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Zu den Probenvorbereitungsgeräten von KinTek gehören das Zerkleinern und Mahlen von Proben sowie Geräte zum Sieben. Zu den hydraulischen Pressgeräten gehören manuelle Pressen, elektrische Pressen, isostatische Pressen, Heißpressen und Pressfiltermaschinen.
KinTek liefert ein breites Sortiment an Hochtemperaturöfen, darunter Labor-, Pilotproduktions- und Industrieproduktionsöfen, mit einem Temperaturbereich von bis zu 3000 °C. Einer der Vorteile von KinTek ist die Möglichkeit, maßgeschneiderte Öfen zu erstellen, die auf bestimmte Funktionen zugeschnitten sind, wie z. B. unterschiedliche Heizmethoden und -geschwindigkeiten, besonders hohe und dynamische Vakuume, kontrollierte Atmosphären und Gaskreisläufe, automatisierte mechanische Strukturen sowie Software- und Hardware-Entwicklung.
KinTek bietet eine Reihe von Laborverbrauchsmaterialien und -materialien an, darunter Verdampfungsmaterialien, Targets, Metalle, elektrochemische Teile sowie Pulver, Pellets, Drähte, Streifen, Folien, Platten und mehr.
Die biochemische Ausrüstung von KinTek umfasst Rotationsverdampfer, Glas- und Edelstahlreaktoren, Destillationssysteme, Umlaufheizer und -kühler sowie Vakuumausrüstung.
Hochreines Titandioxid (TiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TiO2
Hochreines Zirkoniumoxid (ZrO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ZrO2
Hochreines Wolframoxid (WO3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-WO3
Hochreines Nioboxid (Nb2O5) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Nb2O5
Hochreines Tantaloxid (Ta2O5) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Ta2O5
Hochreines Molybdänoxid (MoO3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat
Artikelnummer : LM-MoO3
Hochreines Scandiumoxid (Sc2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Sc2O3
Hochreines Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Al2O3
Hochreines Zinkoxid (ZnO) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ZnO
Hochreines Magnesiumoxid (MgO) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-MgO
Hochreines Wismutoxid (Bi2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Bi2O3
Hochreines Chromoxid (Cr2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Cr2O3
Hochreines Nickeloxid (Ni2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Ni2O3
Hochreines Vanadiumoxid (V2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-V2O3
Hochreines Yttriumoxid (Y2O3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat
Artikelnummer : LM-Y2O3
Hochreines, mit Aluminium dotiertes Zinkoxid (AZO)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-AZO
Hochreines Indiumzinnoxid (ITO)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ITO
Hochreines Ceroxid (CeO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-CeO2
Hochreines Erbiumoxid (Er2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Er2O3
Hochreines Samariumoxid (Sm2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Sm2O3
Hochreines Neodymoxid (Nd2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Nd2O3
Hochreines Eisenoxid (Fe3O4) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Fe3O4
Tantal-Wolfram-Legierung (TaW) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TaW
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Titan-Silizium-Legierung (TiSi).
Artikelnummer : LM-TiSi
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Wolfram-Titan-Legierung (WTi).
Artikelnummer : LM-WTi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Titan-Nickel-Silber-Legierung (TiNiAg).
Artikelnummer : LM-TiNiAg
Aluminium-Silizium-Yttrium-Legierung (AlSiY) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-AlSiY
Lithium-Aluminium-Legierung (AlLi) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-AlLi
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Aluminium-Chrom-Legierung (AlCr).
Artikelnummer : LM-AlCr
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Chrom-Legierung (NiCr).
Artikelnummer : LM-NiCr
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Tauchen Sie ein in den umfassenden Leitfaden zum Warmisostatischen Pressen (WIP), seiner Technologie, seinen Anwendungen und seinen Vorteilen bei der Materialverarbeitung. Entdecken Sie, wie WIP die Materialeigenschaften verbessert und welche Rolle es in der modernen Fertigung spielt.
Entdecken Sie die fortschrittlichen Funktionen, die weitreichenden Anwendungen und die bedeutenden Vorteile der tragbaren Legierungsanalysatoren. Erfahren Sie, wie diese Geräte die Legierungsanalyse mit schnellen, genauen und zerstörungsfreien Prüfmethoden revolutionieren.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) nutzt extrem hohe Drücke, um Produkte oder Kaltkompaktpulver zu sterilisieren. CIP ist besonders effektiv bei der Herstellung komplexer Formen und der Erhöhung der Enddichte von Materialien.
Warm Isostatic Press (WIP) ist eine Art isostatische Presse, die eine Kombination aus Hitze und Druck nutzt, um hochwertige Teile herzustellen. Beim WIP-Prozess wird ein Teil in eine flexible Form gelegt, die dann mit einem Gas oder einem flüssigen Medium gefüllt wird.
Isostatische Pressen spielen in verschiedenen Branchen eine entscheidende Rolle und bieten einzigartige Möglichkeiten zur Materialkonsolidierung und Produktherstellung. Diese leistungsstarken Maschinen üben aus allen Richtungen den gleichen Druck aus, was zu Produkten mit gleichmäßiger Dichte und weniger Fehlern führt. Isostatische Pressen werden in zwei Haupttypen unterteilt: Kaltisostatische Pressen (CIP) und Heißisostatische Pressen (HIP). Jeder Typ funktioniert unter unterschiedlichen Bedingungen und ermöglicht so ein breites Anwendungsspektrum.
Warmisostatisches Pressen (WIP) ist eine Hochdrucktechnik, die zur Erhöhung der Dichte und zur Reduzierung von Materialfehlern eingesetzt wird. Dabei wird ein Material einem hohen Druck und einer hohen Temperatur ausgesetzt und gleichzeitig ein Inertgas zugeführt, das das Material gleichmäßig komprimiert.
Wolfram verfügt über eine Reihe von Eigenschaften, die es für den Einsatz in Hochtemperaturöfen gut geeignet machen.
Bei der Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA) ist die Probenvorbereitung ein wichtiger Schritt, da sie sowohl die Qualität als auch die Effizienz der Analyse erheblich beeinflussen kann.