Das Aufdampfen von Metallen ist ein Verfahren zur Abscheidung dünner Metallschichten auf einem Substrat, in der Regel in einer Vakuumumgebung. Bei diesem Verfahren wird das Metall in einen Dampfzustand überführt und dann auf der Oberfläche des Substrats kondensiert, um eine dünne Schicht zu bilden. Es gibt zwei Hauptarten des Aufdampfens: das physikalische Aufdampfen (PVD) und das chemische Aufdampfen (CVD).
Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD):
Bei der PVD wird das Metall durch thermodynamische oder elektromechanische Prozesse angeregt, so dass es bestimmte Moleküle als Dampf freisetzt. Dieser Dampf wird dann auf dem Substrat abgeschieden. Zu den gängigen PVD-Verfahren gehören die thermische Verdampfung im Vakuum, die Sputtering-Abscheidung und die Elektronenstrahlabscheidung. Bei der thermischen Vakuumverdampfung wird das Metall im Vakuum bis zu seinem Siedepunkt erhitzt, wodurch es verdampft und sich auf dem Substrat abscheidet. Beim Sputtern wird ein Metalltarget mit hochenergetischen Teilchen beschossen, wodurch Atome herausgeschleudert werden und sich auf dem Substrat ablagern. Bei der Elektronenstrahlabscheidung wird das Metall mit einem Elektronenstrahl erhitzt, so dass es verdampft und sich auf dem Substrat abscheidet.Chemische Gasphasenabscheidung (CVD):
Beim CVD-Verfahren wird durch eine chemische Reaktion die Dampfphase des Metalls erzeugt. Die in diesem Verfahren verwendeten Chemikalien zersetzen sich auf der Oberfläche des Substrats und scheiden den Metallfilm ab. CVD ermöglicht eine genaue Kontrolle über die Phase und die Struktur des abgeschiedenen Films und ist daher für verschiedene Anwendungen geeignet.
Anwendungen:
Das Aufdampfen von Metallen wird in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, z. B. in der Halbleiterherstellung, in faseroptischen Systemen, in industriellen Lasersystemen, in der medizinischen Elektronik, in biomedizinischen Geräten, in fortschrittlichen optischen und bildgebenden Anwendungen und in verschiedenen Bereichen der Verbraucher-, Handels- und Industrieelektronik.Vorteile:
Zu den Vorteilen von Aufdampfsystemen gehören die präzise Steuerung des Abscheidungsprozesses, die Möglichkeit, große Mengen dünner Schichten herzustellen, und die relativ einfache Einrichtung und Anwendung. Dies macht das Aufdampfen zu einer attraktiven Option sowohl für großtechnische Anwendungen als auch für kleine Unternehmen.
