Wissen Welche synthetischen Methoden gibt es für Graphen? 5 Schlüsselansätze erklärt
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 4 Wochen

Welche synthetischen Methoden gibt es für Graphen? 5 Schlüsselansätze erklärt

Bei der Graphen-Synthese kommen hauptsächlich zwei Methoden zum Einsatz: ein "Top-down"-Ansatz und ein "Bottom-up"-Ansatz.

Bei der "Top-down"-Methode wird Graphit mechanisch abgeschält.

Beim "Bottom-up"-Ansatz liegt der Schwerpunkt auf der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD).

Die CVD-Methode zeichnet sich insbesondere durch ihre Fähigkeit aus, hochwertige, großflächige Graphenschichten für industrielle Anwendungen herzustellen.

Welche Synthesemethoden gibt es für Graphen? 5 Hauptansätze erklärt

Welche synthetischen Methoden gibt es für Graphen? 5 Schlüsselansätze erklärt

1. Top-Down-Ansatz: Mechanische Exfoliation

Bei der Top-Down-Methode, die durch mechanisches Exfolieren veranschaulicht wird, werden die Graphenschichten von der Graphitmasse getrennt.

Diese Technik wurde erstmals von Geim und Novoselov im Jahr 2004 vorgestellt.

Obwohl diese Methode aufgrund der hohen Qualität des gewonnenen Graphens für die Grundlagenforschung nützlich ist, lässt sie sich aufgrund des hohen Arbeitsaufwands und der geringen Größe der erzeugten Graphenflocken nicht in großem Maßstab herstellen.

2. Bottom-Up-Ansatz - Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)

CVD ist derzeit die vielversprechendste Technik für die Synthese von hochwertigem Graphen in großem Maßstab.

Das Verfahren beinhaltet in der Regel die Zersetzung eines Kohlenwasserstoffgases (z. B. Methan) auf einer Metallkatalysatoroberfläche, z. B. Kupfer oder Nickel, bei hohen Temperaturen.

Die Kohlenstoffatome aus dem zersetzten Gas diffundieren dann in das Metall und scheiden sich beim Abkühlen als Graphen auf der Oberfläche ab.

2.1 Nickel-Substrat

Im Falle von Nickel können die Kohlenstoffatome durch die hohe Temperatur in das Nickel diffundieren.

Beim Abkühlen wandern diese Kohlenstoffatome an die Oberfläche und bilden Graphen.

Diese Methode ist effektiv, kann aber zur Bildung von mehrlagigem Graphen führen und erfordert eine genaue Steuerung der Abkühlungsrate, um die Qualität und Dicke der Graphenschicht zu optimieren.

2.2 Kupfersubstrat

Kupfer wird am häufigsten verwendet, da es die Bildung von einschichtigem Graphen begünstigt.

Das CVD-Verfahren, bei dem Kupfersubstrate verwendet werden, beinhaltet die Zersetzung von Methan auf der Kupferoberfläche, wobei sich die Kohlenstoffatome im Kupfer lösen und sich dann beim Abkühlen zu Graphen abscheiden.

Dieses von Li et al. im Jahr 2009 entwickelte Verfahren wurde für die großtechnische Herstellung von Graphenschichten industrialisiert.

3. Großflächige und Massenproduktion

Die CVD-Methode wurde durch Techniken wie das Batch-to-Batch- (B2B) und das Rolle-zu-Rolle-Verfahren (R2R) für die großflächige und massenhafte Produktion weiter optimiert.

Beim B2B-Verfahren werden Kupferfolien gestapelt oder gewalzt, um den Produktionsdurchsatz zu erhöhen.

Das R2R-Verfahren verbessert die Automatisierung und Skalierbarkeit und ermöglicht die Herstellung von Graphenfolien mit praktisch unbegrenzter Länge.

4. Anwendungen und Markt

Während bei der Top-Down-Methode in erster Linie Graphen-Pulver und -Nanopartikel hergestellt werden, die in verschiedenen nichtelektronischen Anwendungen zum Einsatz kommen, ist das CVD-gewachsene Graphen aufgrund seiner überlegenen Qualität und seines größeren Maßstabs eher auf elektronische Anwendungen ausgerichtet.

Es wird erwartet, dass der Markt für Graphen, insbesondere in Form von Pulvern und Nanopartikeln, beträchtlich wachsen wird, mit einem potenziellen Umsatz von mehr als 600 Millionen Dollar im nächsten Jahrzehnt.

5. Industrielle Relevanz der CVD

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die Synthese von Graphen sowohl Top-down- als auch Bottom-up-Methoden umfasst, wobei die CVD-Methode aufgrund ihrer Skalierbarkeit und der hohen Qualität des erzeugten Graphens die größte industrielle Bedeutung hat.

Diese Methode ist von entscheidender Bedeutung, um die wachsende Nachfrage nach Graphen in verschiedenen Hightech-Anwendungen zu decken.

Erforschen Sie weiter, konsultieren Sie unsere Experten

Entdecken Sie den neuesten Stand der Graphen-Synthese mit KINTEK SOLUTION, Ihrem führenden Laborausstatter.

Nutzen Sie die Leistungsfähigkeit unserer fortschrittlichen CVD-Technologie um das Potenzial großflächiger Graphenschichten zu erschließen, die ideal für industrielle Anwendungen sind.

Vertrauen Sie darauf, dass wir Ihnen die hochwertigen Substrate und modernsten Anlagen die Sie für die großtechnische Produktion benötigen.

Verbessern Sie Ihre Forschung und Innovation mit KINTEK SOLUTION - wo Präzision auf Leistung trifft.

Kontaktieren Sie uns noch heute und betreten Sie die Welt der unvergleichlichen Graphen-Lösungen!

Ähnliche Produkte

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung: Überlegene Wärmeleitfähigkeit, Kristallqualität und Haftung für Schneidwerkzeuge, Reibung und akustische Anwendungen

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Das Ziehwerkzeug für die Nano-Diamant-Verbundbeschichtung verwendet Sinterkarbid (WC-Co) als Substrat und nutzt die chemische Gasphasenmethode (kurz CVD-Methode), um die herkömmliche Diamant- und Nano-Diamant-Verbundbeschichtung auf die Oberfläche des Innenlochs der Form aufzubringen.

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen, eine maßgeschneiderte Lösung für Universitäten und Forschungseinrichtungen mit hoher Heizeffizienz, Benutzerfreundlichkeit und präziser Temperaturregelung.

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Eine Technologie, die hauptsächlich im Bereich der Leistungselektronik eingesetzt wird. Dabei handelt es sich um eine Graphitfolie, die durch Materialabscheidung mittels Elektronenstrahltechnologie aus Kohlenstoffquellenmaterial hergestellt wird.

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Isostatischer Kohlenstoffgraphit wird aus hochreinem Graphit gepresst. Es ist ein ausgezeichnetes Material für die Herstellung von Raketendüsen, Verzögerungsmaterialien und reflektierenden Graphitmaterialien für Reaktoren.

Ultrahochtemperatur-Graphitisierungsofen

Ultrahochtemperatur-Graphitisierungsofen

Der Ultrahochtemperatur-Graphitisierungsofen nutzt Mittelfrequenz-Induktionserwärmung in einer Vakuum- oder Inertgasumgebung. Die Induktionsspule erzeugt ein magnetisches Wechselfeld, das Wirbelströme im Graphittiegel induziert, der sich erwärmt und Wärme an das Werkstück abstrahlt, wodurch es auf die gewünschte Temperatur gebracht wird. Dieser Ofen wird hauptsächlich zum Graphitieren und Sintern von Kohlenstoffmaterialien, Kohlenstofffasermaterialien und anderen Verbundmaterialien verwendet.

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Der Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit hat eine gleichmäßige Temperatur, einen geringen Energieverbrauch und kann kontinuierlich betrieben werden.

Horizontaler Hochtemperatur-Graphitisierungsofen

Horizontaler Hochtemperatur-Graphitisierungsofen

Horizontaler Graphitisierungsofen: Bei diesem Ofentyp sind die Heizelemente horizontal angeordnet, was eine gleichmäßige Erwärmung der Probe ermöglicht. Es eignet sich gut zum Graphitisieren großer oder sperriger Proben, die eine präzise Temperaturkontrolle und Gleichmäßigkeit erfordern.

CVD-bordotierter Diamant

CVD-bordotierter Diamant

CVD-bordotierter Diamant: Ein vielseitiges Material, das maßgeschneiderte elektrische Leitfähigkeit, optische Transparenz und außergewöhnliche thermische Eigenschaften für Anwendungen in der Elektronik, Optik, Sensorik und Quantentechnologie ermöglicht.

CVD-Diamant für das Wärmemanagement

CVD-Diamant für das Wärmemanagement

CVD-Diamant für das Wärmemanagement: Hochwertiger Diamant mit einer Wärmeleitfähigkeit von bis zu 2000 W/mK, ideal für Wärmeverteiler, Laserdioden und GaN on Diamond (GOD)-Anwendungen.

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Informieren Sie sich über die MPCVD-Maschine mit zylindrischem Resonator, das Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma, das für die Herstellung von Diamantsteinen und -filmen in der Schmuck- und Halbleiterindustrie verwendet wird. Entdecken Sie die kosteneffektiven Vorteile gegenüber den traditionellen HPHT-Methoden.

Graphit-Verdampfungstiegel

Graphit-Verdampfungstiegel

Gefäße für Hochtemperaturanwendungen, bei denen Materialien zum Verdampfen bei extrem hohen Temperaturen gehalten werden, wodurch dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden können.

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.

Negativmaterial-Graphitisierungsofen

Negativmaterial-Graphitisierungsofen

Der Graphitisierungsofen für die Batterieproduktion hat eine gleichmäßige Temperatur und einen geringen Energieverbrauch. Graphitisierungsofen für negative Elektrodenmaterialien: eine effiziente Graphitisierungslösung für die Batterieproduktion und erweiterte Funktionen zur Verbesserung der Batterieleistung.

Kontinuierlicher Graphitierungsofen

Kontinuierlicher Graphitierungsofen

Der Hochtemperatur-Graphitisierungsofen ist eine professionelle Ausrüstung zur Graphitisierungsbehandlung von Kohlenstoffmaterialien. Es handelt sich um eine Schlüsselausrüstung für die Herstellung hochwertiger Graphitprodukte. Es verfügt über eine hohe Temperatur, einen hohen Wirkungsgrad und eine gleichmäßige Erwärmung. Es eignet sich für verschiedene Hochtemperaturbehandlungen und Graphitierungsbehandlungen. Es wird häufig in der Metallurgie-, Elektronik-, Luft- und Raumfahrtindustrie usw. eingesetzt.

Großer vertikaler Graphitisierungsofen

Großer vertikaler Graphitisierungsofen

Ein großer vertikaler Hochtemperatur-Graphitisierungsofen ist eine Art Industrieofen, der zur Graphitisierung von Kohlenstoffmaterialien wie Kohlenstofffasern und Ruß verwendet wird. Es handelt sich um einen Hochtemperaturofen, der Temperaturen von bis zu 3100°C erreichen kann.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht