Wissen Wie überträgt man Graphen von Kupfer?
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 3 Monaten

Wie überträgt man Graphen von Kupfer?

Für die Abscheidung von Graphen aus Kupfer gibt es mehrere Methoden, die angewendet werden können:

1. Chemisches Ätzen: Bei einer Methode wird eine unterstützende Polymerschicht, wie Polymethylmethacrylat (PMMA), auf das Graphen aufgebracht. Das PMMA-beschichtete Graphen wird dann bei einer bestimmten Temperatur gebacken, damit das Lösungsmittel verdampft. Anschließend wird das Kupfersubstrat mit einem Ätzmittel aus Kupfer (oder einem anderen katalytischen Metall) entfernt, so dass die Graphen/PMMA-Schicht zurückbleibt. Der Film wird dann mit deionisiertem Wasser gereinigt und auf das gewünschte Substrat übertragen. Schließlich wird das PMMA mit Aceton entfernt, nachdem der Wasserdampf verdunstet ist, so dass nur der Graphenfilm auf dem Zielsubstrat zurückbleibt.

2. Elektrochemische Delaminierung: Eine weitere Methode besteht darin, die Graphenschicht elektrochemisch vom Kupfersubstrat abzulösen. Dies kann durch die Einlagerung einer Kupferoxidschicht zwischen dem Graphen und dem Kupfersubstrat während der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) erfolgen. Die Kupferoxidschicht wirkt als schwache Barriere, die den hydrostatischen Druck zwischen dem Graphen und dem Kupfersubstrat verringert und so ein leichteres Ablösen der Graphenschicht ermöglicht.

3. Gelöste Substratübertragung: Bei dieser Transfermethode wird das Substrat mit einem Ätzmittel aufgelöst, um den Graphenfilm abzutrennen. Dazu kann ein katalytisches Metallsubstrat, z. B. Kupfer, verwendet werden, das mit einem geeigneten Ätzmittel aufgelöst wird, wobei die Graphenschicht zurückbleibt. Die Methode der aufgelösten Substratübertragung ist kostengünstig, da das Substrat wiederverwendet werden kann.

4. Getrennter Substrattransfer: Bei dieser Transfermethode wird die Graphenschicht mechanisch oder elektrochemisch vom Substrat getrennt. Dies kann durch Aufbringen eines Trägerfilms auf das Graphen und anschließendes mechanisches Abziehen vom Substrat geschehen. Alternativ können auch elektrochemische Verfahren zur Trennung der Graphenschicht vom Substrat eingesetzt werden. Die Übertragung eines getrennten Substrats ist außerdem kostengünstig, da das Substrat wiederverwendet werden kann.

Zusätzlich zu diesen Methoden erforschen und entwickeln die Wissenschaftler ständig neue Techniken, um den Übertragungsprozess zu verbessern und Graphen von höherer Qualität zu erzeugen. So kann beispielsweise die Behandlung des Kupfersubstrats vor dem Graphenwachstumsprozess dazu beitragen, die katalytische Aktivität zu verringern und die Oberflächenmorphologie zu verbessern, was zu Graphenflocken mit weniger Fehlern führt.

Sie suchen eine zuverlässige Laborausrüstung für Ihre Graphenforschung? Dann sind Sie bei KINTEK an der richtigen Adresse! Mit unseren hochwertigen Produkten können Sie Graphen nahtlos auf verschiedene Substrate wie Glas, Si/SiO2, PET-Folien und andere übertragen. Ganz gleich, ob Sie PMMA-Beschichtungen oder Kupferoxid-Interkalation benötigen, wir haben das Richtige für Sie. Bringen Sie Ihre Graphen-Experimente mit KINTEK auf die nächste Stufe. Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr zu erfahren!

Ähnliche Produkte

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Eine Technologie, die hauptsächlich im Bereich der Leistungselektronik eingesetzt wird. Dabei handelt es sich um eine Graphitfolie, die durch Materialabscheidung mittels Elektronenstrahltechnologie aus Kohlenstoffquellenmaterial hergestellt wird.

Graphit-Verdampfungstiegel

Graphit-Verdampfungstiegel

Gefäße für Hochtemperaturanwendungen, bei denen Materialien zum Verdampfen bei extrem hohen Temperaturen gehalten werden, wodurch dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden können.

