Die thermische Verdampfung ist eine Technik der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD), mit der dünne Schichten auf ein Substrat aufgebracht werden.
Bei dieser Methode wird ein Material in einer Hochvakuumumgebung erhitzt, bis es verdampft.
Dann kondensieren die verdampften Moleküle auf einem Substrat und bilden eine dünne Schicht.
Was ist die thermische Verdampfungsmethode der Abscheidung? (Die 4 wichtigsten Schritte werden erklärt)
1. Hochvakuum-Umgebung
Der Prozess beginnt in einer Vakuumkammer.
Dies ist wichtig, um Störungen durch Gaspartikel während der Abscheidung zu verhindern.
Das Vakuum wird durch eine Vakuumpumpe aufrechterhalten, die dafür sorgt, dass der Druck um das Ausgangsmaterial herum niedrig ist.
Dadurch wird die Effizienz der Verdampfung erhöht.
2. Erhitzen des Materials
Das abzuscheidende Material, das so genannte Verdampfungsmaterial, wird in einen Tiegel oder ein Schiffchen aus feuerfestem Material wie Wolfram oder Molybdän gegeben.
Dieser Behälter wird, in der Regel durch Joule-Erwärmung, auf eine Temperatur erhitzt, die hoch genug ist, um das Material zum Verdampfen zu bringen.
3. Dampftransport und Kondensation
Sobald das Material verdampft ist, wandern die Moleküle durch das Vakuum und erreichen das Substrat.
Beim Kontakt mit dem kühleren Substrat kondensiert der Dampf und bildet einen dünnen Film.
Dieser Vorgang kann wiederholt werden, um den Dünnfilm weiter wachsen zu lassen und seine Keimbildung zu fördern.
4. Vielseitigkeit
Die thermische Verdampfung ist ein vielseitiges Verfahren, mit dem eine breite Palette von Materialien abgeschieden werden kann, darunter Metalle wie Aluminium, Silber, Nickel und andere.
Diese Vielseitigkeit und die Einfachheit des Verfahrens machen die thermische Verdampfung zu einem beliebten Verfahren sowohl im Labor als auch in der Industrie.
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