Vergleicht man die chemische Gasphasenabscheidung bei niedrigem Druck (LPCVD) mit der chemischen Gasphasenabscheidung bei Atmosphärendruck (APCVD), so zeigt sich, dass LPCVD für viele Anwendungen die bessere Wahl ist.
4 Hauptvorteile der chemischen Niederdruck-Gasphasenabscheidung (LPCVD)
1. Niedrigere Betriebstemperaturen
Das LPCVD-Verfahren kann im Vergleich zum herkömmlichen CVD- oder APCVD-Verfahren bei niedrigeren Temperaturen betrieben werden.
Dies ist besonders vorteilhaft, wenn mit Materialien gearbeitet wird, die einen niedrigeren Schmelzpunkt haben, wie z. B. Aluminium.
Die Abscheidung von Aluminium bei niedrigeren Temperaturen verhindert das Risiko, dass bereits abgeschiedene Schichten schmelzen oder beschädigt werden.
Der Betrieb bei niedrigeren Temperaturen verringert auch die thermische Belastung des Substrats, was zu einer verbesserten Leistung und Zuverlässigkeit der Geräte führt.
2. Gleichmäßigere Abscheideraten
Bei der LPCVD wird der Druck reduziert, um eine gleichmäßigere Abscheidungsrate auf dem Substrat zu erreichen.
Der niedrigere Druck in der Beschichtungskammer, der durch den Einsatz einer Vakuumpumpe erreicht wird, verringert den mittleren freien Weg der Gasmoleküle.
Diese Verringerung der Gasphasenreaktionen führt zu einem kontrollierteren und gleichmäßigeren Abscheidungsprozess.
Die verbesserte Gleichmäßigkeit führt zu einer besseren Qualität und Konsistenz der Schichten.
Im Gegensatz dazu kann es beim APCVD-Verfahren, das bei Atmosphärendruck arbeitet, zu Ungleichmäßigkeiten kommen, die auf einen schnelleren Gasfluss und das Vorhandensein von Staub oder Partikeln zurückzuführen sind.
3. Verbesserte Filmqualität
Die kontrollierte Umgebung der LPCVD gewährleistet, dass die abgeschiedenen Schichten von höherer Qualität sind.
Dies ist entscheidend für Anwendungen, bei denen Präzision und Beständigkeit von größter Bedeutung sind.
4. Verbesserte Prozesskontrolle
Die LPCVD bietet aufgrund des geringeren Drucks und der niedrigeren Betriebstemperaturen eine bessere Prozesskontrolle.
Diese Kontrolle ist wichtig, um die gewünschten Schichteigenschaften und -dicken zu erreichen.
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