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Erfahren Sie, wie die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) durch ein vakuumgestütztes Verfahren haltbare, dünne Beschichtungen für Luft- und Raumfahrt-, Optik- und Werkzeuganwendungen erzeugt.
Erfahren Sie, wie die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) haltbare, dünne Schichten in einem Vakuum erzeugt, um die Materialleistung und den Schutz zu verbessern.
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Die PVD-Abscheiderate ist nicht festgelegt. Erfahren Sie, wie Faktoren wie Methode, Material und Prozessparameter die Geschwindigkeit im Verhältnis zur Qualität für Ihre Anwendung steuern.
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Sputtern ist eine Methode der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) zur Herstellung dünner, gleichmäßiger und reiner Beschichtungen auf Substraten. Erfahren Sie, wie es funktioniert und welche Anwendungen es hat.
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Entdecken Sie, wie die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) in einem Vakuumprozess harte, dauerhafte Dünnschichten für Luft- und Raumfahrt, Werkzeuge und Halbleiter erzeugt.
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Erfahren Sie mehr über Vollglühen, Rekristallisationsglühen, Spannungsarmglühen und Spheroïdisieren. Wählen Sie die richtige Wärmebehandlung für die Eigenschaften Ihres Materials.
Die PVD-Temperatur ist nicht festgelegt. Sie reicht von nahezu Raumtemperatur bis über 1000°C, abhängig von der Technik, den Materialien und den gewünschten Filmeigenschaften.
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