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Zu den Probenvorbereitungsgeräten von KinTek gehören das Zerkleinern und Mahlen von Proben sowie Geräte zum Sieben. Zu den hydraulischen Pressgeräten gehören manuelle Pressen, elektrische Pressen, isostatische Pressen, Heißpressen und Pressfiltermaschinen.
KinTek liefert ein breites Sortiment an Hochtemperaturöfen, darunter Labor-, Pilotproduktions- und Industrieproduktionsöfen, mit einem Temperaturbereich von bis zu 3000 °C. Einer der Vorteile von KinTek ist die Möglichkeit, maßgeschneiderte Öfen zu erstellen, die auf bestimmte Funktionen zugeschnitten sind, wie z. B. unterschiedliche Heizmethoden und -geschwindigkeiten, besonders hohe und dynamische Vakuume, kontrollierte Atmosphären und Gaskreisläufe, automatisierte mechanische Strukturen sowie Software- und Hardware-Entwicklung.
KinTek bietet eine Reihe von Laborverbrauchsmaterialien und -materialien an, darunter Verdampfungsmaterialien, Targets, Metalle, elektrochemische Teile sowie Pulver, Pellets, Drähte, Streifen, Folien, Platten und mehr.
Die biochemische Ausrüstung von KinTek umfasst Rotationsverdampfer, Glas- und Edelstahlreaktoren, Destillationssysteme, Umlaufheizer und -kühler sowie Vakuumausrüstung.
Hochreines Silizium (Si)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SI
Hochreines Zinn (Sn) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SN
Hochreines Tantal (Ta)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TA
Hochreines Tellur (Te)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TE
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Titan (Ti).
Artikelnummer : LM-TI
Hochreines Vanadium (V)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-V
Hochreines Wolfram (W)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-W
Hochreines Zink (Zn)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ZN
Hochreines Zirkonium (Zr)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ZR
Hochreines Hafnium (Hf)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-HF
Hochreines Rhenium (Re)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-RE
Hochreines Iridium (Ir)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-IR
Hochreines Siliziumdioxid (SiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SIO2
Hochreines Hafniumoxid (HfO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-HfO2
Hochreines Titandioxid (TiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-TiO2
Hochreines Zirkoniumoxid (ZrO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ZrO2
Hochreines Wolframoxid (WO3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-WO3
Hochreines Nioboxid (Nb2O5) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Nb2O5
Hochreines Tantaloxid (Ta2O5) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Ta2O5
Hochreines Molybdänoxid (MoO3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat
Artikelnummer : LM-MoO3
Hochreines Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Al2O3
Hochreines Zinkoxid (ZnO) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ZnO
Hochreines Magnesiumoxid (MgO) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-MgO
Hochreines Wismutoxid (Bi2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Bi2O3
Hochreines Chromoxid (Cr2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Cr2O3
Hochreines Nickeloxid (Ni2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Ni2O3
Hochreines Vanadiumoxid (V2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-V2O3
Hochreines, mit Aluminium dotiertes Zinkoxid (AZO)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-AZO
Hochreines Indiumzinnoxid (ITO)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-ITO
Hochreines Eisenoxid (Fe3O4) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-Fe3O4
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Erforscht die Ursprünge, Prinzipien und Anwendungen des heißisostatischen Pressens in verschiedenen Materialbereichen.
Untersucht den Einsatz des heißisostatischen Pressens zur Herstellung hochwertiger Sputtertargets und die Anwendungen der PVD-Sputtertechnologie.
Dieser Artikel befasst sich mit der Herstellung und Optimierung von PVD-Sputtertargets, wobei der Schwerpunkt auf Techniken wie dem heißisostatischen Pressen und der Hochdruckwärmebehandlung liegt.
Ein Überblick über die Verwendung von isostatischem Graphit in verschiedenen Phasen der Photovoltaik-Produktion und seine Marktnachfrage.
Tauchen Sie ein in den umfassenden Leitfaden zum Warmisostatischen Pressen (WIP), seiner Technologie, seinen Anwendungen und seinen Vorteilen bei der Materialverarbeitung. Entdecken Sie, wie WIP die Materialeigenschaften verbessert und welche Rolle es in der modernen Fertigung spielt.
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Vorsichtsmaßnahmen für den Einbau von Siliziumkarbid-Stickstoff.
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Entdecken Sie die Welt der Spark Plasma Sintering Furnaces (SPS). Dieser umfassende Leitfaden deckt alles ab, von den Vorteilen und Anwendungen bis hin zu Verfahren und Ausrüstung. Erfahren Sie, wie SPS-Öfen Ihren Sinterbetrieb revolutionieren können.
Heißisostatisches Pressen (HIP) ist eine Technologie zur Verdichtung von Materialien bei hohen Temperaturen und Drücken. Bei diesem Verfahren wird ein Material in einen verschlossenen Behälter gegeben, der dann mit einem Inertgas unter Druck gesetzt und auf eine hohe Temperatur erhitzt wird.
Die FTIR-Spektroskopie (Fourier-Transformations-Infrarot) ist eine leistungsstarke Analysetechnik zur Identifizierung und Charakterisierung chemischer Verbindungen anhand ihrer Infrarot-Absorptionsspektren.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) nutzt extrem hohe Drücke, um Produkte oder Kaltkompaktpulver zu sterilisieren. CIP ist besonders effektiv bei der Herstellung komplexer Formen und der Erhöhung der Enddichte von Materialien.
Warm Isostatic Press (WIP) ist eine Art isostatische Presse, die eine Kombination aus Hitze und Druck nutzt, um hochwertige Teile herzustellen. Beim WIP-Prozess wird ein Teil in eine flexible Form gelegt, die dann mit einem Gas oder einem flüssigen Medium gefüllt wird.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) ist eine Pulververdichtungstechnik, bei der aus allen Richtungen ein gleichmäßiger Druck auf einen mit Pulver gefüllten Behälter ausgeübt wird.
Kaltisostatisches Pressen (CIP) ist eine Methode zur Verarbeitung von Materialien, bei der Flüssigkeitsdruck zum Verdichten von Pulver eingesetzt wird. Es ähnelt der Metallformverarbeitung und basiert auf dem Pascalschen Gesetz.
Warmisostatisches Pressen (WIP) ist eine Hochdrucktechnik, die zur Erhöhung der Dichte und zur Reduzierung von Materialfehlern eingesetzt wird. Dabei wird ein Material einem hohen Druck und einer hohen Temperatur ausgesetzt und gleichzeitig ein Inertgas zugeführt, das das Material gleichmäßig komprimiert.
Das isostatische Pressen ist ein Verfahren, das bei der Herstellung von Hochleistungswerkstoffen und -bauteilen eingesetzt wird. Dabei wird gleichmäßiger Druck auf alle Seiten eines Materials oder Teils ausgeübt, was zu einer gleichmäßigeren Dichte und besseren mechanischen Eigenschaften führt.
Die Investition in einen hochwertigen Sinterofen ist für Dentallabore, die dauerhaft hochwertige Zirkonoxid-Restaurationen herstellen möchten, von entscheidender Bedeutung.
Die beiden am häufigsten verwendeten Techniken zur Dünnschichtabscheidung sind Aufdampfen und Sputtern.
Wolfram verfügt über eine Reihe von Eigenschaften, die es für den Einsatz in Hochtemperaturöfen gut geeignet machen.