Das Aufdampfen von Gold im Vakuum ist ein Verfahren zum Aufbringen einer dünnen Goldschicht auf verschiedene Oberflächen, z. B. Leiterplatten, Metallschmuck oder medizinische Implantate.
Dieses Verfahren ist eine Art der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und wird in einer Vakuumkammer durchgeführt, um sicherzustellen, dass die Goldatome ohne Störung durch Luft oder andere Gase ordnungsgemäß auf dem Substrat haften.
Die 4 wichtigsten Schritte werden erklärt
1. Erzeugung eines Vakuums
Im ersten Schritt wird in einer Kammer ein Vakuum erzeugt, um Luft und andere Gase, die den Abscheidungsprozess stören könnten, zu entfernen.
Dadurch wird sichergestellt, dass die Goldatome direkt auf das Substrat gelangen können, ohne dass es zu Verunreinigungen oder Haftungsproblemen kommt.
2. Vorbereitung des Substrats
Das zu beschichtende Objekt, das so genannte Substrat, wird in die Vakuumkammer gelegt.
Je nach Anwendung muss das Substrat möglicherweise gereinigt oder anderweitig vorbereitet werden, um eine optimale Haftung der Goldschicht zu gewährleisten.
3. Materialaufdampfung oder Sputtern
Im Falle von Gold erfolgt der Prozess in der Regel durch Sputtern.
Ein Gold-Targetmaterial wird in die Kammer gelegt und mit hochenergetischen Ionen beschossen.
Dieser Beschuss bewirkt, dass die Goldatome in einen feinen Dampf umgewandelt werden.
4. Abscheidung
Sobald sich die Goldatome in einem Dampfzustand befinden, werden sie auf dem Substrat abgeschieden.
Diese Abscheidung erfolgt auf atomarer oder molekularer Ebene, so dass die Dicke und Gleichmäßigkeit der Goldschicht genau kontrolliert werden kann.
Die Schicht kann je nach den Anforderungen der Anwendung von einem einzigen Atom bis zu mehreren Millimetern dick sein.
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