Wissen Wie funktioniert das Spark-Plasma-Sintern? - Die 4 wichtigsten Schritte erklärt
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 1 Monat

Wie funktioniert das Spark-Plasma-Sintern? - Die 4 wichtigsten Schritte erklärt

Das Funkenplasmasintern (SPS) ist ein schnelles Sinterverfahren, bei dem gepulster elektrischer Strom zum Erhitzen und Verdichten von Pulverwerkstoffen verwendet wird.

Der Prozess umfasst drei Hauptphasen: Plasmaerhitzung, Sintern und Abkühlen.

SPS bietet gegenüber herkömmlichen Sinterverfahren erhebliche Vorteile, darunter schnellere Verarbeitungszeiten, höhere Heizraten und die Möglichkeit, Materialien mit kontrollierten Mikrostrukturen und Eigenschaften herzustellen.

Die 4 Hauptstufen werden erklärt

Wie funktioniert das Spark-Plasma-Sintern? - Die 4 wichtigsten Schritte erklärt

1. Plasmaerwärmung

In der Anfangsphase der SPS führt eine elektrische Entladung zwischen den Pulverpartikeln zu einer lokalen und kurzzeitigen Erwärmung der Partikeloberflächen auf bis zu mehrere tausend Grad Celsius.

Diese Mikroplasmaentladung bildet sich gleichmäßig im gesamten Probenvolumen aus, so dass die erzeugte Wärme gleichmäßig verteilt wird.

Die hohen Temperaturen bewirken die Verdampfung der auf der Partikeloberfläche konzentrierten Verunreinigungen, wodurch die Oberflächen gereinigt und aktiviert werden.

Diese Reinigung führt zum Schmelzen und Verschmelzen der gereinigten Oberflächenschichten der Partikel, wobei sich zwischen ihnen "Hälse" bilden.

2. Sintern

Die Sinterphase bei SPS ist durch die gleichzeitige Anwendung von Temperatur und Druck gekennzeichnet, was zu einer hohen Verdichtung führt.

Im Gegensatz zum konventionellen Sintern, das Stunden oder sogar Tage dauern kann, kann SPS den Sinterprozess in wenigen Minuten abschließen.

Erreicht wird dies durch die innere Erwärmung der Probe mit gepulstem Gleichstrom, der hohe Heizraten erzeugt.

Die kurze Haltezeit bei der Sintertemperatur (in der Regel 5 bis 10 Minuten) verkürzt die gesamte Sinterzeit weiter.

Die schnelle Erwärmung und die kurzen Sinterzeiten verhindern Vergröberung und Kornwachstum und ermöglichen die Herstellung von Materialien mit einzigartigen Zusammensetzungen und Eigenschaften, einschließlich Materialien im Submikron- oder Nanomaßstab.

3. Abkühlung

Nach der Sinterphase wird das Material abgekühlt.

Die schnellen Erwärmungs- und Abkühlungszyklen im SPS-Verfahren tragen dazu bei, dass die feine Mikrostruktur des gesinterten Materials erhalten bleibt, da die hohen Temperaturen auf die Oberflächenbereiche der Partikel beschränkt sind, was ein Kornwachstum innerhalb der Partikel verhindert.

4. Vorteile von SPS

SPS bietet mehrere Vorteile gegenüber herkömmlichen Sinterverfahren.

Es ermöglicht die Verarbeitung einer breiten Palette von Werkstoffen, einschließlich nanostrukturierter Materialien, Verbundwerkstoffe und Gradientenwerkstoffe.

Die hohen Sinterraten und kurzen Prozesszyklen machen es zu einer effizienteren Methode zur Herstellung dichter Presslinge bei niedrigeren Sintertemperaturen als bei herkömmlichen Verfahren.

Außerdem lässt sich mit SPS die Korngröße des Sinterkörpers wirksam steuern, was für die Erzielung der gewünschten Materialeigenschaften von Vorteil ist.

Die Technologie kombiniert außerdem die Pulverformung und das Sintern in einem einzigen Prozess, wodurch die Notwendigkeit einer Vorformung und der Einsatz von Zusatzstoffen oder Bindemitteln entfällt.

