Wissen Was ist das Ionenstrahl-Sputterverfahren?
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 1 Woche

Was ist das Ionenstrahl-Sputterverfahren?

Das Ionenstrahlsputtern (IBS) ist ein Verfahren zur Abscheidung von Dünnschichten, bei dem eine Ionenquelle verwendet wird, um ein Zielmaterial auf ein Substrat zu sputtern. Dieses Verfahren zeichnet sich durch seinen monoenergetischen und hochgradig kollimierten Ionenstrahl aus, der eine präzise Kontrolle des Schichtwachstums ermöglicht, was zu hochdichten und qualitativ hochwertigen Schichten führt.

Ausführliche Erläuterung:

  1. Merkmale des Ionenstrahls:

  2. Der in diesem Verfahren verwendete Ionenstrahl ist monoenergetisch, d. h. alle Ionen haben die gleiche Energie, und hochgradig kollimiert, so dass die Ionen mit hoher Präzision gelenkt werden. Diese Gleichmäßigkeit und Ausrichtung sind entscheidend für die Abscheidung dünner Schichten mit kontrollierten Eigenschaften.Prozess-Übersicht:

    • Beim Ionenstrahlsputtern wird der Ionenstrahl auf ein Zielmaterial fokussiert, in der Regel ein Metall oder Dielektrikum, das dann auf ein Substrat gesputtert wird. Das Substrat befindet sich in einer Vakuumkammer, die mit einem Inertgas, in der Regel Argon, gefüllt ist. Das Zielmaterial wird negativ geladen, wodurch es zu einer Kathode wird und freie Elektronen aus ihm herausfließen. Diese Elektronen kollidieren mit den Gasatomen und erleichtern so den Sputtering-Prozess.Vorteile:
    • Hohe Präzision: Das IBS ermöglicht eine sehr genaue Kontrolle der Dicke und Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen Schichten.
    • Erstklassige Qualität der Schichten: Die erzeugten Schichten sind sehr dicht und von hoher Qualität, so dass sie sich für anspruchsvolle Anwendungen eignen.
  3. Vielseitigkeit:

    • Das Verfahren kann mit einer Vielzahl von Materialien verwendet werden, was seine Anwendbarkeit in verschiedenen Branchen erweitert.Benachteiligungen:
    • Komplexität und Kosten: Die Ausrüstung und die Einrichtung für das IBS sind im Vergleich zu anderen Abscheidungsmethoden komplexer und kostspieliger.
  4. Begrenzter Durchsatz: Aufgrund der erforderlichen Präzision und Kontrolle ist das Verfahren im Vergleich zu einfacheren Methoden wie der Gleichstromzerstäubung möglicherweise nicht so schnell oder für die Produktion großer Mengen geeignet.

Anwendungen:

Ähnliche Produkte

Borcarbid (BC) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Borcarbid (BC) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie hochwertige Borcarbid-Materialien zu angemessenen Preisen für Ihren Laborbedarf. Wir passen BC-Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe an, darunter Sputtertargets, Beschichtungen, Pulver und mehr.

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Das Ziehwerkzeug für die Nano-Diamant-Verbundbeschichtung verwendet Sinterkarbid (WC-Co) als Substrat und nutzt die chemische Gasphasenmethode (kurz CVD-Methode), um die herkömmliche Diamant- und Nano-Diamant-Verbundbeschichtung auf die Oberfläche des Innenlochs der Form aufzubringen.

Bariumfluorid (BaF2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Bariumfluorid (BaF2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Kaufen Sie Materialien aus Bariumfluorid (BaF2) zu erschwinglichen Preisen. Mit einer Reihe von Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr passen wir uns Ihren Bedürfnissen an. Jetzt bestellen.

Bariumtitanat (BaTiO3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Bariumtitanat (BaTiO3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Entdecken Sie unser Sortiment an maßgeschneiderten Bariumtitanat (BaTiO3)-Materialien für den Laborgebrauch. Wir bieten eine vielfältige Auswahl an Spezifikationen und Größen für Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr. Kontaktieren Sie uns noch heute für günstige Preise und maßgeschneiderte Lösungen.

Indium(II)-Selenid (InSe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Indium(II)-Selenid (InSe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Indium(II)-Selenid-Materialien für Ihr Labor zu vernünftigen Preisen? Unsere maßgeschneiderten und anpassbaren InSe-Produkte sind in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Wählen Sie aus einer Reihe von Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.

