Wissen Was ist der Prozess der CVD-Metallherstellung? Die 5 wichtigsten Schritte werden erklärt
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Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 1 Monat

Was ist der Prozess der CVD-Metallherstellung? Die 5 wichtigsten Schritte werden erklärt

Beim CVD-Verfahren (Chemical Vapor Deposition) wird ein festes Material durch eine chemische Reaktion in der Dampfphase auf ein Substrat aufgebracht.

Diese Technik wird häufig für die Abscheidung von Dünnschichten und Beschichtungen in verschiedenen Industriezweigen, einschließlich der Elektronik und Optoelektronik, eingesetzt.

Was ist der Prozess der CVD-Metallabscheidung? Die 5 wichtigsten Schritte werden erklärt

Was ist der Prozess der CVD-Metallherstellung? Die 5 wichtigsten Schritte werden erklärt

1. Einführung von flüchtigen Vorläufern

Das CVD-Verfahren beginnt mit der Einführung eines oder mehrerer flüchtiger Ausgangsstoffe in eine Reaktionskammer.

Bei diesen Vorläufern handelt es sich in der Regel um Gase oder Dämpfe, die die zur Bildung des gewünschten Materials erforderlichen Elemente enthalten.

2. Chemische Reaktion auf dem Substrat

Die Ausgangsstoffe reagieren oder zersetzen sich auf der Oberfläche eines erhitzten Substrats.

Diese Reaktion führt zur Abscheidung eines dünnen Films oder einer Beschichtung aus dem gewünschten Material.

Das Substrat kann zur Erleichterung der Reaktion vorgeheizt werden, wobei die Temperatur häufig zwischen 900 und 1400 °C liegt.

3. Kontrolle der Abscheidungsparameter

Die Eigenschaften des abgeschiedenen Materials lassen sich durch die Einstellung verschiedener Parameter steuern.

Dazu gehören die Art des Substrats, die Substrattemperatur, die Zusammensetzung der Reaktionsgase sowie der Druck und die Durchflussrate der Gase.

4. Herstellung verschiedener Materialien

Mit CVD kann eine breite Palette von Materialien hergestellt werden.

Dazu gehören keramische Nanokomposit-Beschichtungen, Dielektrika, einkristallines Silizium, polymere Materialien und Metalle.

Sie wird auch zur Herstellung von Pigmenten und nanostrukturierten Pulvern wie TiO2, SiO2, Al2O3, Si3N4 und Ruß verwendet.

5. Anwendungen in der Werkstofftechnik

Neben der einfachen Abscheidung wird CVD auch in der Dehnungsmesstechnik eingesetzt, um die Leistung von Transistoren zu verbessern.

Sie wird auch bei der Herstellung von Halbleitern und anderen fortschrittlichen Werkstoffen eingesetzt.

CVD wird eingesetzt, um Defekte in Metallen und Legierungen auszugleichen und deren Korrosionsbeständigkeit und Verschleißeigenschaften durch Beschichtungen oder Wärmebehandlungen zu verbessern.

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