Das Verständnis des Unterschieds zwischen CVD (Chemical Vapor Deposition) und Sputterbeschichtung kann für verschiedene Anwendungen entscheidend sein.
4 Hauptunterschiede zwischen CVD- und Sputter-Beschichtung erklärt
Prozessunterschiede
CVD ist ein Verfahren, bei dem eine chemische Reaktion auf der Oberfläche des Substratmaterials stattfindet.
Dabei wird die Beschichtung in einem fließenden gasförmigen Zustand abgeschieden.
Dies ermöglicht eine diffuse, multidirektionale Abscheidung.
Bei der Sputterbeschichtung, die auch als PVD (Physical Vapor Deposition) bezeichnet wird, werden feste physikalische Partikel in ein Plasma verdampft.
Dieses Plasma wird dann in einer Sichtlinie auf das Substratmaterial gerichtet.
Abgeschiedene Materialien
CVD-Beschichtungen können keramische Beschichtungen sein, die als harte Schichten gelten.
Diese Beschichtungen haben eine ausgezeichnete mechanische und chemische Beständigkeit.
Gesputterte Beschichtungen können für ein breites Spektrum von Anwendungen eingesetzt werden.
Sie können Metalle, Legierungen und andere Werkstoffe umfassen.
Eigenschaften der Beschichtungen
CVD-Beschichtungen sind bekannt für ihre unübertroffene mechanische und chemische Beständigkeit.
Sie sind ideal für Anwendungen, die hohe Verschleißfestigkeit und Korrosionsschutz erfordern.
Gesputterte Beschichtungen sind möglicherweise nicht so beständig.
Sie können anfälliger für Beschädigungen sein.
Allgemeiner Vergleich
Bei der CVD-Beschichtung handelt es sich um eine chemische Reaktion, die harte Schichten erzeugt.
Bei der Sputterbeschichtung handelt es sich um ein physikalisches Aufdampfverfahren, mit dem eine Vielzahl von Materialien abgeschieden werden kann.
Es kann jedoch zu weicheren Beschichtungen führen.
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