Hochreines Indiumzinnoxid (ITO)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Indiumzinnoxid (ITO)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie hochwertige Indium-Zinn-Oxid (ITO)-Sputtertargets für Ihren Laborbedarf zu angemessenen Preisen. Unsere maßgeschneiderten Optionen in verschiedenen Formen und Größen gehen auf Ihre individuellen Anforderungen ein. Stöbern Sie noch heute in unserem Sortiment.

Hochreines Erbium (Er)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Erbium (Er)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Erbiummaterialien für Ihr Labor? Dann sind Sie bei unserer erschwinglichen Auswahl an maßgeschneiderten Erbium-Produkten genau richtig, die in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich sind. Kaufen Sie noch heute Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr!

Hochreines Iridium (Ir)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Iridium (Ir)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Iridium (Ir)-Materialien für den Laborgebrauch? Suchen Sie nicht weiter! Unsere fachmännisch hergestellten und maßgeschneiderten Materialien sind in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Schauen Sie sich unser Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr an. Holen Sie sich noch heute ein Angebot ein!

Hochreines Eisen (Fe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Eisen (Fe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach erschwinglichen Eisenmaterialien (Fe) für den Laborgebrauch? Unser Produktsortiment umfasst Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr in verschiedenen Spezifikationen und Größen, maßgeschneidert auf Ihre spezifischen Bedürfnisse. Kontaktiere uns heute!

Hochreines Bor (B)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Bor (B)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie erschwingliche Bor (B)-Materialien, die auf Ihre spezifischen Laboranforderungen zugeschnitten sind. Unsere Produkte reichen von Sputtertargets bis hin zu 3D-Druckpulvern, Zylindern, Partikeln und mehr. Kontaktiere uns heute.

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

Elektronenkanonenstrahltiegel

Elektronenkanonenstrahltiegel

Im Zusammenhang mit der Elektronenstrahlverdampfung ist ein Tiegel ein Behälter oder Quellenhalter, der dazu dient, das auf einem Substrat abzuscheidende Material aufzunehmen und zu verdampfen.

Hochreines Europium (Eu)-Sputtertarget/Pulver / Draht / Block / Granulat

Hochreines Europium (Eu)-Sputtertarget/Pulver / Draht / Block / Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Europium (Eu)-Materialien für Ihr Labor? Schauen Sie sich unsere erschwinglichen Optionen an, die mit verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen auf Ihre Bedürfnisse zugeschnitten sind. Wählen Sie aus einer Reihe von Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Elektronenstrahlverdampfungs-Graphittiegel

Eine Technologie, die hauptsächlich im Bereich der Leistungselektronik eingesetzt wird. Dabei handelt es sich um eine Graphitfolie, die durch Materialabscheidung mittels Elektronenstrahltechnologie aus Kohlenstoffquellenmaterial hergestellt wird.

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Zinn-Wismuth-Silber-Legierung (SnBiAg).

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Zinn-Wismuth-Silber-Legierung (SnBiAg).

Entdecken Sie unsere hochwertigen Zinn-Wismut-Silberlegierungsmaterialien zu günstigen Preisen. Wir bieten eine große Auswahl an maßgeschneiderten Formen und Größen für Ihre Laboranforderungen. Kaufen Sie noch heute Sputtertargets, Beschichtungen, Pulver und mehr.

Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung

Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung

Beim Einsatz von Elektronenstrahlverdampfungstechniken minimiert der Einsatz von sauerstofffreien Kupfertiegeln das Risiko einer Sauerstoffverunreinigung während des Verdampfungsprozesses.

Hochreines Wismut (Bi)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Wismut (Bi)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach Wismut (Bi)-Materialien? Wir bieten erschwingliche Materialien in Laborqualität in verschiedenen Formen, Größen und Reinheiten an, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Schauen Sie sich unsere Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien und mehr an!

Hochreines Ytterbium (Yb) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Ytterbium (Yb) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach Ytterbium (Yb)-Materialien für Ihr Labor? Unsere Expertise liegt in der Herstellung maßgeschneiderter Yb-Materialien in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen. Wählen Sie aus unserem breiten Spektrum an Spezifikationen und Größen, einschließlich Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr. Bezahlbare Preise.

Hochreines Wismutoxid (Bi2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Wismutoxid (Bi2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie hochwertige Wismutoxid-Materialien (Bi2O3) für den Laborgebrauch zu angemessenen Preisen. Wählen Sie aus einer großen Auswahl an Größen und Formen, um Ihren individuellen Bedürfnissen gerecht zu werden. Jetzt bestellen!

