Die Abscheiderate bei der Elektronenstrahlverdampfung ist ein entscheidender Faktor für die Effizienz des Prozesses.
Diese Rate kann erheblich variieren und reicht von 0,1 nm pro Minute bis zu 100 nm pro Minute.
Die hohe Abscheiderate ist in erster Linie auf die direkte Übertragung der Energie vom Elektronenstrahl auf das Zielmaterial zurückzuführen.
Dieses Verfahren ist besonders effektiv bei Metallen mit hohem Schmelzpunkt.
Bei diesem Verfahren wird ein fokussierter Elektronenstrahl eingesetzt, um Metalle zu erhitzen und zu verdampfen.
Die Temperatur der Elektronen liegt bei diesem Verfahren in der Regel bei 3000 °C.
Eine 100 kV-Gleichspannungsquelle wird verwendet, um die Elektronen in Richtung des Zielmaterials zu beschleunigen.
Diese örtlich begrenzte Erwärmung am Ort des Strahlbeschusses auf der Oberfläche der Quelle gewährleistet eine minimale Kontamination.
Wenn die erhitzten Elektronen auf das Quellenmaterial treffen, wird ihre kinetische Energie in thermische Energie umgewandelt.
Diese thermische Energie heizt die Oberfläche der Quelle auf, was zur Erzeugung von Dampf führt.
Wenn die Temperaturen hoch genug sind, wird Dampf erzeugt, der die Oberfläche des Substrats bedeckt.
Das Verfahren ist sehr gut steuerbar und wiederholbar.
Es ist auch mit dem Einsatz einer Ionenquelle kompatibel, um die Leistungsmerkmale der Dünnschicht zu verbessern.
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