Erforschen Sie weiter, fragen Sie unsere Experten

Entdecken Sie die Zukunft der Materialverdichtung mit den hochmodernen Spark Plasma Sintering (SPS)-Systemen von KINTEK SOLUTION.

Erleben Sie unvergleichliche Effizienz, präzise Kontrolle über Mikrostrukturen und schnelle Verarbeitungszeiten mit unserer fortschrittlichen SPS-Technologie.

Verbessern Sie Ihre Forschung und Fertigung mit KINTEK SOLUTION - wo Innovation auf Präzision trifft.

Kontaktieren Sie uns noch heute und erfahren Sie, wie unsere SPS-Lösungen Ihre materialwissenschaftlichen Fortschritte beschleunigen können!

Ähnliche Produkte

Spark-Plasma-Sinterofen SPS-Ofen

Spark-Plasma-Sinterofen SPS-Ofen

Entdecken Sie die Vorteile von Spark-Plasma-Sinteröfen für die schnelle Materialvorbereitung bei niedrigen Temperaturen. Gleichmäßige Erwärmung, niedrige Kosten und umweltfreundlich.

Vakuum-Drucksinterofen

Vakuum-Drucksinterofen

Vakuum-Drucksinteröfen sind für Hochtemperatur-Heißpressanwendungen beim Sintern von Metall und Keramik konzipiert. Seine fortschrittlichen Funktionen gewährleisten eine präzise Temperaturregelung, zuverlässige Druckhaltung und ein robustes Design für einen reibungslosen Betrieb.

Kleiner Vakuum-Wolframdraht-Sinterofen

Kleiner Vakuum-Wolframdraht-Sinterofen

Der kleine Vakuum-Wolframdraht-Sinterofen ist ein kompakter experimenteller Vakuumofen, der speziell für Universitäten und wissenschaftliche Forschungsinstitute entwickelt wurde. Der Ofen verfügt über einen CNC-geschweißten Mantel und Vakuumleitungen, um einen leckagefreien Betrieb zu gewährleisten. Elektrische Schnellanschlüsse erleichtern den Standortwechsel und die Fehlerbehebung, und der standardmäßige elektrische Schaltschrank ist sicher und bequem zu bedienen.

Vakuum-Heißpressofen

Vakuum-Heißpressofen

Entdecken Sie die Vorteile eines Vakuum-Heißpressofens! Stellen Sie dichte hochschmelzende Metalle und Verbindungen, Keramik und Verbundwerkstoffe unter hohen Temperaturen und Druck her.

9MPa Luftdruck Sinterofen

9MPa Luftdruck Sinterofen

Der Druckluftsinterofen ist eine Hightech-Anlage, die häufig für das Sintern von Hochleistungskeramik verwendet wird. Er kombiniert die Techniken des Vakuumsinterns und des Drucksinterns, um Keramiken mit hoher Dichte und hoher Festigkeit herzustellen.

Vakuumrohr-Heißpressofen

Vakuumrohr-Heißpressofen

Reduzieren Sie den Formdruck und verkürzen Sie die Sinterzeit mit dem Vakuumrohr-Heißpressofen für hochdichte, feinkörnige Materialien. Ideal für refraktäre Metalle.

Vakuum-Molybdändraht-Sinterofen

Vakuum-Molybdändraht-Sinterofen

Ein Vakuum-Molybdän-Draht-Sinterofen ist eine vertikale oder Schlafzimmerstruktur, die zum Entnehmen, Hartlöten, Sintern und Entgasen von Metallmaterialien unter Hochvakuum- und Hochtemperaturbedingungen geeignet ist. Es eignet sich auch zur Dehydroxylierungsbehandlung von Quarzmaterialien.

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Erhalten Sie hochwertige Diamantfilme mit unserer Bell-jar-Resonator-MPCVD-Maschine, die für Labor- und Diamantwachstum konzipiert ist. Entdecken Sie, wie die chemische Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma beim Züchten von Diamanten mithilfe von Kohlenstoffgas und Plasma funktioniert.

600T Vakuum-Induktions-Heißpressofen

600T Vakuum-Induktions-Heißpressofen

Entdecken Sie den Vakuum-Induktions-Heißpressofen 600T, der für Hochtemperatur-Sinterexperimente im Vakuum oder in geschützten Atmosphären entwickelt wurde. Seine präzise Temperatur- und Druckregelung, der einstellbare Arbeitsdruck und die erweiterten Sicherheitsfunktionen machen es ideal für nichtmetallische Materialien, Kohlenstoffverbundwerkstoffe, Keramik und Metallpulver.

Vakuuminduktionsschmelzspinnsystem Lichtbogenschmelzofen

Vakuuminduktionsschmelzspinnsystem Lichtbogenschmelzofen

Entwickeln Sie mühelos metastabile Materialien mit unserem Vakuum-Schmelzspinnsystem. Ideal für Forschung und experimentelle Arbeiten mit amorphen und mikrokristallinen Materialien. Bestellen Sie jetzt für effektive Ergebnisse.

Zinnsulfid (SnS2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Zinnsulfid (SnS2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Finden Sie hochwertige Zinnsulfid-Materialien (SnS2) für Ihr Labor zu erschwinglichen Preisen. Unsere Experten produzieren und passen Materialien an Ihre spezifischen Bedürfnisse an. Schauen Sie sich unser Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr an.

Automatische Warm-Isostatische Laborpresse (WIP) 20T / 40T / 60T

Automatische Warm-Isostatische Laborpresse (WIP) 20T / 40T / 60T

Entdecken Sie die Effizienz der Warm Isostatic Press (WIP) für gleichmäßigen Druck auf allen Oberflächen. WIP ist ideal für Teile der Elektronikindustrie und gewährleistet eine kosteneffiziente, hochwertige Verdichtung bei niedrigen Temperaturen.

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Das Ziehwerkzeug für die Nano-Diamant-Verbundbeschichtung verwendet Sinterkarbid (WC-Co) als Substrat und nutzt die chemische Gasphasenmethode (kurz CVD-Methode), um die herkömmliche Diamant- und Nano-Diamant-Verbundbeschichtung auf die Oberfläche des Innenlochs der Form aufzubringen.

Automatische beheizte Labor-Pelletpresse 25T / 30T / 50T

Automatische beheizte Labor-Pelletpresse 25T / 30T / 50T

Mit unserer automatischen beheizten Laborpresse können Sie Ihre Proben effizient vorbereiten. Mit einem Druckbereich von bis zu 50 T und einer präzisen Steuerung ist sie perfekt für verschiedene Branchen geeignet.

Integrierte manuelle beheizte Labor-Pelletpresse 120mm / 180mm / 200mm / 300mm

Integrierte manuelle beheizte Labor-Pelletpresse 120mm / 180mm / 200mm / 300mm

Mit unserer integrierten manuellen beheizten Laborpresse können Sie Proben effizient hitzegepresst verarbeiten. Mit einem Heizbereich von bis zu 500 °C ist sie perfekt für verschiedene Branchen geeignet.

Hochreines Eisen (Fe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Eisen (Fe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach erschwinglichen Eisenmaterialien (Fe) für den Laborgebrauch? Unser Produktsortiment umfasst Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr in verschiedenen Spezifikationen und Größen, maßgeschneidert auf Ihre spezifischen Bedürfnisse. Kontaktiere uns heute!

Zinksulfid (ZnS) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Zinksulfid (ZnS) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie erschwingliche Materialien aus Zinksulfid (ZnS) für Ihren Laborbedarf. Wir produzieren und passen ZnS-Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe an. Wählen Sie aus einer breiten Palette an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.

Tiegel aus Bornitrid (BN) – gesintertes Phosphorpulver

Tiegel aus Bornitrid (BN) – gesintertes Phosphorpulver

Der mit Phosphorpulver gesinterte Tiegel aus Bornitrid (BN) hat eine glatte Oberfläche, ist dicht, schadstofffrei und hat eine lange Lebensdauer.

Siliziumnitrid (SiNi) Keramische Bleche Präzisionsbearbeitung Keramik

Siliziumnitrid (SiNi) Keramische Bleche Präzisionsbearbeitung Keramik

Siliciumnitridplatten sind aufgrund ihrer gleichmäßigen Leistung bei hohen Temperaturen ein häufig verwendetes keramisches Material in der metallurgischen Industrie.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht