Die thermische Vakuumverdampfung ist ein Abscheidungsverfahren, das für die Bildung und das Wachstum dünner Schichten auf festen Materialien verwendet wird. Diese Technik wird aufgrund ihrer Einfachheit und Effektivität sowohl im Labor als auch in der Industrie häufig eingesetzt.
Prozess-Übersicht:
Das Verfahren beginnt damit, dass das Zielmaterial sehr hohen Temperaturen ausgesetzt wird, wodurch es sublimiert oder kocht und Dampf bildet. Dieser Dampf wird dann durch eine Vakuumumgebung zu einem Substrat transportiert. Auf dem Substrat angekommen, kondensiert der Dampf und bildet einen festen, dünnen Film. Dieser Abscheidungszyklus kann wiederholt werden, um das Wachstum und die Keimbildung des Dünnfilms zu verbessern.Methoden der Vakuumbeschichtung durch thermische Verdampfung:
- Die thermische Verdampfung kann durch zwei Hauptmethoden erreicht werden:
- Elektrische Erwärmung: Das Material wird mithilfe von Drähten oder in leitfähigen Tiegeln aus Materialien mit höherem Schmelzpunkt elektrisch erhitzt. Diese Methode eignet sich für Materialien, die einen hohen Dampfdruck bei hohen Temperaturen erfordern.
Bootsförmige Verdampfer: Diese werden speziell für die Verdampfung von Oxiden verwendet. Die Bootsform erleichtert den Erhitzungs- und Verdampfungsprozess.
Vakuumsysteme für die thermische Verdampfung:
Das Vakuumsystem spielt eine entscheidende Rolle für die Qualität der erzeugten Dünnschicht. Der in der Beschichtungsanlage erforderliche Basisdruck liegt zwischen 10^-7 und 10^-5 mbar. Moderne Systeme verwenden in der Regel Turbomolekularpumpen, die die Kammer innerhalb einer Stunde auf den erforderlichen Basisdruck evakuieren können. Diese Pumpen werden häufig durch Drehschieberpumpen oder andere Arten von trockenen Pumpen unterstützt. Über dem Verdampfer wird außerdem ein Shutter eingesetzt, um den Abscheidungsprozess zu steuern und die Reproduzierbarkeit der Schichten zu gewährleisten.Anwendungen und Materialien:
