Die Elektronenstrahlverdampfung bietet mehrere Vorteile gegenüber der thermischen Verdampfung, insbesondere bei Anwendungen, die dünne, hochdichte Schichten und die Verwendung von Materialien mit hohem Schmelzpunkt erfordern.
7 Hauptvorteile der E-Beam-Verdampfung gegenüber der thermischen Verdampfung
1. Hohe Abscheideraten
Mit der Elektronenstrahlverdampfung können Abscheideraten von 0,1 μm/min bis 100 μm/min erreicht werden, was deutlich schneller ist als die thermische Verdampfung.
2. Hochreine Schichten
Der Elektronenstrahl ist ausschließlich auf das Ausgangsmaterial fokussiert, wodurch das Risiko einer Verunreinigung durch den Tiegel minimiert wird. Dies führt zu Schichten mit sehr hoher Reinheit.
3. Ausgezeichnete Gleichmäßigkeit
Bei der Verwendung von Masken und Planetensystemen bietet das E-Beam-Verdampfen eine hervorragende Gleichmäßigkeit über das Substrat.
4. Kompatibilität mit einer breiten Palette von Materialien
Die E-Beam-Verdampfung eignet sich für eine Vielzahl von Materialien, einschließlich Hochtemperaturmetallen und Metalloxiden.
5. Mehrschichtige Abscheidung
Die E-Beam-Verdampfung ermöglicht die Abscheidung mehrerer Schichten unter Verwendung unterschiedlicher Ausgangsmaterialien, ohne dass eine Entlüftung erforderlich ist.
6. Hohe Materialausnutzungseffizienz
Das Verfahren der Elektronenstrahlverdampfung hat eine hohe Materialausnutzung, d.h. es wird weniger Material während des Abscheidungsprozesses verschwendet als bei der thermischen Verdampfung.
7. Verbesserte Eignung für fortgeschrittene Anwendungen
Die E-Beam-Verdampfung ist besonders vorteilhaft, wenn es um Hochtemperaturmaterialien geht, die eine hohe Reinheit und Gleichmäßigkeit erfordern, und wenn mehrschichtige Strukturen benötigt werden.
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