelzofen Lichtbogenschmelzofen

Erleben Sie präzises Schmelzen mit unserem Vakuumschwebeschmelzofen. Ideal für Metalle oder Legierungen mit hohem Schmelzpunkt, mit fortschrittlicher Technologie für effektives Schmelzen. Bestellen Sie jetzt für hochwertige Ergebnisse.

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.

Elektronenkanonenstrahltiegel

Elektronenkanonenstrahltiegel

Im Zusammenhang mit der Elektronenstrahlverdampfung ist ein Tiegel ein Behälter oder Quellenhalter, der dazu dient, das auf einem Substrat abzuscheidende Material aufzunehmen und zu verdampfen.

Optische Wasserbad-Elektrolysezelle

Optische Wasserbad-Elektrolysezelle

Werten Sie Ihre elektrolytischen Experimente mit unserem optischen Wasserbad auf. Mit kontrollierbarer Temperatur und ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit kann es an Ihre spezifischen Anforderungen angepasst werden. Entdecken Sie noch heute unsere vollständigen Spezifikationen.

Keramik-Verdampfungsboot-Set

Keramik-Verdampfungsboot-Set

Es kann zum Aufdampfen verschiedener Metalle und Legierungen verwendet werden. Die meisten Metalle können vollständig und verlustfrei verdampft werden. Verdunstungskörbe sind wiederverwendbar.

Nicht verbrauchbarer Vakuum-Lichtbogenofen. Induktionsschmelzofen

Nicht verbrauchbarer Vakuum-Lichtbogenofen. Induktionsschmelzofen

Entdecken Sie die Vorteile eines nicht verbrauchbaren Vakuum-Lichtbogenofens mit Elektroden mit hohem Schmelzpunkt. Klein, einfach zu bedienen und umweltfreundlich. Ideal für die Laborforschung zu hochschmelzenden Metallen und Karbiden.

Wasserbad-Elektrolysezelle – optische Doppelschicht vom H-Typ

Wasserbad-Elektrolysezelle – optische Doppelschicht vom H-Typ

Doppelschichtige optische Wasserbad-Elektrolysezellen vom H-Typ mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit und einer breiten Palette an Spezifikationen erhältlich. Anpassungsoptionen sind ebenfalls verfügbar.

Vakuum-Lichtbogenofen. Induktionsschmelzofen

Vakuum-Lichtbogenofen. Induktionsschmelzofen

Entdecken Sie die Leistungsfähigkeit des Vakuum-Lichtbogenofens zum Schmelzen von aktiven und hochschmelzenden Metallen. Hohe Geschwindigkeit, bemerkenswerter Entgasungseffekt und frei von Verunreinigungen. Jetzt mehr erfahren!

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

Graphit-Verdampfungstiegel

Graphit-Verdampfungstiegel

Gefäße für Hochtemperaturanwendungen, bei denen Materialien zum Verdampfen bei extrem hohen Temperaturen gehalten werden, wodurch dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden können.

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Das Ziehwerkzeug für die Nano-Diamant-Verbundbeschichtung verwendet Sinterkarbid (WC-Co) als Substrat und nutzt die chemische Gasphasenmethode (kurz CVD-Methode), um die herkömmliche Diamant- und Nano-Diamant-Verbundbeschichtung auf die Oberfläche des Innenlochs der Form aufzubringen.

Fenster/Substrat/optische Linse aus Zinkselenid (ZnSe).

Fenster/Substrat/optische Linse aus Zinkselenid (ZnSe).

Zinkselenid entsteht durch die Synthese von Zinkdampf mit H2Se-Gas, was zu schichtförmigen Ablagerungen auf Graphitsuszeptoren führt.

Infrarot-Transmissionsbeschichtung, Saphirfolie/Saphirsubstrat/Saphirfenster

Infrarot-Transmissionsbeschichtung, Saphirfolie/Saphirsubstrat/Saphirfenster

Das aus Saphir gefertigte Substrat verfügt über beispiellose chemische, optische und physikalische Eigenschaften. Seine bemerkenswerte Beständigkeit gegenüber Thermoschocks, hohen Temperaturen, Sanderosion und Wasser zeichnet es aus.

2-5L Rotationsverdampfer für Extraktion, Molekularkochen, Gastronomie und Labor

2-5L Rotationsverdampfer für Extraktion, Molekularkochen, Gastronomie und Labor

Entfernen Sie niedrigsiedende Lösungsmittel effizient mit dem Rotationsverdampfer KT 2-5L. Perfekt für Chemielabore in der pharmazeutischen, chemischen und biologischen Industrie.

Vom Kunden gefertigte, vielseitige CVD-Rohrofen-CVD-Maschine

Vom Kunden gefertigte, vielseitige CVD-Rohrofen-CVD-Maschine

Holen Sie sich Ihren exklusiven CVD-Ofen mit dem kundenspezifischen vielseitigen Ofen KT-CTF16. Anpassbare Schiebe-, Dreh- und Neigefunktionen für präzise Reaktionen. Jetzt bestellen!

10-50L Rotationsverdampfer für Extraktion, Molekularkocherei, Gastronomie und Labor

10-50L Rotationsverdampfer für Extraktion, Molekularkocherei, Gastronomie und Labor

Trennen Sie niedrigsiedende Lösungsmittel effizient mit dem KT-Rotationsverdampfer. Garantierte Leistung durch hochwertige Materialien und flexible Modulbauweise.

0.5-4L Rotationsverdampfer für Extraktion, Molekularkochen, Gastronomie und Labor

0.5-4L Rotationsverdampfer für Extraktion, Molekularkochen, Gastronomie und Labor

Trennen Sie „niedrig siedende“ Lösungsmittel effizient mit einem 0,5–4-Liter-Rotationsverdampfer. Entwickelt mit hochwertigen Materialien, Telfon+Viton-Vakuumdichtung und PTFE-Ventilen für einen kontaminationsfreien Betrieb.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht