Der Hauptunterschied zwischen CVD- (Chemical Vapor Deposition) und PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition) liegt in der Beschaffenheit des Beschichtungsmaterials und dem verwendeten Abscheidungsmechanismus.
Beim CVD-Verfahren befindet sich das Beschichtungsmaterial in einem gasförmigen Zustand, und es findet eine chemische Reaktion auf der Oberfläche des Substrats statt. Diese chemische Reaktion unterscheidet CVD von PVD-Verfahren, bei denen in der Regel keine chemischen Reaktionen ablaufen. Die Abscheidung der CVD-Beschichtung erfolgt in einem fließenden gasförmigen Zustand, was zu einer diffusen und multidirektionalen Abscheidung führt. Dies bedeutet, dass die Beschichtung gleichmäßiger auf unebene Oberflächen aufgetragen werden kann.
Bei der PVD hingegen werden feste physikalische Partikel in ein Plasma verdampft, was eine Abscheidung auf Sichtweite bedeutet. Der Beschichtungsstoff liegt bei PVD in fester Form vor und wird in ein Gas umgewandelt, bevor er auf der Substratoberfläche kondensiert. PVD-Verfahren beinhalten keine chemischen Reaktionen wie CVD.
Ein weiterer Unterschied besteht darin, dass CVD-Verfahren im Vergleich zu PVD-Verfahren tendenziell mehr Ressourcen verbrauchen, wie Untersuchungen zum Energieverbrauch und zu den Materialströmen bei Hartbeschichtungsprozessen zeigen. Dieser höhere Verbrauch bei CVD ist auf die zusätzlichen Schritte bei der chemischen Reaktion und den fließenden gasförmigen Zustand des Beschichtungsmaterials zurückzuführen.
Was die Beschichtungsergebnisse angeht, so kann PVD an den Seiten und auf der Rückseite des beschichteten Substrats schlecht abschneiden, während die CVD-Technologie gleichmäßigere dünne Schichten auf unebenen Oberflächen erzeugt.
Sowohl CVD- als auch PVD-Verfahren werden zur Herstellung dünner Schichten auf einem Trägermaterial verwendet, unterscheiden sich aber durch die spezifischen Techniken und Mechanismen, die verwendet werden. Die Wahl zwischen CVD und PVD hängt von Faktoren wie Kosten, Benutzerfreundlichkeit und den gewünschten Beschichtungsergebnissen für eine bestimmte Anwendung ab.
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