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Zu den Probenvorbereitungsgeräten von KinTek gehören das Zerkleinern und Mahlen von Proben sowie Geräte zum Sieben. Zu den hydraulischen Pressgeräten gehören manuelle Pressen, elektrische Pressen, isostatische Pressen, Heißpressen und Pressfiltermaschinen.
KinTek liefert ein breites Sortiment an Hochtemperaturöfen, darunter Labor-, Pilotproduktions- und Industrieproduktionsöfen, mit einem Temperaturbereich von bis zu 3000 °C. Einer der Vorteile von KinTek ist die Möglichkeit, maßgeschneiderte Öfen zu erstellen, die auf bestimmte Funktionen zugeschnitten sind, wie z. B. unterschiedliche Heizmethoden und -geschwindigkeiten, besonders hohe und dynamische Vakuume, kontrollierte Atmosphären und Gaskreisläufe, automatisierte mechanische Strukturen sowie Software- und Hardware-Entwicklung.
KinTek bietet eine Reihe von Laborverbrauchsmaterialien und -materialien an, darunter Verdampfungsmaterialien, Targets, Metalle, elektrochemische Teile sowie Pulver, Pellets, Drähte, Streifen, Folien, Platten und mehr.
Die biochemische Ausrüstung von KinTek umfasst Rotationsverdampfer, Glas- und Edelstahlreaktoren, Destillationssysteme, Umlaufheizer und -kühler sowie Vakuumausrüstung.
Tantal-Wolfram-Legierung (TaW) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TaW
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Titan-Silizium-Legierung (TiSi).
Artikelnummer : LM-TiSi
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Wolfram-Titan-Legierung (WTi).
Artikelnummer : LM-WTi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Titan-Nickel-Silber-Legierung (TiNiAg).
Artikelnummer : LM-TiNiAg
Lithium-Aluminium-Legierung (AlLi) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-AlLi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Aluminium-Chrom-Legierung (AlCr).
Artikelnummer : LM-AlCr
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Chrom-Legierung (NiCr).
Artikelnummer : LM-NiCr
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Eisen-Gallium-Legierung (FeGa).
Artikelnummer : LM-FeGa
Kobalttellurid (CoTe) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-CoTe
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Kupfer-Zirkonium-Legierung (CuZr).
Artikelnummer : LM-CuZr
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Kupfer-Nickel-Legierung (CuNi).
Artikelnummer : LM-CuNi
Kupfer-Nickel-Indium-Legierung (CuNiIn) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-CuNiIn
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Aluminium-Kupfer-Legierung (AlCu).
Artikelnummer : LM-AlCu
Kobaltsilizid (CoSi2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-CoSi2
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Zirkonium-Silizium-Legierung (ZrSi).
Artikelnummer : LM-ZrSi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Silizium-Legierung (NiSi).
Artikelnummer : LM-NiSi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Zirkonium-Silber-Legierung (ZrAg).
Artikelnummer : LM-ZrAg
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Zinn-Wismuth-Silber-Legierung (SnBiAg).
Artikelnummer : LM-SnBiAg
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Chrom-Nickel-Legierung (CrNi).
Artikelnummer : LM-CrNi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Aluminium-Legierung (NiAl).
Artikelnummer : LM-NiAl
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Niob-Legierung (NiNb).
Artikelnummer : LM-NiNb
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Eisen-Nickel-Legierung (FeNi).
Artikelnummer : LM-FeNi
Mangan-Kobalt-Nickel-Legierung (MnCoNi) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-MnCoNi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Bornitrid (BN).
Artikelnummer : LM-BN
Aluminiumnitrid (AlN) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-AlN
Siliziumnitrid (Si3N4) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Si3N4
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titannitrid (TiN).
Artikelnummer : LM-TiN
Tantalnitrid (TaN) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TaN
Zinksulfid (ZnS) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ZnS
Molybdänsulfid (MoS2) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat
Artikelnummer : LM-MoS2
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Vorsichtsmaßnahmen beim Einbau von MoSi2-Heizelementen
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Heißisostatisches Pressen (HIP) ist eine Technologie zur Verdichtung von Materialien bei hohen Temperaturen und Drücken. Bei diesem Verfahren wird ein Material in einen verschlossenen Behälter gegeben, der dann mit einem Inertgas unter Druck gesetzt und auf eine hohe Temperatur erhitzt wird.
Heißisostatisches Pressen (HIP) ist ein leistungsstarkes Herstellungsverfahren, das eine entscheidende Rolle bei der Erhöhung der Dichte keramischer Materialien und der Verringerung der Porosität von Metallen spielt. Es wird häufig in verschiedenen Branchen eingesetzt, darunter in der Luft- und Raumfahrt, der Pulvermetallurgie und der Komponentenherstellung.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) nutzt extrem hohe Drücke, um Produkte oder Kaltkompaktpulver zu sterilisieren. CIP ist besonders effektiv bei der Herstellung komplexer Formen und der Erhöhung der Enddichte von Materialien.
Warm Isostatic Press (WIP) ist eine Art isostatische Presse, die eine Kombination aus Hitze und Druck nutzt, um hochwertige Teile herzustellen. Beim WIP-Prozess wird ein Teil in eine flexible Form gelegt, die dann mit einem Gas oder einem flüssigen Medium gefüllt wird.
Isostatische Pressen spielen in verschiedenen Branchen eine entscheidende Rolle und bieten einzigartige Möglichkeiten zur Materialkonsolidierung und Produktherstellung. Diese leistungsstarken Maschinen üben aus allen Richtungen den gleichen Druck aus, was zu Produkten mit gleichmäßiger Dichte und weniger Fehlern führt. Isostatische Pressen werden in zwei Haupttypen unterteilt: Kaltisostatische Pressen (CIP) und Heißisostatische Pressen (HIP). Jeder Typ funktioniert unter unterschiedlichen Bedingungen und ermöglicht so ein breites Anwendungsspektrum.
Laborpressen sind ein unverzichtbares Werkzeug in Forschung und Entwicklung für eine Vielzahl von Branchen, darunter Pharmazie, Materialwissenschaft und Elektronik.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) ist eine Methode zur Verarbeitung von Materialien, bei der Flüssigkeitsdruck zum Verdichten von Pulver eingesetzt wird. Es ähnelt der Metallformverarbeitung und basiert auf dem Pascalschen Gesetz.
Warmisostatisches Pressen (WIP) ist eine Hochdrucktechnik, die zur Erhöhung der Dichte und zur Reduzierung von Materialfehlern eingesetzt wird. Dabei wird ein Material einem hohen Druck und einer hohen Temperatur ausgesetzt und gleichzeitig ein Inertgas zugeführt, das das Material gleichmäßig komprimiert.
Die beiden am häufigsten verwendeten Techniken zur Dünnschichtabscheidung sind Aufdampfen und Sputtern.
Wolfram verfügt über eine Reihe von Eigenschaften, die es für den Einsatz in Hochtemperaturöfen gut geeignet machen.
Bei der Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA) ist die Probenvorbereitung ein wichtiger Schritt, da sie sowohl die Qualität als auch die Effizienz der Analyse erheblich beeinflussen kann.