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Informieren Sie sich über die MPCVD-Maschine mit zylindrischem Resonator, das Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma, das für die Herstellung von Diamantsteinen und -filmen in der Schmuck- und Halbleiterindustrie verwendet wird. Entdecken Sie die kosteneffektiven Vorteile gegenüber den traditionellen HPHT-Methoden.

Vakuumrohr-Heißpressofen

Vakuumrohr-Heißpressofen

Reduzieren Sie den Formdruck und verkürzen Sie die Sinterzeit mit dem Vakuumrohr-Heißpressofen für hochdichte, feinkörnige Materialien. Ideal für refraktäre Metalle.

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Erhalten Sie hochwertige Diamantfilme mit unserer Bell-jar-Resonator-MPCVD-Maschine, die für Labor- und Diamantwachstum konzipiert ist. Entdecken Sie, wie die chemische Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma beim Züchten von Diamanten mithilfe von Kohlenstoffgas und Plasma funktioniert.

Vakuum-Induktionsschmelzofen Lichtbogenschmelzofen

Vakuum-Induktionsschmelzofen Lichtbogenschmelzofen

Mit unserem Vakuum-Induktionsschmelzofen erhalten Sie eine präzise Legierungszusammensetzung. Ideal für die Luft- und Raumfahrt, die Kernenergie und die Elektronikindustrie. Bestellen Sie jetzt für effektives Schmelzen und Gießen von Metallen und Legierungen.

Kaltisostatische Presse für die Produktion kleiner Werkstücke 400 MPa

Kaltisostatische Presse für die Produktion kleiner Werkstücke 400 MPa

Produzieren Sie mit unserer kaltisostatischen Presse gleichmäßig hochdichte Materialien. Ideal zum Verdichten kleiner Werkstücke im Produktionsumfeld. Weit verbreitet in der Pulvermetallurgie, Keramik und biopharmazeutischen Bereichen zur Hochdrucksterilisation und Proteinaktivierung.

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch

Isostatischer Kohlenstoffgraphit wird aus hochreinem Graphit gepresst. Es ist ein ausgezeichnetes Material für die Herstellung von Raketendüsen, Verzögerungsmaterialien und reflektierenden Graphitmaterialien für Reaktoren.

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit

Der Filmgraphitisierungsofen mit hoher Wärmeleitfähigkeit hat eine gleichmäßige Temperatur, einen geringen Energieverbrauch und kann kontinuierlich betrieben werden.

Hochtemperaturbeständige optische Quarzglasscheibe

Hochtemperaturbeständige optische Quarzglasscheibe

Entdecken Sie die Leistungsfähigkeit optischer Glasscheiben für die präzise Lichtmanipulation in der Telekommunikation, Astronomie und darüber hinaus. Erschließen Sie Fortschritte in der optischen Technologie mit außergewöhnlicher Klarheit und maßgeschneiderten Brechungseigenschaften.

Warmisostatische Presse (WIP) Workstation 300 MPa

Warmisostatische Presse (WIP) Workstation 300 MPa

Entdecken Sie Warmisostatisches Pressen (WIP) – eine hochmoderne Technologie, die einen gleichmäßigen Druck ermöglicht, um pulverförmige Produkte bei einer präzisen Temperatur zu formen und zu pressen. Ideal für komplexe Teile und Komponenten in der Fertigung.

Vakuum-Laminierpresse

Vakuum-Laminierpresse

Erleben Sie sauberes und präzises Laminieren mit der Vakuum-Laminierpresse. Perfekt für Wafer-Bonding, Dünnschichttransformationen und LCP-Laminierung. Jetzt bestellen!

Elektrische Kaltisostatische Laborpresse (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Elektrische Kaltisostatische Laborpresse (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Produzieren Sie dichte, gleichmäßige Teile mit verbesserten mechanischen Eigenschaften mit unserer Electric Lab Cold Isostatic Press. Weit verbreitet in der Materialforschung, Pharmazie und Elektronikindustrie. Effizient, kompakt und vakuumtauglich.

Graphit-Verdampfungstiegel

Graphit-Verdampfungstiegel

Gefäße für Hochtemperaturanwendungen, bei denen Materialien zum Verdampfen bei extrem hohen Temperaturen gehalten werden, wodurch dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden können.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht