Wissen Was ist die chemische Abscheidung aus der Gasphase?
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Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 1 Woche

Was ist die chemische Abscheidung aus der Gasphase?

Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist ein Verfahren zur Abscheidung dünner Schichten und Beschichtungen von hoher Qualität auf einem Substrat unter Verwendung von gas- oder dampfförmigen Vorläufersubstanzen in einer vakuumfreien Umgebung. Das Verfahren umfasst drei Hauptstufen: Diffusion des Reaktionsgases auf die Substratoberfläche, Adsorption des Reaktionsgases auf der Substratoberfläche und chemische Reaktion auf der Substratoberfläche zur Bildung einer festen Schicht. Die entstehenden Nebenprodukte aus der Dampfphase werden dann von der Substratoberfläche freigesetzt.

Das Abscheidungsmaterial, das je nach Projekt variieren kann, vermischt sich mit einer Vorläufersubstanz, häufig einem Halogenid oder Hydrid, das das Abscheidungsmaterial vorbereitet und auf das Substrat oder die vorgesehene Oberfläche transportiert. Diese Kombination gelangt in eine Vakuumkammer, in der das Abscheidungsmaterial eine gleichmäßige Schicht auf dem Substrat bildet, während die Vorläufersubstanz zerfällt und durch Diffusion entweicht.

Das CVD-Verfahren hat den Vorteil, dass eine Vielzahl von Materialien abgeschieden werden kann, darunter Metallschichten, Nichtmetallschichten, Schichten aus Mehrkomponenten-Legierungen und Keramik- oder Verbundschichten. Das Verfahren kann bei Atmosphärendruck oder im Niedrigvakuum durchgeführt werden, was gute Umhüllungseigenschaften und eine gleichmäßige Beschichtung von komplex geformten Oberflächen oder tiefen oder feinen Löchern im Werkstück ermöglicht. Darüber hinaus lassen sich mit CVD Beschichtungen mit hoher Reinheit, guter Dichte, geringer Eigenspannung und guter Kristallisation herstellen.

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