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Probenvorbereitung
Zu den Probenvorbereitungsgeräten von KinTek gehören das Zerkleinern und Mahlen von Proben sowie Geräte zum Sieben. Zu den hydraulischen Pressgeräten gehören manuelle Pressen, elektrische Pressen, isostatische Pressen, Heißpressen und Pressfiltermaschinen.
Isostatische Presse
Manuelle Laborpresse
Elektrische Laborpresse
Manuelle beheizte Laborpresse
Automatische beheizte Laborpresse
Kundenspezifische Presse
Formen und Zubehör
Zerkleinerungsmaschine
Siebmaschine
Fräsausrüstung
Stanzmaschine für Tabletten
Handgehaltene XRF-Analysatoren
Rubber processing machine
Thermische Ausrüstung
KinTek liefert ein breites Sortiment an Hochtemperaturöfen, darunter Labor-, Pilotproduktions- und Industrieproduktionsöfen, mit einem Temperaturbereich von bis zu 3000 °C. Einer der Vorteile von KinTek ist die Möglichkeit, maßgeschneiderte Öfen zu erstellen, die auf bestimmte Funktionen zugeschnitten sind, wie z. B. unterschiedliche Heizmethoden und -geschwindigkeiten, besonders hohe und dynamische Vakuume, kontrollierte Atmosphären und Gaskreisläufe, automatisierte mechanische Strukturen sowie Software- und Hardware-Entwicklung.
Verbrauchsmaterialien und Materialien für das Labor
KinTek bietet eine Reihe von Laborverbrauchsmaterialien und -materialien an, darunter Verdampfungsmaterialien, Targets, Metalle, elektrochemische Teile sowie Pulver, Pellets, Drähte, Streifen, Folien, Platten und mehr.
Biochemische Ausrüstung
Die biochemische Ausrüstung von KinTek umfasst Rotationsverdampfer, Glas- und Edelstahlreaktoren, Destillationssysteme, Umlaufheizer und -kühler sowie Vakuumausrüstung.
Produkte
Hochreines Antimon (Sb) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SB
Hochreines Scandium (Sc) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SC
Hochreines Selen (Se)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SE
Hochreines Silizium (Si)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SI
Hochreines Zinn (Sn) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SN
Hochreines Tantal (Ta)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TA
Hochreines Tellur (Te)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TE
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Titan (Ti).
Artikelnummer : LM-TI
Hochreines Vanadium (V)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-V
Hochreines Wolfram (W)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-W
Hochreines Zink (Zn)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ZN
Hochreines Zirkonium (Zr)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ZR
Hochreines Hafnium (Hf)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-HF
Hochreines Rhenium (Re)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-RE
Hochreines Iridium (Ir)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-IR
Hochreines Lanthan (La) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-LA
Hochreines Erbium (Er)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ER
Hochreines Cer (Ce)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-CE
Hochreines Samarium (Sm) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SM
Hochreines Europium (Eu)-Sputtertarget/Pulver / Draht / Block / Granulat
Artikelnummer : LM-EU
Hochreines Gadolinium (Gd)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-GD
Hochreines Terbium (Tb) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TB
Hochreines Dysprosium (Dy)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-DY
Hochreines Ytterbium (Yb) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-YB
Hochreines Lutetium (Lu) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-LU
Hochreines Praseodym (Pr)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-PR
Hochreines Neodym (Nd) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ND
Hochreines Holmium (Ho) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-HO
Hochreines Siliziumdioxid (SiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SIO2
Hochreines Hafniumoxid (HfO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-HfO2
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Das isostatische Pressverfahren wurde Mitte der 1950er Jahre erstmals entwickelt und hat sich stetig von einer Forschungskuriosität zu einem brauchbaren Produktionswerkzeug entwickelt. Viele Branchen wenden diese Technik zur Verfestigung von Pulvern oder zur Defektheilung von Gussteilen an. Das Verfahren wird für eine Reihe von Materialien verwendet, darunter Keramik, Metalle, Verbundwerkstoffe, Kunststoffe und Kohlenstoff. Es hat in der Industrie breite Anwendung für die Konsolidierung von Pulvern oder die Defektheilung von Gussteilen gefunden. Es bietet einzigartige Vorteile für Keramik- und Feuerfestanwendungen, da es die Bildung von Produktformen mit präzisen Toleranzen ermöglicht und den Bedarf an kostspieliger Bearbeitung reduziert.
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