Poliermaterial für Elektroden

Poliermaterial für Elektroden

Suchen Sie nach einer Möglichkeit, Ihre Elektroden für elektrochemische Experimente zu polieren? Unsere Poliermaterialien helfen Ihnen weiter! Befolgen Sie unsere einfachen Anweisungen für beste Ergebnisse.

Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung

Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung

Beim Einsatz von Elektronenstrahlverdampfungstechniken minimiert der Einsatz von sauerstofffreien Kupfertiegeln das Risiko einer Sauerstoffverunreinigung während des Verdampfungsprozesses.

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Isostatischer Kohlenstoffgraphit wird aus hochreinem Graphit gepresst. Es ist ein ausgezeichnetes Material für die Herstellung von Raketendüsen, Verzögerungsmaterialien und reflektierenden Graphitmaterialien für Reaktoren.

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Der Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit hat eine gleichmäßige Temperatur, einen geringen Energieverbrauch und kann kontinuierlich betrieben werden.

Graphit-Scheibenelektrode, Graphit-Stab, Graphit-Plattenelektrode

Graphit-Scheibenelektrode, Graphit-Stab, Graphit-Plattenelektrode

Hochwertige Graphitelektroden für elektrochemische Experimente. Komplette Modelle mit Säure- und Laugenbeständigkeit, Sicherheit, Haltbarkeit und Individualisierungsmöglichkeiten.

Elektronenkanonenstrahltiegel

Elektronenkanonenstrahltiegel

Im Zusammenhang mit der Elektronenstrahlverdampfung ist ein Tiegel ein Behälter oder Quellenhalter, der dazu dient, das auf einem Substrat abzuscheidende Material aufzunehmen und zu verdampfen.

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen, eine maßgeschneiderte Lösung für Universitäten und Forschungseinrichtungen mit hoher Heizeffizienz, Benutzerfreundlichkeit und präziser Temperaturregelung.

Kontinuierlicher Graphitierungsofen

Kontinuierlicher Graphitierungsofen

Der Hochtemperatur-Graphitisierungsofen ist eine professionelle Ausrüstung zur Graphitisierungsbehandlung von Kohlenstoffmaterialien. Es handelt sich um eine Schlüsselausrüstung für die Herstellung hochwertiger Graphitprodukte. Es verfügt über eine hohe Temperatur, einen hohen Wirkungsgrad und eine gleichmäßige Erwärmung. Es eignet sich für verschiedene Hochtemperaturbehandlungen und Graphitierungsbehandlungen. Es wird häufig in der Metallurgie-, Elektronik-, Luft- und Raumfahrtindustrie usw. eingesetzt.

Ultrahochtemperatur-Graphitisierungsofen

Ultrahochtemperatur-Graphitisierungsofen

Der Ultrahochtemperatur-Graphitisierungsofen nutzt Mittelfrequenz-Induktionserwärmung in einer Vakuum- oder Inertgasumgebung. Die Induktionsspule erzeugt ein magnetisches Wechselfeld, das Wirbelströme im Graphittiegel induziert, der sich erwärmt und Wärme an das Werkstück abstrahlt, wodurch es auf die gewünschte Temperatur gebracht wird. Dieser Ofen wird hauptsächlich zum Graphitieren und Sintern von Kohlenstoffmaterialien, Kohlenstofffasermaterialien und anderen Verbundmaterialien verwendet.

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

Hochreine Metallbleche – Gold/Platin/Kupfer/Eisen usw.

Hochreine Metallbleche – Gold/Platin/Kupfer/Eisen usw.

Erweitern Sie Ihre Experimente mit unserem hochreinen Blech. Gold, Platin, Kupfer, Eisen und mehr. Perfekt für die Elektrochemie und andere Bereiche.

Goldblechelektrode

Goldblechelektrode

Entdecken Sie hochwertige Goldblechelektroden für sichere und langlebige elektrochemische Experimente. Wählen Sie aus kompletten Modellen oder passen Sie sie an Ihre spezifischen Bedürfnisse an.

Leitfähiges Kohlenstoffgewebe / Kohlenstoffpapier / Kohlenstofffilz

Leitfähiges Kohlenstoffgewebe / Kohlenstoffpapier / Kohlenstofffilz

Leitfähiges Kohlenstoffgewebe, Papier und Filz für elektrochemische Experimente. Hochwertige Materialien für zuverlässige und genaue Ergebnisse. Bestellen Sie jetzt für Anpassungsoptionen.

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht